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碲欠电位沉积于金衬底上碲离子浓度和扫描速率对欠电位的影响: 2008年; 研究了碲欠电位沉积于金衬底表面体系中碲离子浓度和扫描速率等关键实验参数对碲欠电位沉积机制及其伏安特性的影响。结果表明,碲沉积在金表面的伏安特性依赖于使用的碲离子浓度,金属离子浓度的变化可能会影响到欠电位沉积过程的动力学机制。循环伏安实验结果表明,碲欠电位峰的电流与扫描速率的2/3次方呈线性关系。证实碲欠电位沉积于金衬底上遵循的是二维形核和生长机制。; 朱文杨君友周东祥肖承京段兴凯; 关键词：欠电位沉积碲热电材料

碲在金衬底上的不可逆吸附行为及其欠电位沉积机制的研究被引量：3: 2007年; 研究了碲在金衬底上的不可逆吸附行为特征及其对碲原子欠电位沉积行为的影响.同时也探讨了碲原子于金衬底上的欠电位沉积机制.结果显示在开路条件下碲原子在金衬底表面具有不可逆的吸附行为,证实了在金的双电层范围内很难将这种碲的吸附物移走.为了完全移走碲的吸附物,需要采用特定的电化学清洗程序.发现碲的吸附物移走发生在电位循环至金的氧化区域,且在该区域这种碲的吸附物移走与金的表面氧化同时发生.扫描速率分析结果证实碲欠电位沉积在金表面符合Sanchez-Maestre模型的三个标准,说明碲原子于金衬底上欠电位沉积符合二维形核和生长机制.; 朱文杨君友周东祥樊希安段兴凯; 关键词：欠电位沉积循环伏安热电材料

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中国博士后科学基金(20060390843)