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国家自然科学基金(60476003)

作品数:5 被引量:8H指数:2
相关作者:刘技文安玉凯刘雅泉赵兴亮鲁博更多>>
相关机构:天津理工大学中国科学院更多>>
发文基金:国家自然科学基金天津市自然科学基金天津市高等学校科技发展基金计划项目更多>>
相关领域:理学电子电信一般工业技术轻工技术与工程更多>>

文献类型

  • 5篇中文期刊文章

领域

  • 2篇电子电信
  • 2篇理学
  • 1篇轻工技术与工...
  • 1篇一般工业技术

主题

  • 3篇SIC
  • 2篇纳米
  • 2篇溅射
  • 2篇CO掺杂
  • 2篇掺杂
  • 2篇磁控
  • 2篇磁控溅射
  • 1篇导体
  • 1篇电阻率
  • 1篇性能研究
  • 1篇射频磁控
  • 1篇射频磁控溅射
  • 1篇铁磁
  • 1篇铁磁性
  • 1篇稀磁半导体
  • 1篇稀磁半导体薄...
  • 1篇纳米纤维
  • 1篇纳米线
  • 1篇含量比
  • 1篇反应磁控溅射

机构

  • 5篇天津理工大学
  • 1篇中国科学院

作者

  • 5篇刘技文
  • 4篇安玉凯
  • 2篇刘雅泉
  • 1篇李响
  • 1篇肖庆
  • 1篇赵燕平
  • 1篇吴忠华
  • 1篇李昌龄
  • 1篇马永昌
  • 1篇李延辉
  • 1篇李娟
  • 1篇段岭申
  • 1篇鲁博
  • 1篇赵兴亮

传媒

  • 4篇光电子.激光
  • 1篇材料导报

年份

  • 1篇2011
  • 2篇2010
  • 1篇2008
  • 1篇2005
5 条 记 录,以下是 1-5
排序方式:
衬底温度对反应溅射TiN_x薄膜结构与电阻率的影响被引量:4
2010年
采用反应磁控溅射方法,在不同Si(100)衬底温度下,制备出了TiNx薄膜。通过X射线衍射(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)对TiNx薄膜的物相、微观结构进行了表征,采用电子能谱仪(EDS)测定了TiNx薄膜的成分,运用四探针测试仪测量了TiNx薄膜的电阻率,研究了衬底温度对溅射TiNx薄膜结构与电阻率的影响。研究结果表明:衬底温度从室温升高到600℃时,随着温度升高,TiNx薄膜的(111)晶面衍射峰逐渐增强,500℃后减弱;(200)晶面衍射峰在300℃时最强,之后减弱。随着衬底温度的升高,TiNx薄膜的晶粒逐渐增大,300℃达最大后减小。随着衬底温度升高,TiNx薄膜的N/Ti原子含量比降低,200℃时降到最低为0.99,随后升高,500℃时最高为1.34,随后再次降低。N/Ti原子含量比与薄膜电阻率呈明显反比变化。
安玉凯刘雅泉刘技文
关键词:反应磁控溅射电阻率
SiC纳米晶/非晶复合纳米纤维的制备和场发射性能研究被引量:2
2008年
采用阵列碳纳米管作为模板制备出了SiC纳米晶/非晶复合纳米纤维(以下称SiC纳米纤维),并对其晶体结构、形貌和精细结构使用X射线衍射仪(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)和高分辨透射电子显微镜(HR-TEM)进行了表征。比较了SiC纳米纤维和碳纳米管模板的场发射性能,研究了SiC纳米纤维直径的变化对其绝对场增强因子的影响。结果表明:SiC纳米晶/非晶复合纳米纤维具有特殊的"树状"结构,顶端及"树枝"中分布着大量的SiC纳米晶粒。SiC纳米晶粒以及特殊的分支结构增强了SiC纳米纤维的场发射性能,开启场强低至1.1V/μm,仅为相同直径碳纳米管模板的1/2。随着SiC纳米纤维直径的减小,绝对场增强因子β0呈明显增大趋势。
鲁博刘技文刘雅泉安玉凯马永昌
关键词:SIC纳米纤维场发射性能
SiC纳米线的制备研究现状与展望
2005年
综述了近年来围绕SiC纳米线制备所做的一些工作。介绍了基于VLS、SLS、氧辅助生长机制和利用模板等制备SiC纳米线的一些方法,并就纳米线的性能和应用研究给出了今后SiC纳米线可控制生长应开展的研究工作,对SiC纳米线的制备研究工作进行了展望。
李昌龄刘技文赵燕平李延辉李娟
关键词:SIC纳米线
Co掺杂SiC薄膜的紫外光敏特性被引量:2
2010年
采用射频磁控溅射技术和复合靶材的方法,在p型单晶Si衬底上制备SiC薄膜及Co掺杂SiC薄膜。在真空度为1.0×10-4Pa、温度为1 200℃条件下,保温1 h进行晶化处理。通过X射线衍射(XRD)、X射线能量色散谱(EDX)、霍尔测量和紫外激光器等对薄膜的晶体结构、Co掺杂浓度、载流子浓度、导电类型及光敏特性等进行测试。结果表明,SiC薄膜为6H型晶体结构,Co掺杂后SiC薄膜的导电类型由n型转变为p型,载流子浓度比未掺杂的高2个数量级,对紫外光灵敏度是未掺杂的2倍,光照响应时间比未掺杂的缩短1/3。
赵兴亮安玉凯刘技文
关键词:SIC薄膜CO掺杂射频磁控溅射
Co掺杂SiC稀磁半导体薄膜的磁与电阻率特性被引量:2
2011年
采用射频磁控溅射法制备了不同Co掺杂浓度的SiC薄膜。X射线衍射(XRD)、X射线光电子能谱(XPS)、Hall以及电阻率-温度(-ρT)曲线测试结果表明,Co掺杂SiC薄膜具有4H-SiC(100)晶体结构和典型的半导体导电特征,未发现Co金属团簇以及其它CoSi第二相化合物生成,显示了Co原子以替位掺杂的形式进入了SiC晶格;电流-电压(I-V)特性测试发现,Co掺杂SiC薄膜是一种非均匀掺杂;PPMS磁性测量表明,Co掺杂SiC薄膜具有明显的室温铁磁性,饱和磁化强度随着Co掺杂浓度的增加而增加,其铁磁性的来源符合缺陷机制的束缚磁极子(BMP)机制。
李响安玉凯肖庆段岭申吴忠华刘技文
关键词:SICCO掺杂铁磁性
共1页<1>
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