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国家重点基础研究发展计划(2002CB311903)

作品数:35 被引量:52H指数:4
相关作者:刘新宇和致经王晓亮陈晓娟刘键更多>>
相关机构:中国科学院微电子研究所中国科学院四川龙瑞微电子有限公司更多>>
发文基金:国家重点基础研究发展计划中国科学院重点实验室基金国家高技术研究发展计划更多>>
相关领域:电子电信自动化与计算机技术电气工程更多>>

文献类型

  • 35篇中文期刊文章

领域

  • 33篇电子电信
  • 1篇电气工程
  • 1篇自动化与计算...

主题

  • 20篇ALGAN/...
  • 14篇ALGAN/...
  • 13篇HEMT
  • 8篇晶体管
  • 6篇电路
  • 6篇电子迁移率
  • 6篇迁移率
  • 6篇高电子迁移率
  • 6篇高电子迁移率...
  • 6篇HEMTS
  • 5篇衬底
  • 4篇氮化镓
  • 4篇电流崩塌
  • 4篇微波功率
  • 4篇集成电路
  • 4篇功率器件
  • 4篇ALGAN/...
  • 3篇电流崩塌效应
  • 3篇刻蚀
  • 3篇蓝宝

机构

  • 30篇中国科学院微...
  • 16篇中国科学院
  • 2篇四川龙瑞微电...

作者

  • 30篇刘新宇
  • 17篇和致经
  • 13篇王晓亮
  • 12篇陈晓娟
  • 11篇魏珂
  • 11篇刘键
  • 10篇李诚瞻
  • 7篇王军喜
  • 7篇刘果果
  • 7篇罗卫军
  • 6篇李晋闽
  • 6篇郑英奎
  • 6篇吴德馨
  • 5篇刘丹
  • 5篇曾一平
  • 5篇邵刚
  • 5篇胡国新
  • 5篇王翠梅
  • 4篇姚小江
  • 4篇肖红领

传媒

  • 26篇Journa...
  • 7篇电子器件
  • 1篇功能材料与器...
  • 1篇固体电子学研...

