您的位置: 专家智库 > >

福建省教育厅科技项目(JA10249)

作品数:2 被引量:1H指数:1
相关作者:王元樟张小英许英朝朱文章李书平更多>>
相关机构:厦门理工学院中国科学院厦门大学更多>>
发文基金:福建省教育厅科技项目国家自然科学基金厦门市科技计划项目更多>>
相关领域:理学更多>>

文献类型

  • 2篇中文期刊文章

领域

  • 2篇理学

主题

  • 1篇应力
  • 1篇应力分布
  • 1篇原子力显微镜
  • 1篇分布计算
  • 1篇半导体
  • 1篇SI
  • 1篇GAN
  • 1篇GAN基半导...
  • 1篇HGCDTE
  • 1篇MOCVD
  • 1篇INN

机构

  • 2篇厦门理工学院
  • 1篇中国科学院
  • 1篇厦门大学

作者

  • 2篇张小英
  • 2篇王元樟
  • 1篇朱文章
  • 1篇林伟
  • 1篇许英朝
  • 1篇陈航洋
  • 1篇康俊勇
  • 1篇李书平

传媒

  • 1篇红外与激光工...
  • 1篇厦门理工学院...

年份

  • 1篇2012
  • 1篇2011
2 条 记 录,以下是 1-2
排序方式:
HgCdTe/CdTe/Si(211)异质结构的应变和应力分布计算被引量:1
2012年
计算了HgCdTe/CdTe/Si(211)异质结构的应变和应力分布,发现对于生长方向为不具有对称特性的[211]晶向,由于弹性模量的各向异性,平行表面的两个晶向方向[1-1-1]和[01-1]的应变和应力分布存在差异,并且二者的曲率半径也具有相应特性。对于Si衬底厚度为500μm,CdTe缓冲层厚度为10μm,HgCdTe层厚度为10μm的异质结构,液氮温度77 K时衬底与外延层的应变均为负值,外延层和衬底的最大应力值均在界面处,外延层中均为张应力,Si衬底在靠近界面处为压应力,远离界面逐渐过渡为张应力,存在一个应力为零的中性轴位置。
王元樟朱文章张小英许英朝
关键词:HGCDTESI应力分布
MOCVD GaN/InN/GaN量子阱的应变表征
2011年
采用MOCVD外延生长11周期InN/GaN量子阱结构样品,原子力显微镜表面形貌结果显示实现了台阶流动生长模式.通过高分辨率X射线衍射与掠入射X射线反射谱技术获得了阱层与垒层的实际厚度.从(102)非对称衍射面与(002)对称衍射面的倒异空间图,确认了InN阱层处于与GaN共格生长的完全应变状态,获得了GaN缓冲层的晶体质量信息及其c轴与a轴晶格常数,确认外延层因受衬底热失配的影响处于压应变状态.
王元樟林伟李书平陈航洋康俊勇张小英
关键词:GAN基半导体原子力显微镜
共1页<1>
聚类工具0