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四川省科技厅科技支撑计划项目(2013FZ0034)

作品数:2 被引量:13H指数:1
相关作者:陈金伟田晶王瑞林王刚刘效疆更多>>
相关机构:四川大学中国工程物理研究院电子工程研究所更多>>
发文基金:四川省科技厅科技支撑计划项目国家教育部博士点基金成都市科技攻关计划项目更多>>
相关领域:理学更多>>

文献类型

  • 2篇中文期刊文章

领域

  • 2篇理学

主题

  • 1篇电池
  • 1篇电解液
  • 1篇氧化还原液流...
  • 1篇液流电池
  • 1篇直流磁控
  • 1篇直流磁控溅射
  • 1篇全钒氧化还原...
  • 1篇稳定性
  • 1篇离子
  • 1篇溅射
  • 1篇厚度
  • 1篇钒离子
  • 1篇钒氧化还原液...
  • 1篇背接触
  • 1篇CIGS
  • 1篇MO薄膜
  • 1篇磁控
  • 1篇磁控溅射
  • 1篇X

机构

  • 2篇四川大学
  • 1篇中国工程物理...

作者

  • 2篇王瑞林
  • 2篇田晶
  • 2篇陈金伟
  • 1篇汪雪芹
  • 1篇刘尚军
  • 1篇刘效疆
  • 1篇练晓娟
  • 1篇杨鑫
  • 1篇王刚

传媒

  • 1篇物理学报
  • 1篇化学进展

年份

  • 2篇2013
2 条 记 录,以下是 1-2
排序方式:
全钒氧化还原液流电池电解液被引量:12
2013年
近年来,全钒氧化还原液流电池(VRFB)作为一种新型的储能电池备受关注。作为VRFB的核心材料,电解液的制备及优化一直都是研究的热点。高浓度和高稳定性电解液的制备是钒电池的关键技术之一。电解液性能的提高有助于加速VRFB的商业化进程。本文综述了VRFB电解液的研究进展,重点介绍了电解液的制备方法和影响电解液稳定性的因素,简述了电解液中钒离子浓度的分析方法和钒离子的存在形式,最后对电解液的进一步研究和应用前景进行了展望。
王刚陈金伟汪雪芹田晶刘效疆王瑞林
关键词:全钒氧化还原液流电池电解液稳定性
直流磁控溅射厚度对Cu(In_x,Ga_(1-x))Se_2背接触Mo薄膜性能的影响被引量:1
2013年
采用直流磁控溅射工艺,在一定条件下通过控制溅射时间,在钠钙玻璃上制备了不同厚度的用于Cu(Inx,Ga1-x)Se2薄膜太阳电池背接触材料的Mo薄膜,并利用X射线衍射(XRD)、场发射扫描电子显微镜(SEM)、四探针测试仪、台阶仪研究了厚度对溅射时间、薄膜微结构、电学性能及力学性能的交互影响.Mo薄膜的厚度与溅射时间呈线性递增关系;随厚度的增大,Mo薄膜(110)和(211)面峰强均逐渐增大,择优生长从(110)方向逐渐向(211)方向转变,方块电阻值只随(110)方向上的生长而急剧减小直到一特定值约2/,电导率随薄膜的(110)择优取向程度的降低而线性减小直到一特定值约0.96×10-4Ω·cm;Mo薄膜内部是一种多孔的长形簇状颗粒和颗粒间隙交织的结构,并处于拉应力态,其内部应变随薄膜厚度的增大而减小.
田晶杨鑫刘尚军练晓娟陈金伟王瑞林
关键词:MO薄膜厚度
共1页<1>
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