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北京市教育委员会科技发展计划(KM200810005002)

作品数:4 被引量:7H指数:2
相关作者:邓军韩军沈光地邢艳辉徐晨更多>>
相关机构:北京工业大学更多>>
发文基金:北京市教育委员会科技发展计划国家高技术研究发展计划北京市自然科学基金更多>>
相关领域:电子电信更多>>

文献类型

  • 4篇中文期刊文章

领域

  • 4篇电子电信

主题

  • 3篇淀积
  • 3篇金属有机物
  • 2篇衍射
  • 2篇原子力显微镜
  • 2篇双晶衍射
  • 2篇气相淀积
  • 2篇金属有机物化...
  • 2篇化学气相淀积
  • 2篇二极管
  • 2篇发光
  • 2篇P型
  • 2篇X射线双晶衍...
  • 2篇INGAN
  • 1篇氮化
  • 1篇氮化物
  • 1篇电学
  • 1篇电学特性
  • 1篇金属有机物化...
  • 1篇蓝宝
  • 1篇蓝宝石

机构

  • 4篇北京工业大学

作者

  • 4篇邢艳辉
  • 4篇沈光地
  • 4篇韩军
  • 4篇邓军
  • 3篇徐晨
  • 3篇李建军
  • 1篇朱延旭

传媒

  • 2篇物理学报
  • 1篇光电子.激光
  • 1篇功能材料

年份

  • 2篇2011
  • 1篇2010
  • 1篇2009
4 条 记 录,以下是 1-4
排序方式:
淀积在不同小倾角蓝宝石衬底的n型GaN的研究
2009年
采用金属有机物化学淀积技术在不同倾角(0°—0.3°)的蓝宝石衬底上外延n型GaN.通过原子力显微镜观察到n型GaN均呈台阶流生长模式,0.2°和0.3°倾角衬底的n型GaN表面台阶朝向相同、分布均匀,明显地看到在0°倾角衬底的n型GaN表面由台阶重构直接导致的台阶朝向随机分布、疏密不匀的形貌.电子背散射分析表明,在0°倾角衬底的n型GaN外延层的应力随外延厚度增加而增加,而0.2°和0.3°倾角衬底的n型GaN外延层的应力没有明显的变化.电学和光学特性研究表明,0.2°和0.3°倾角衬底的n型GaN有较高的电子浓度和较低的黄光带与近带边强度之比.
邢艳辉韩军邓军李建军沈光地
关键词:氮化物原子力显微镜光致发光
表面粗化高空穴浓度InGaN:Mg性能及其发光二极管应用被引量:4
2011年
利用金属有机物化学气相淀积(MOCVD)技术在蓝宝石衬底上生长了InGaN:Mg薄膜,对不同源流量In-GaN:Mg材料特性进行了研究。光学和电学特性观测表明,当外延生长温度在760℃,三甲基铟(TMIn)摩尔流量不变时,随CP2Mg和Ⅲ族源摩尔比([CP2Mg]/[Ⅲ])增加,当In摩尔成分增加,空穴浓度也线性增加;当[CP2Mg]/[Ⅲ]比为1.12×10-3时获得4.78×1019cm-3高空穴浓度。通过原子力显微镜(AFM)观察到粗化的表面,采用InGaN:Mg薄膜作为接触层制备的发光二极管(LED)比常规LED的电荧光强度提高28%。
邢艳辉韩军邓军李建军徐晨沈光地
关键词:发光二极管(LED)
MOCVD生长温度控制p型InGaN形貌和电学特性提高LED光功率被引量:1
2011年
利用金属有机物化学气相淀积(MOCVD)技术在蓝宝石衬底上生长了InGaN∶Mg薄膜,通过改变外延生长温度优化p型InGaN∶Mg表面形貌和电学特性。在800℃,InGaN的空穴浓度为1.9×1019cm-3,电阻率较低,通过原子力显微镜观察到粗化的样品表面有很多圆丘,其均方根粗糙度是所有样品中最高的,综合粗化的表面和优化电学特性的p-InGaN接触层的LED光功率提高23%。
韩军邢艳辉邓军朱延旭徐晨沈光地
关键词:金属有机物化学气相淀积X射线双晶衍射
p型GaN低温粗化提高发光二极管特性被引量:4
2010年
利用金属有机物化学气相沉积技术在蓝宝石衬底上低温生长GaN:Mg薄膜,对不同源流量的GaN:Mg材料特性进行优化研究.研究表明二茂镁(CP2Mg)和三甲基镓(TMGa)物质的量比([CP2Mg]/[TMGa])在1.4×10-3—2.5×10-3范围内,随[CP2Mg]/[TMGa]增加,晶体质量提高,空穴浓度线性增加.当[CP2Mg]/[TMGa]为2.5×10-3时获得空穴浓度与在较高温度生长获得的空穴浓度相当,且薄膜表面较粗糙.采用[CP2Mg]/[TMGa]为2.5×10-3的p型GaN层制备的发光二极管,在注入电流为20mA时,输出光强提高了17.2%.
邢艳辉韩军邓军李建军徐晨沈光地
关键词:金属有机物化学气相沉积原子力显微镜X射线双晶衍射
共1页<1>
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