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基于双栅极的GaN电子迁移率晶体管结构和制备方法
本发明公开了基于双栅极的GaN电子迁移率晶体管结构和制备方法。所述晶体管结构从下到上包括衬底、成核层、缓冲层、沟道层、势垒层和介质层。介质层的两侧分别设有源极沟槽和漏极沟槽,源极沟槽和漏极沟槽之间的位置设有栅极结构。所...
王颖谢豪杰刘军于成浩
一种压横向GaN电子迁移率晶体管
本发明公开了一种压横向GaN电子迁移率晶体管,包括从下至上依次设置的衬底层、GaN缓冲层、非故意掺杂的GaN沟道层、AlGaN势垒层、电场优化辅助层和绝缘介质层,所述AlGaN势垒层的左右两侧分别设有源极和漏极,所述...
邓华鲜
AlGaN/GaN电子迁移率晶体管的特性研究
李月华
一种超晶格栅极的GaN电子迁移率晶体管
本发明公开了一种超晶格栅极的GaN电子迁移率晶体管,包括GaN HEMT完整外延结构以及在GaN HEMT完整外延结构上制备的源漏金属、源漏保护SiN介质及栅极;所述GaN HEMT完整外延结构自下而上包括:衬底、成核...
吴少兵张亦斌王溯源于永洲章军云
用于GaN电子迁移率晶体管的应力理层
一种电子迁移率晶体管22包括具有第一晶格常数的成核层14、具有第二晶格常数的后阻挡层24以及具有第三晶格常数的应力理层26,第三晶格常数大于第一晶格常数和第二晶格常数两者。应力理层26补偿由于成核层14和后阻挡层2...
F·凯斯C-K·考O·拉博廷
一种增强型GaN电子迁移率晶体管及其制备方法
本发明提供一种增强型GaN电子迁移率晶体管及其制备方法,上述GaN基电子迁移率晶体管包括衬底、缓冲层、碳掺杂C‑GaN层、GaN基异质结、绝缘介质层、源极及漏极;缓冲层设于衬底上;碳掺杂C‑GaN层设于缓冲层上,碳掺...
潘磊 李成果 柳俊
一种增强型GaN电子迁移率晶体管及其制备方法
本发明提供一种增强型GaN电子迁移率晶体管及其制备方法,上述GaN基电子迁移率晶体管包括衬底、缓冲层、碳掺杂C‑GaN层、GaN基异质结、绝缘介质层、源极及漏极;缓冲层设于衬底上;碳掺杂C‑GaN层设于缓冲层上,碳掺...
潘磊 李成果 柳俊
InAlN/GaN电子迁移率晶体管电学性能的方法
本发明涉及提InAlN/GaN电子迁移率晶体管电学性能的方法,该方法在不改变器件结构和材料组分的情况下,通过使用双(三氟甲烷)磺酰亚胺对已经制备完成的InAlN/GaN电子迁移率晶体管进行表面处理,即在空气环境下将...
崔鹏陈思衡林兆军韩吉胜徐现刚
一种GaN电子迁移率晶体管结构及制作方法
本发明提供一种GaN电子迁移率晶体管结构,包括异质衬底和设置在所述异质衬底上方的AlN薄层,所述AlN薄层上方依次设有GaN阻层、GaN迁层、AlN插入层、AlGaN势垒层和GaN盖帽层,本发明还提供一种GaN电...
刘新宇殷海波海宇李素文王鑫华王大海李敏
一种GaN电子迁移率晶体管的动态导通电阻测试电路
本发明属于功半导体技术领域,涉及一种GaN电子迁移率晶体管的动态导通电阻测试电路。本发明的电路包括UIS测试电路、DPT测试电路、钳位电路、驱动电路,特点是两个半导体开关可以选通UIS测试电路和DPT测试电路,可以在...
孙瑞泽马云飞潘慈袁文瀚吴仁杰陈兴欢陈万军张波

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陈堂胜
作品数:421被引量:344H指数:9
供职机构:中国电子科技集团公司第五十五研究所
研究主题:高电子迁移率晶体管 氮化镓 砷化镓 GAN ALGAN/GAN_HEMT
孔月婵
作品数:218被引量:140H指数:6
供职机构:南京电子器件研究所
研究主题:金刚石 衬底 键合 二维电子气 氮化镓
薛军帅
作品数:68被引量:13H指数:2
供职机构:西安电子科技大学
研究主题:欧姆接触 绝缘栅 高电子迁移率晶体管 共振隧穿二极管 势垒层
刘芳
作品数:847被引量:9H指数:1
供职机构:西安电子科技大学
研究主题:SAR图像 极化SAR 图像 网络 自然图像
李媛
作品数:40被引量:81H指数:6
供职机构:华南理工大学
研究主题:衬底 INGAN/GAN 酶解 GAN高电子迁移率晶体管 高电子迁移率晶体管