国家教育部博士点基金(20120041120033)
- 作品数：2 被引量：6H指数：1
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- 相关领域：机械工程理学一般工业技术更多>>
- Si基Si_3N_4弹性膜独立多探针的制作
- 2016年
- 针对广域光-接触多探针方法测量光刻胶表面形貌的需要,设计制作了Si基Si_3N_4弹性膜独立多探针,该探针呈9×9二维阵列分布。先利用ANSYS有限元软件分析探针Si_3N_4弹性薄膜的厚度和面积尺寸对探针测量范围的影响规律,得到了优化的几何参数。然后基于仿真结果,运用微机电系统(MEMS)技术中的硅基工艺、薄膜工艺和光刻工艺完成了多探针硅杯的腐蚀、弹性薄膜的沉积及SU-8胶质探针的制作,制备出独立多探针。初步测量Si基Si_3N_4弹性膜独立多探针单元的各项参数表明:Si_3N_4弹性膜的长度平均值为399.4μm,最大偏差为1.8%;SU-8胶质探针的尺寸为Φ99.1μm×27.8μm,最大偏差分别为1.9%和9.8%;探针间的平均距离为1.500 6 mm,最大偏差为0.6%。该探针的结构设计合理,制作工艺可行,可以用于大范围、快速测量方法。
- 原作兰刘淑杰张元良
- 关键词：广域测量
- 透明软质薄膜的表面形貌测量被引量：6
- 2014年
- 为了实现光刻胶表面形貌的广域、高精度测量,对新一代测量理论及测量方法进行了研究。首先分析了被测物件的特性,根据其柔软、透明的特征提出应用光干涉法和机械探针相结合的方法进行测量,同时阐明了使用此方法进行表面形貌测量的优点,并据此原理搭建了光学多探针表面形貌测量装置,光学测量部分采用白光干涉计,探针部分采用拥有8只球型探头的多点悬臂测量探针。然后应用此装置对标准刻槽试件和半透明光造型薄膜试件进行了测量。测量52 nm的标准刻槽试件时得到了测量误差小于2%,标准偏差小于1 nm的结果,表明本装置可以达到高精度测量表面形貌的目的。通过测量高约400 nm的树脂材料证实了此装置可以克服多重反射的影响测量透明薄膜的表面形貌。
- 刘淑杰张元良张洪潮
- 关键词：表面形貌测量光刻胶白光干涉
