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天津市自然科学基金(06YFJZJC00100)

作品数:13 被引量:19H指数:3
相关作者:陈希明付长凤韩连福李化鹏李杰更多>>
相关机构:天津理工大学东北石油大学天津电子信息职业技术学院更多>>
发文基金:天津市自然科学基金黑龙江省留学归国人员基金天津市高等学校科技发展基金计划项目更多>>
相关领域:电子电信理学更多>>

文献类型

  • 13篇期刊文章
  • 1篇会议论文

领域

  • 9篇电子电信
  • 5篇理学
  • 1篇一般工业技术

主题

  • 11篇溅射
  • 10篇磁控
  • 8篇磁控溅射
  • 5篇溅射法
  • 5篇磁控溅射法
  • 5篇ZNO薄膜
  • 3篇导体
  • 3篇射频磁控
  • 3篇稀磁半导体
  • 3篇半导体
  • 3篇CR
  • 3篇磁性
  • 2篇射频磁控溅射
  • 2篇金刚石
  • 2篇光学
  • 2篇反应溅射
  • 2篇刚石
  • 2篇XO
  • 2篇ZN
  • 2篇ZNO薄膜结...

机构

  • 11篇天津理工大学
  • 2篇东北石油大学
  • 1篇天津大学
  • 1篇天津电子信息...

作者

  • 11篇陈希明
  • 4篇付长凤
  • 3篇李化鹏
  • 3篇韩连福
  • 3篇李杰
  • 2篇朱珊珊
  • 2篇吴小国
  • 2篇张俊萍
  • 2篇陈霞
  • 2篇于春花
  • 2篇李伟
  • 1篇肖琦
  • 1篇杨保和
  • 1篇孙大智
  • 1篇吴晓国
  • 1篇程强
  • 1篇刘超
  • 1篇王颖蕾
  • 1篇卢勤

