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北京市科技计划项目(D0405001040431)

作品数：1 被引量：9H指数：1
相关作者：李洪宾江轩王欣平更多>>
相关机构：北京有色金属研究总院更多>>
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相关领域：一般工业技术更多>>

文献类型

  • 1篇中文期刊文章

领域

  • 1篇一般工业技术

主题

  • 1篇微观结构
  • 1篇溅射
  • 1篇溅射沉积
  • 1篇沉积速率

机构

  • 1篇北京有色金属...

作者

  • 1篇王欣平
  • 1篇江轩
  • 1篇李洪宾

传媒

  • 1篇稀有金属

年份

  • 1篇2009
共 1 条 记 录，以下是 1-1
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排序方式：
铝铜合金靶材的微观结构对溅射沉积性能的影响被引量：9
2009年
磁控溅射中高沉积速率有利于获得高纯度薄膜,节省镀膜时间;高沉积效率的靶材可制备出更多数目的晶圆。通过建立平面靶的溅射模型研究了Al-Cu合金靶的晶粒取向和晶粒尺寸对溅射速率、沉积速率和沉积效率的影响。实验结果显示,溅射速率与靶材的原子密排度成正比关系,靶材的原子密排度受晶粒取向和晶粒尺寸的影响,有特定的变化范围,因此溅射速率也只在一个范围内变化。沉积速率和沉积效率受靶材表面空间内原子密排方向分布的影响,原子密排方向分布则由靶材的晶粒取向和晶粒尺寸决定。
李洪宾江轩王欣平
关键词：微观结构沉积速率
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