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国家自然科学基金(10572124)

作品数:2 被引量:0H指数:0
相关作者:郑学军杨锋唐俊雄张俊杰周益春更多>>
相关机构:湘潭大学更多>>
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相关领域:电子电信更多>>

文献类型

  • 2篇中文期刊文章

领域

  • 2篇电子电信

主题

  • 2篇MOSFET...
  • 1篇电势
  • 1篇电势分布
  • 1篇英文
  • 1篇全耗尽
  • 1篇全耗尽SOI
  • 1篇阈值电压
  • 1篇温度模型
  • 1篇击穿电压
  • 1篇沟道

机构

  • 2篇湘潭大学

作者

  • 2篇唐明华
  • 2篇周益春
  • 2篇张俊杰
  • 2篇唐俊雄
  • 2篇杨锋
  • 2篇郑学军

传媒

  • 2篇Journa...

年份

  • 2篇2008
2 条 记 录,以下是 1-2
排序方式:
全耗尽SOI MOSFETs阈值电压和电势分布的温度模型(英文)
2008年
提出了一个全耗尽SOIMOSFETs器件阈值电压和电势分布的温度模型.基于近似的抛物线电势分布模型,利用适当的边界条件对二维的泊松方程进行求解.同时利用阈值电压的定义得到了阈值电压的模型.该温度模型详细地研究了电势分布和阈值电压跟温度之间的变化关系,同时还近似地探讨了短沟道效应.为了进一步验证模型的正确性,利用SILVACOATAS软件进行了相应的模拟.结果表明,模型计算与软件模拟吻合较好.
唐俊雄唐明华杨锋张俊杰周益春郑学军
关键词:全耗尽SOIMOSFETS电势阈值电压
部分耗尽SOI MOSFETs中沟道的非对称掺杂效应(英文)
2008年
利用二维模拟软件对部分耗尽SOI器件中的非对称掺杂沟道效应进行了模拟.详细地研究了该结构器件的电学性能,如输出特性,击穿特性.通过本文模拟发现部分耗尽SOI非对称掺杂沟道相比传统的部分耗尽SOI ,能抑制浮体效应,改善器件的击穿特性.同时跟已有的全耗尽SOI非对称掺杂器件相比,部分耗尽器件性能随参数变化,在工业应用上具有可预见性和可操作性.因为全耗尽器件具有非常薄的硅膜,而这将引起如前栅极跟背栅极的耦合效应和热电子退化等寄生效应.
唐俊雄唐明华杨锋张俊杰周益春郑学军
关键词:MOSFETS击穿电压
共1页<1>
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