年份

  • 3篇2009
  • 8篇2008
  • 7篇2007
  • 5篇2006
  • 8篇2005
  • 4篇2004
35 条 记 录,以下是 1-10
排序方式:
162GHz自对准InP/InGaAs异质结双极型晶体管(英文)
2006年
报道了发射极自对准的InP基异质结双极型晶体管.在集电极电流IC=34·2 mA的条件下,发射极面积为0·8μm×12μm的InP HBT截止频率fT为162GHz ,最大振荡频率fmax为52GHz ,最大直流增益为120,偏移电压为0·10V,击穿电压BVCEO达到3·8V(IC=0·1μA) .这种器件非常适合在高速低功耗方面的应用,例如OEIC接收机以及模拟数字转换器.
于进勇严北平苏树兵刘训春王润梅徐安怀齐鸣刘新宇
关键词:磷化铟异质结双极型晶体管自对准
蓝宝石衬底AlGaN/GaN功率HEMTs研制被引量:4
2004年
基于蓝宝石衬底的高微波特性 Al Ga N/Ga N HEMTs功率器件 ,器件采用了新的欧姆接触和新型空气桥方案。测试表明 ,器件电流密度 0 .784A/mm,跨导 1 97m S/mm,关态击穿电压 >80 V,截止态漏电很小 ,栅宽 1 mm的器件的单位截止频率 ( f T)达到 2 0 GHz,最大振荡频率 ( fmax) 2 8GHz,2 GHz脉冲测试下 ,栅宽 0 .75 mm器件 ,功率增益1 1 .8d B,输出功率 3 1 .2 d Bm,功率密度 1 .75 W/mm。
邵刚刘新宇和致经刘键魏珂陈晓娟吴德馨
关键词:ALGAN/GANHEMT微波功率
AlGaN/GaN共栅共源HEMTs器件被引量:1
2004年
研究了蓝宝石衬底 Al Ga N/Ga N共栅共源器件的特性。该器件包括栅长 0 .8μm共源器件与栅长 1 μm的共栅器件。研究表明 ,共栅共源器件的第二栅压对的器件饱和电流与跨导有明显的调制作用 ,容易实现功率增益控制。与共源器件相比 ,共栅共源器件在微波特性上 f T 大约 9GHz,比共源器件稍小 ,但是具有较低的反馈 ,显著增加的功率资用增益及较高的端口阻抗 ,与共源器件相比 ,稳定性更好 ,可以避免振荡的产生 ,结合 Ga N的高功率特性 Ga
邵刚刘新宇刘键和致经
关键词:HEMTS微波功率增益
一个8GHz基于AlGaN/GaN HEMT的内匹配电路被引量:1
2009年
论述了一个在8 GHz下基于AlGaN/GaN HEMT功率放大器HMIC的设计、制备与测试。该电路包含了1个10×100μm的AlGaN/GaN HEMT和输入输出匹配电路。在偏置条件为VDS=40 V、IDS=0.16 A时输出连续波饱和功率在8GHz达到36.5 dBm(4.5 W),PAE为60%,线性增益10 dB;在偏置条件为VDS=30 V、IDS=0.19 A时输出连续波饱和功率在8 GHz达到35.6 dBm(3.6 W),PAE为47%,线性增益9 dB。
张辉陈晓娟刘果果曾轩袁婷婷陈中子王亮刘新宇
关键词:ALGAN/GANHEMT内匹配混合集成电路功率放大器
凹栅槽AlGaN/GaN HEMTs器件退火处理效应(英文)被引量:1
2008年
研究了如何减小等离子体干法刻蚀导致的大肖特基漏电.用X射线光电能谱(XPS)分析刻蚀前后的AlGaN表面,发现刻蚀后AlGaN表面出现了N空位,导致肖特基栅电流偏离热电子散射模型,N空位做为一种缺陷使得肖特基结的隧穿几率增大,反向漏电增大,肖特基势垒降低.介绍了一种AlGaN/GaNHEMTs器件退火处理方法,优化退火条件为400℃,N2氛围退火10min.退火后,栅金属中的Ni与Ga原子反应从而减少N空穴造成的缺陷,器件肖特基反向漏电减小三个量级,正向开启电压升高,理想因子从3.07降低到了2.08.
刘果果黄俊魏珂刘新宇和致经
关键词:GAN干法刻蚀退火
钝化前表面预处理对AlGaN/GaN HEMTs性能的影响被引量:1
2008年
提出一种新的钝化技术——采用盐酸和氢氟酸混合预处理溶液(HF:HCl:H2O=1:4:20)对AlGaN/GaNHEMTs进行表面预处理后再淀积Si3N4钝化,研究了新型钝化技术对AlGaN/GaNHEMTs性能的影响并分析其机理.与用常规方法钝化的器件相比,经过表面预处理再钝化,成功地抑制了AlGaN/GaNHEMTs肖特基特性的恶化,有效地增强抑制电流崩塌效应的能力,将GaN基HEMTs的输出功率密度提高到5.2W/mm,并展现良好的电学可靠性.通过X射线光电子谱(XPS)检测预处理前后的AlGaN表面,观察到经过预处理后的AlGaN表面氧元素的含量大幅度下降.表面氧元素的含量下降,能有效地降低表面态密度和表面电荷陷阱密度,被认为是提高AlGaN/GaNHEMTs性能的主要原因.
李诚瞻刘丹郑英奎刘新宇刘键魏珂和致经
关键词:ALGAN/GANHEMTS钝化
基于FC技术的AlGaN/GaN HEMT被引量:5
2005年
采用FC技术将管芯倒扣至AlN基板散热的AlGaN/GaN HEMTs,并通过热阻模型分析了FC方式的散热机理.从测试结果看,器件的热阻可大幅降到14 .9K·mm/W,直流特性明显增加,饱和电流提高33%.表明采用FC技术有效改善了器件散热,而且引入的寄生电感较小,可获得更大输出功率.如果进一步完善频率特性的优化,可以加快FC技术的AlGaN/GaN大功率HEMT器件的实用化进程.
陈晓娟刘新宇邵刚刘键和致经汪锁发吴德馨
关键词:ALGAN/GANHEMTFC热阻
高性能1mm SiC基AlGaN/GaN功率HEMT研制被引量:3
2006年
在6H-SiC衬底上,外延生长了AlGaN/GaN HEMT结构,设计并实现了高性能1mm AlGaN/GaN微波功率HEMT,外延材料利用金属有机物化学气相淀积技术生长.测试表明,该1mm栅宽器件栅长为0.8μm,输出电流密度达到1.16A/mm,跨导为241mS/mm,击穿电压>80V,特征频率达到20GHz,最大振荡频率为28GHz.5.4GHz连续波测试下功率增益为14.2dB,输出功率达4.1W,脉冲条件测试下功率增益为14.4dB,输出功率为5.2W,两端口阻抗特性显示了在微波应用中的良好潜力.
罗卫军陈晓娟李成瞻刘新宇和致经魏珂梁晓新王晓亮
关键词:ALGAN/GAN高电子迁移率晶体管微波功率功率增益
基于AlGaN/GaN HEMT的C波段功率放大器混合集成电路的设计被引量:2
2007年
我们设计研制了一个基于Al GaN/GaN HEMT大功率放大器的混合集成电路.这个电路包含了1个10×120μm的HEMT晶体管,以及输入和输出匹配电路.在偏置条件为Vds=40 V,Ids=0.26 A时,输出连续波饱和功率在5.4 GHz达到37 dBm(5 W),最大的PAE为35.6%.在偏置条件为Vds=30 V,Ids=0.22 A时输出连续波饱和功率在5.4 GHz达到36.4dBm(4.4 W),最大的PAE为42.7%.
姚小江李宾陈延湖陈小娟魏珂李诚瞻刘丹刘果果刘新宇王晓亮罗卫军
关键词:微波功率放大器ALGAN/GANHEMT
Improvements to the extraction of an AlGaN/GaN HEMT small-signal model
2009年
The accurate extraction of AlGaN/GaN HEMT small-signal models,which is an important step in largesignal modeling,can exactly reflect the microwave performance of the physical structure of the device.A new method of extracting the parasitic elements is presented,and an open dummy structure is introduced to obtain the parasitic capacitances.With a Schottky resistor in the gate,a new method is developed to extract R g.In order to characterize the changes of the depletion region under various drain voltages,the drain delay factor is involved in the output conductance of the device.Compared to the traditional method,the fitting of S 11 and S 22 is improved,and f T and f max can be better predicted.The validity of the proposed method is verified with excellent correlation between the measured and simulated S-parameters in the range of 0.1 to 26.1 GHz.
蒲颜庞磊王亮陈晓娟李诚瞻刘新宇
关键词:HEMT器件ALGAN小信号模型微波性能
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