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国家高技术研究发展计划(804-9-2)

作品数：2 被引量：42H指数：2
相关作者：洪义麟徐向东傅绍军王占山付绍军更多>>
相关机构：中国科学技术大学同济大学更多>>
发文基金：国家高技术研究发展计划中国科学院知识创新工程国家自然科学基金更多>>
相关领域：理学机械工程电子电信更多>>

文献类型

  • 2篇中文期刊文章

领域

  • 1篇机械工程
  • 1篇电子电信
  • 1篇理学

主题

  • 2篇衍射
  • 2篇光学
  • 1篇衍射光学
  • 1篇衍射光学元件
  • 1篇衍射光栅
  • 1篇涂胶
  • 1篇全息
  • 1篇全息光刻
  • 1篇全息光学
  • 1篇全息光栅
  • 1篇离子束
  • 1篇离子束刻蚀
  • 1篇刻蚀
  • 1篇基片
  • 1篇光学元件
  • 1篇光栅

机构

  • 2篇中国科学技术...
  • 1篇同济大学

作者

  • 2篇徐向东
  • 2篇洪义麟
  • 1篇王占山
  • 1篇邱克强
  • 1篇傅绍军
  • 1篇刘颖
  • 1篇付绍军

传媒

  • 1篇物理
  • 1篇微细加工技术

年份

  • 1篇2007
  • 1篇2004
共 2 条 记 录，以下是 1-2
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排序方式：
衍射光学元件制作中的基片涂胶方法被引量：9
2007年
在基片上涂布一层厚度均匀的光刻胶层,是衍射光学元件制作中的一个重要步骤。介绍了目前用于衍射光学元件制作的两种主要涂胶方法———提拉法和旋转法,分析了这两种方法的特点和影响胶层厚度的主要因素,尤其是对其均匀性的影响,并提出了获得均匀胶厚的途径。对于提拉涂胶,选择粘度较高的光刻胶溶液与合适的提拉速度将有助于减小Marangoni流动和Van derWaals力对膜厚均匀性的影响;对于旋转涂胶,可以通过密封基片所在空间,或者通过气流控制器使基片上方空气流动处于层流状态来获得均匀一致的溶剂挥发速率,从而提高胶层的均匀性。
邱克强徐向东洪义麟刘颖付绍军
关键词：衍射光学元件
全息离子束刻蚀衍射光栅被引量：33
2004年
全息离子束刻蚀衍射光栅集中了机械刻划光栅的高效率和全息光栅的无鬼线、低杂散光、高信噪比的优点 .全息离子束刻蚀已作为常规工艺手段应用于真空紫外及软X射线衍射光栅的制作 .文章对全息离子束刻蚀衍射光栅的制作方法、主要类型。
徐向东洪义麟傅绍军王占山
关键词：衍射光栅全息光刻离子束刻蚀全息光学全息光栅
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