国家自然科学基金(10547006)
- 作品数：10 被引量：20H指数：4
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- 相关机构：贵州大学中国科学院贵州教育学院更多>>
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- 相关领域：理学电子电信机械工程一般工业技术更多>>
- 激光作用生成的网孔硅结构被引量：1
- 2007年
- 作者结合量子受限效应,提出纳硅晶与氧化硅界面态发光模型来解释激光作用生成的纳米网孔壁结构的强荧光效应。将功率为50W、波长为1064nm的YAG激光束(束斑直径0.05mm)照射在硅样品表面打出小孔,在孔内的侧壁上,有很特殊的网孔形结构,其中的网孔壁厚为纳米尺度,这里有很强的受激荧光发光效应,发光峰中心约在700nm处。我们将激光与硅样品的作用隔离于无氧化的环境里,分别比较了将硅样品浸入酒精、氢氟酸和水中的激光加工结果,其发光情况证实了该发光模型的真实性。优化激光加工的条件,我们获得了较强发光的样品。
- 金峰王海旭黄伟其吴克跃许丽刘世荣秦朝建
- 关键词：激光辐照
- Low-dimensional structures formed by irradiation of laser被引量：5
- 2007年
- 黄伟其刘世荣许丽吴克跃秦朝建蔡绍洪
- 关键词：激光辐射低维纳米结构光致发光界面态
- 多孔硅量子点中的电子局域态被引量：4
- 2009年
- 经过激光辐照和高温退火加工能够生成多孔硅样品,在650—780 nm处检测到很强的光致荧光(PL)峰,并且有明显的钉扎和增强效应.实验表明,这种PL发光的强度与样品受辐照和退火的时间长短密切相关.通过第一性原理模拟计算发现,样品表面用Si O双键和Si—O—Si桥键钝化,能隙中会出现电子局域态.激光辐照和高温退火的时间长短决定了样品表面Si O双键和Si—O—Si桥键的密度,而该密度正是影响多孔硅量子点中电子局域态生成的关键.
- 黄伟其王晓允张荣涛于示强秦朝建
- 激光加工形成硅基上的氧化低维纳米结构的PL发光被引量：2
- 2008年
- 用激光辐照硅样品和硅锗合金样品能够形成多种氧化低维纳米结构,可以用激光与半导体相互作用产生的等离子体波模型来解释这些结构的形成机理.其中,在单晶硅上形成的网孔壁结构有很强的706nm波长的光致发光(PL)峰,在硅锗合金上形成的多孔状结构于波长为725nm处有极强的PL峰,在硅锗合金上形成的条形片状结构分别在波长为760nm和866nm处也有较强的PL峰;这些结构表面都覆盖有氧化硅层,在硅锗合金上的氧化硅层中镶嵌有纳米锗晶团簇,并用相应的模型解释了这些氧化低维纳米结构的强光致发光效应.
- 黄伟其吴克跃许丽王海旭金峰刘世荣秦朝建秦水介
- 关键词：等离子体波光致发光
- 激光辐照单晶硅生成低维纳米结构及其Raman光谱分析
- 2008年
- 用激光辐照法加工单晶硅样品而生成的低维结构具有较高稳定性及较强光致荧光(PL)谱峰等特点.进一步分析样品的拉曼光谱峰位频移及半高宽变化,对其纳米结构的尺寸进行了表征和指认.
- 金锋王海旭黄伟其崔朝龙刘世容秦朝建
- 关键词：激光辐照拉曼光谱
- 脉冲激光辐照单晶硅形成的低维结构及其光致荧光特性被引量：6
- 2008年
- 将功率密度约为0.5 J.s-1.cm-2、脉冲宽度约为8 ns、束斑直径为0.045 mm、波长为1 064nm的YAG激光束照射在硅样品表面打出小孔,在孔内的侧壁上形成较规则的网孔状结构;该结构有很强的光致荧光,其强度比该样品的瑞利散射强;发光峰中心约在700 nm处。在无氧化的环境里用激光加工出的硅样品几乎无发光,这证实了氧在光致荧光增强上起着重要作用。用冷等离子体波模型来解释孔侧壁网孔状结构形成的机理,并用量子受限-发光中心模型来解释纳米网孔壁结构的强荧光效应。当激光辐照时间为9 s时,孔洞侧壁上的网孔状结构较稳定,且有较强的光致荧光。
- 许丽黄伟其吴克跃金峰王海旭
- 关键词：激光辐照
- 激光辅助刻蚀硅锗合金样品生成低维片状结构的PL发光
- 2007年
- 我们用激光辐照辅助电化学刻蚀法在硅锗合金上形成了多种氧化低维纳米结构,特别是硅锗合金薄膜裂解后生成条形片状结构,其条形片表面有纳米颗粒分布。发现这些纳米颗粒经空气氧化后在波长为760nm和866nm处有较强的光致荧光(PL)峰,高温退火后其PL峰(643nm和678nm)有明显的蓝移。实验结果支持量子受限(QC)发光模型。该项工作为制备硅和锗的强发光材料提供了新的方法。
- 王海旭金锋黄伟其张寿乾张立冯扬郭杨杨贵洪
- 关键词：低维纳米结构光致荧光
- 多孔硅锗的制备及其近红外发光增强被引量：5
- 2007年
- 用激光照射辅助电化学刻蚀硅锗合金样品能够形成多种低维纳米结构。在硅锗合金上形成的多孔状结构在波长为725 nm处有很强的光致发光(PL)峰,PL的增强效应不能单独用量子受限模型来解释。我们提出新的模型来解释这种低维纳米结构的PL增强效应。
- 吴克跃黄伟其许丽
- 关键词：低维纳米结构界面态
- 退火氧化生成的硅锗低维结构的光致发光性质
- 2008年
- 用激光辐照辅助电化学刻蚀的方法加工硅锗薄膜样品,30min后,在样品表面形成了多孔状的结构,该结构在724nm处有很强的光致发光(PL)峰。将该多孔状结构的样品置于高温氧化炉中进行不同时间的退火氧化处理后,发现在不同的退火氧化条件下样品的PL光谱发生了明显的变化。通过分析,作者根据量子受限(QC)和量子限制-发光中心(QCLC)模型,建立了新的量子受限-晶体与氧化物界面态综合模型来解释样品PL发光的变化。
- 王海旭冯彩玲金锋
- 关键词：光致发光低维纳米结构界面态
- 脉冲激光作用硅锗合金形成多种捕获界面态
- 2009年
- 用脉冲激光辐照和退火氧化处理在硅锗合金衬底上形成了具有不同界面态分布的氧化低维结构.在这些结构中都有在几个纳米的氧化层中约束了大量的硅和锗的纳米团簇结构,分析这些低维结构所产生的光致荧光(PL)光谱发现,由于氧化条件的不同所生成的这些结构对应的PL光谱无论是强度,还是频率都发生了显著的变化.用量子受限-硅锗与氧化物界面态综合模型解释了样品PL发光的变化.
- 韩志嵘黄伟其王海旭金锋刘世荣
- 关键词：光致发光激光辐照界面态
