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国家教育部博士点基金(20050486054)

作品数:1 被引量:3H指数:1
发文基金:国家教育部博士点基金国家自然科学基金更多>>
相关领域:理学一般工业技术更多>>

文献类型

  • 3篇会议论文
  • 1篇期刊文章

领域

  • 3篇一般工业技术
  • 2篇理学

主题

  • 2篇AG_NAN...
  • 1篇电子背散射衍...
  • 1篇性能研究
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  • 1篇退火
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  • 1篇吸收性能
  • 1篇离子注入
  • 1篇纳米
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  • 1篇光吸收性能
  • 1篇光致
  • 1篇光致发光
  • 1篇发光
  • 1篇OPTICA...
  • 1篇STRUCT...
  • 1篇EBSD

机构

  • 2篇武汉大学

作者

  • 2篇任峰
  • 2篇卢卓宇
  • 2篇蒋昌忠
  • 1篇蔡光旭
  • 1篇付强
  • 1篇肖湘衡
  • 1篇李慧

传媒

  • 1篇Journa...
  • 1篇中国硅酸盐学...

年份

  • 1篇2009
  • 3篇2007
1 条 记 录,以下是 1-4
排序方式:
Morphology Control and Optical Absorption Properties of Ag Nanoparticles by Ion Implantation被引量:3
2009年
Ion implantation is a powerful method for fabricating nanoparticles in dielectric.For the actual application of nanoparticle composites,a careful control of nanoparticles has to be achieved.In this letter,the size,distribution and morphology of Ag nanoparticles are controlled by controlling the ion current density,ion implantation sequence and ion irradiation dose.Single layer Ag nanoparticles are formed by Ag+ion implantation at current density of 2.5μA/cm2.By Ag and Cu ions sequential implantation,the size of single layer Ag nanoparticles increases.While,by Cu and Ag ions sequential implantation,uniform Ag nanoparticles with wide distribution are formed.The morphology of Ag nanoparticles changes to hollow and sandwiched nanoparticles by Cu+ion irradiation to doses of 3×1016 and 5×1016 ions/cm2.The optical absorption properties of Ag nanoparticles are also tailored by these ways.
G.X. Cai F. Ren X.H. Xiao L.X. Fan X.D. Zhou C.Z. Jiang
关键词:光吸收特性银纳米粒子银纳米颗粒光吸收性能
Effect of Sequential Ions Implantation on Structure of Cu, Ag Nanoparticles
The preparation of metal nanoparticles composites by Cu, Ag ions sequential implantation is studied. The forma...
XIAO Xiang-heng,LU Zhuoyu,GUO Li-ping, REN Feng, CHEN Dong-liang,WU Zi-yu,JIA Quan-jie ( Key Laboratory of Acoustic and Photonic Materials and Devices of Ministry of Education, Wuhan University, Wuhan 430072, China
关键词:NANOPARTICLES
文献传递
EBSD在InGaAsP/InP异质结构弹性应力区域的研究
利用扫描电镜附件电子背散射衍射(Electron Backscattering Diffraction,EBSD)技术,用菊池花样质量(JQ)作为应力敏感参数,研究了InGaAsP/InP异质结构缓冲层和外延层界面处的应...
范丽霞卢卓宇任峰蒋昌忠付强
文献传递
离子注入形成SiC纳米颗粒的发光性能研究
用离子注入法将Si、C离子注入到非晶二氧化硅中,样品分别在600℃,800℃和1 100℃进行了退火,并在 1 100℃时作了1 h、2 h、3 h和4.5 h的退火。用透射电镜(TEM)和光致发光(PL)研究了退火温度...
李慧卢卓宇蒋昌忠任峰肖湘衡蔡光旭
关键词:碳化硅光致发光热退火
文献传递
共1页<1>
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