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TbCo非晶薄膜垂直各向异性的磁偶极模型分析: 2007年; 根据稀土—过渡金属薄膜中原子磁矩的亚铁磁结构排列,建立TbCo非晶垂直磁化膜磁各向异性的磁偶极模型,依此计算TbCo非晶垂直磁化膜磁各向异性能Ku值随温度的变化.与实验测量结果比较,稀土原子、过渡金属原子以及稀土—过渡金属原子之间的磁偶极相互作用,只是TbCo薄膜存在垂直磁各向异性的次要部分.; 章平黄致新; 关键词：垂直磁各向异性

Cu底层对SmCo薄膜磁性能的影响被引量：1: 2007年; 通过多靶射频磁控溅射系统在玻璃基片上制备了SmCo/Cu磁性薄膜.采用控制变量法优化了磁性层溅射工艺参数,制备出了矫顽力高达2400 Oe的溅射态SmCo面内磁化膜;通过控制溅射Cu底层时的基片温度,薄膜磁化方向有从面内向垂直方向转变的趋势,并制备出矫顽力达到6215 Oe的垂直面内方向的SmCo/Cu薄膜;利用扫描隧道显微镜(STM)分析SmCo薄膜在不同温度下的表面形貌发现,150℃时薄膜的晶粒尺寸较小有利于改善薄膜磁性能.; 张峰黄致新胡曾崔增丽董凯峰杨晓非; 关键词：磁控溅射矫顽力

薄膜垂直磁化的理论形成机理被引量：1: 2007年; 要形成垂直磁化膜,必须要有足够强的垂直磁各向异性能,使得由于磁化而产生的退磁场能量不足以让磁化矢量位于膜面内。在垂直磁记录情形下,针对垂直磁各向异性常数Ku、磁化矢量M与外加磁场Hext成θ角的情况进行了理论分析。在满足磁化矢量与外加磁场方向之间的夹角稳定的平衡条件和稳定性条件的基础上,分析得知:只有满足磁各向异性常数Kn大2πM这一关系的物质才可能形成垂直磁化膜。; 郭继花黄致新张峰崔增丽

Sm取代Tb(Dy)对RE-TM薄膜磁光性能的影响: 2007年; 采用磁控溅射复合靶的方法制备了SmTbCo/Cr和SmDyCo/Cr非晶垂直磁化膜,分析了Sm含量对SmTbCo/Cr和SmDyCo/Cr薄膜磁光性能的影响.结果表明：随着Sm含量的增加,（SmxTb1-x）31 Co69和（SmxDy1-x）36 Co64薄膜的剩余磁化强度Ms、克尔旋转角θk和反射系数R增加,而Hc随之减少;Sm含量为29%～30%时,Hc×Ms最大.; 章平黄致新张玉龙王辉张峰; 关键词：磁控溅射磁光性能

溅射工艺及底层对SmCo薄膜磁性能的影响被引量：2: 2007年; 用多靶射频磁控溅射系统在玻璃基片上制备了SmCo磁性薄膜。并采用控制变量法研究了溅射功率、溅射时间以及溅射气压等工艺参数对薄膜磁性能的影响。结果发现，当磁性层溅射功率为60W,溅射气压为0.5Pa，溅射时间为8min；底层溅射功率为125W，溅射气压为0．5Pa，溅射时间为4min时，薄膜的矫顽力高达2．79×10^5。底层对SmCo薄膜的磁性能也有影响，振动样品磁强计测量结果表明：相比Cr、Ti底层，以Cu作为底层所得到的SmCo薄膜磁性能更好，薄膜矫顽力分别比用Cr、Ti作底层时高出56％，40％。; 张峰黄致新王辉吴斌杨晓非程伟明; 关键词：磁控溅射控制变量法矫顽力

制备工艺及参数对TbCo薄膜垂直磁各向异性能的影响被引量：3: 2007年; 采用射频磁控溅射法制备了TbCo非晶垂直磁化膜,并就制备工艺及参数对其磁各向异性能的影响进行了研究。结果表明:磁性层组分、溅射气压、基片偏压以及后退火温度对TbCo非晶垂直磁化膜的磁各向异性能都有不同程度的影响。当Tb含量为30%左右,或溅射气压为0.53Pa时,TbCo薄膜的磁各向异性能Ku会呈现极大值。基片偏压超过–60V以后,TbCo薄膜Ku值开始显著上升,但超过–120V以后,Ku值开始趋向饱和。200℃以上真空退火会使TbCo薄膜磁各向异性能Ku值明显下降。产生这些现象的原因与薄膜微观结构的改变有关。; 黄致新章平张玉龙王辉吴斌张锋李佐宜; 关键词：磁各向异性磁控溅射工艺参数

溅射功率对氮化铜薄膜结构及其性能的影响: 2008年; 采用反应射频磁控溅射方法,在氮气和氩气混合气氛下并在玻璃基底上成功制备出了纳米氮化铜(Cu3N)薄膜,并研究了溅射功率对Cu3N薄膜的择优取向、平均晶粒尺寸、电阻率、光学能隙的影响.XRD显示溅射功率对氮化铜薄膜的择优取向影响很大,在低功率时薄膜择优[111]方向,在较高功率时薄膜择优[100]方向.紫外可见光谱、四探针电阻仪等测试表明:当溅射功率从80 W逐渐增加到120 W时,薄膜的光学能隙从1.85 eV减小到1.41 eV,电阻率从1.45×102Ωcm增加到2.99×103Ωcm.; 刘敏崔增丽黄致新郭继花张峰; 关键词：溅射功率

Effect of chromium interlayer on magnetic exchange coupling of SmCo/Cr/TbFeCo multilayer thin films被引量：2: 2008年; A series of SmCo/Cr/TbFeCo multilayer thin films with perpendicular anisotropy were prepared by RF- magnetron sputtering system, and the effects of Cr interlayer thickness on magnetic properties and interlayer exchange coupling were investigated. It was found that the magnetic properties varied with the thickness of Cr interlayer, especially the values of saturation magnetization Ms and the coercivity Hc fluctuated periodically with the thickness of Cr interlayer. STM images revealed that the variation of coercivity Hc was attributed to the microstructure change of SmCo layer influenced by Cr interlayer, and the variation of Ms was related to interlayer exchange coupling.; 张峰黄致新兰智高崔增丽郭继花程伟明杨晓非; 关键词：INTERLAYER

溅射工艺及底层对SmCo薄膜磁性能的影响: 用多靶射频磁控溅射系统在玻璃基片上制备了 SmCo 磁性薄膜．并采用控制变量法研究了溅射功率、溅射时间以及溅射气压等工艺参数对薄膜磁性能的影响．结果发现,当磁性层溅射功率为60W,溅射气压为 0．5Pa,溅射时间为8mi...; 张峰黄致新王辉吴斌杨晓非程伟明; 关键词：磁控溅射控制变量法矫顽力; 文献传递

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湖北省自然科学基金(2005ABA041)