传媒

  • 10篇天津理工大学...
  • 2篇Optoel...
  • 1篇材料导报

年份

  • 4篇2010
  • 5篇2009
  • 3篇2008
  • 2篇2007
13 条 记 录,以下是 1-10
排序方式:
Cr掺杂ZnO薄膜的制备及磁性机制研究被引量:1
2009年
采用磁控交替溅射方法以及真空退火处理制备了Zn1-xCrxO薄膜,采用X射线衍射、X射线光电子能谱、物理性质测量仪对样品的结构、表面形态以及磁学性质进行了测试与分析.测试结果表明所有掺杂样品在室温下均具有微弱的铁磁性,并初步给出了其磁性机制.
李杰朱珊珊陈希明程强付长凤
关键词:稀磁半导体氧化锌磁控溅射法
磁控共溅射法制备Zn_(1-x)Cr_xO薄膜及其结构性能
2010年
本文采用磁控共溅射方法在玻璃衬底上制备了Cr掺杂ZnO薄膜,通过改变Cr溅射功率,从而改变Cr的掺杂量.介绍了Zn1-xCrxO薄膜的制备方法,分别用X射线衍射(XRD)和X射线光电子能谱(XPS)对不同Cr溅射功率的一系列薄膜的结构,成份、元素含量及价态等性能进行了分析.结果表明,Cr溅射功率为20 W的样品,具有最好的c轴择优取向,Cr以+3价形式掺入薄膜中,Cr3+替代了部分Zn2+.
朱珊珊陈希明肖琦吴小国
关键词:磁控共溅射
Effects of the Cr doping on structure and optical properties of ZnO thin films被引量:5
2010年
Cr-doped ZnO thin films are prepared on glass substrates by the magnetron sputtering technique. An X-ray diffraction (XRD) is used to analyze the structural properties of the thin films. It indicates that all the thin films have a preferential c-axis orientation. The peak position of the (002) plane shifts to the higher 2θ value, and the peak intensity decreases with the increase of Cr doping. The results of the scanning electron microscopy (SEM) show that the surface morphology becomes loose with the increase of Cr doping. Besides, it is found from the photoluminescence (PL) measurement at room temperature that the ultraviolet emission peak and green emission band are located at 375 nm and 520 nm, respectively, and both intensities of them decrease with the increase of the Cr doping concentration, while the band gap of the ultraviolet emission shifts to the lower wavelength. The experimental results confirm that the optimal Cr doping concentration is 2 at. %.
付长凤陈希明李岚韩连福吴小国
关键词:ZNO薄膜结构特性光学特性扫描电子显微镜磁控溅射技术
反应溅射外延Fe3O4薄膜的各向异性磁电阻
近年来FeO由于其半金属特性而备受关注。本文采用对向靶反应溅射法在MgO基底上制备了外延FeO薄膜,并对其磁各向异性和各向异性磁电阻进行了研究。X射线衍射和断面高分辨透射电镜的结果均表明沉积的FeO为具有尖晶石结构的外延...
李鹏张乐陶米文博白海力
文献传递
衬底温度对射频磁控溅射制备ZnO薄膜结构的影响被引量:2
2008年
采用射频磁控溅射法在玻璃衬底上制备ZnO薄膜.用X射线衍射仪(XRD)、扫描电镜(SEM)对不同衬底温度下制备薄膜的相结构和表面形貌进行分析.结果表明,在衬底温度为400℃时制备的ZnO薄膜表面光滑,晶粒尺寸均匀,结构致密,且沿c轴择优生长.
付长凤陈希明韩连福
关键词:ZNO薄膜射频磁控溅射衬底温度
Cr掺杂ZnO薄膜晶体结构及光学性能的研究被引量:4
2010年
采用磁控溅射法在载玻片上制备了不同Cr掺杂浓度的ZnO薄膜,并对其紫外发光性能做了初步研究。XRD结果表明,所制备的样品具有纤锌矿结构,呈c轴择优取向生长;透射谱表明,改变Cr掺杂浓度可以使ZnO薄膜的吸收边向短波方向移动,并且薄膜的禁带宽度连续可调;光致发光(PL)谱表明,所有样品的PL谱由发光中心位于370nm的紫外发光峰组成,且该峰的峰位蓝移,与吸收边缘移动的结果吻合。2.0%(原子分数,下同)的Cr掺杂可以提高ZnO的紫外发光强度,而过量的Cr掺杂反而会降低其紫外发光强度。
付长凤韩连福刘超陈希明
关键词:CR掺杂ZNO薄膜蓝移磁控溅射法
Fluorescent emission characteristics of polycrystalline diamond film prepared by direct current jet CVD
2009年
The free-standing diamond films are deposited on molybdenum substrate by direct current jet chemical vapor deposition (DCJCVD). X-ray diffraction,Raman spectroscopy and cathodoluminescence (CL) measurement are used to investigate the films structure and defects related to electron transition properties of the diamond films. The X-ray diffraction spectrum reveals that the diamond films have the polycrystalline cubic structure with diffraction peaks at 43.88o and 75.24o. A sharp peak at 1331.8 cm-1 and a broad band at about 1250-1550 cm-1 from Raman spectrum are attributed to diamond phase and sp2-type carbons,respectively. Two emission peaks at 440 nm and 530 nm,associated with dislocation defects and nitrogen and vacancy complexes respectively,are observed in cathodoluminescence spectrum. In addition,in order to understand both emission processes,a simple energy level scheme is suggested.
王兰芳陈希明张忠朋庄晋艳李岚
关键词:金刚石薄膜多晶金刚石X射线衍射
沉积工艺参数对AlN薄膜择优取向影响的实验研究
2009年
采用射频磁控溅射法,以高纯Al(99.999%)为靶材,高纯N2为反应气体,在硅及金刚石上制备了氮化铝(AlN)薄膜.研究了氩气氮气比例、溅射气压等工艺参数对AlN膜沉积的影响规律.结果表明,随着氮气比例的增大AlN(002)取向明显增强.溅射气压低有利于以AIN(002)面择优取向.
卢勤李化鹏陈希明
关键词:磁控溅射氮化铝薄膜金刚石
衬底温度对Cr掺杂ZnO薄膜结构和透过率的影响
2009年
采用磁控溅射法在载玻片上制备了具有c轴高择优取向的Cr掺杂ZnO薄膜,利用X射线衍射仪(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)和紫外-可见分光光度计(UV-Vis)研究了衬底温度对Cr掺杂ZnO薄膜结构及光学透射特性的影响.结果表明,在衬底温度为400℃时制备的Zn0.98Cr0.02O薄膜具有最好的结晶质量;衬底温度对薄膜的吸收边基本没有影响,但衬底温度为400℃时薄膜具有较高的透过率,其原因是在该条件下薄膜具有较好的结晶质量.
付长凤陈希明李伟韩连福吴小国
关键词:衬底温度透过率
磁控溅射法制备的不同浓度Cr掺杂ZnO薄膜磁性研究
2010年
采用磁控溅射法在硅片上制备Cr掺杂ZnO薄膜材料,通过控制共溅时间来控制掺杂浓度.晶体结构分析表明所有样品均为ZnO纤锌矿结构,没有观测到其他杂相峰.Cr掺杂ZnO薄膜具有c轴择优取向.磁性测试结果表明,不同浓度Cr掺杂ZnO薄膜具有室温铁磁性.掺杂浓度1%薄膜磁性最强,室温饱和磁化强度为0.53μB/Cr.随着掺杂浓度增大,样品磁性减弱,主要是由于掺杂浓度增大反铁磁交换作用增强.
王颖蕾陈希明李伟吴晓国
关键词:磁控溅射法ZNO薄膜室温铁磁性
共2页<12>
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