安徽省人才开发基金(2003Z021)
- 作品数：5 被引量：9H指数：2
- 相关作者：施朝淑牟威圩刘洪图郭嘉王烨更多>>
- 相关机构：中国科学技术大学合肥工业大学中国科学院更多>>
- 发文基金：安徽省人才开发基金国家自然科学基金国家高技术研究发展计划更多>>
- 相关领域：理学一般工业技术电气工程更多>>
- 用电泳法制备Zn_xMg_(1-x)O薄膜及其特性研究被引量：2
- 2004年
- 用电泳法制备了一系列ZnxMg1 -xO薄膜 .对ZnxMg1 -xO薄膜的光致发光研究表明 ,在薄膜发射谱的紫外区域有两个显著的峰 ,分别对应自由激子和激子间碰撞的发光 .在可见光区域 ,发射谱的强度基本保持恒定 ,没有发现通常报道的绿光发射 ,说明生长的薄膜中氧与其他元素保持很好的化学配比 ,抑制了基于氧空位的绿带发射机理 .另一方面 ,薄膜成分中Mg含量的变化和退火温度的变化对薄膜的发射谱有显著的影响 ,表现在ZnxMg1 -xO的紫外发射峰随Mg含量的增加向短波方向移动 。
- 汪壮兵许小亮陈莹莹周世铭孔宁郭嘉刘洪图施朝淑
- 关键词：发射谱可见光区激子短波
- 退火对sol-gel法生长的SiO2薄膜特性的影响被引量：1
- 2004年
- 用正硅酸乙酯(ETOS),乙醇(EtOH),水以及盐酸以一定的比例混合配制溶胶(其中盐酸为催化剂).以普通浮法玻璃为衬底,用浸渍提拉法制备了厚度为100nm左右的SiO2薄膜.对其进行等温和等时退火,用台阶仪测定其厚度变化,给出经验拟合公式.研究了退火对透过率、折射率以及气孔率的影响,并做出比较详细的理论解释.
- 郭嘉龚明许小亮张慰萍郭海王燎原陈滢滢刘佩尧刘洪图
- 关键词：退火SOL-GELSIO2薄膜膜厚
- 溅射沉积法制备金薄膜的结构特性
- 2004年
- 在不同的生长阶段Au膜具有不同的表面微结构.随着厚度的增加,薄膜晶粒要经历成核、正常晶粒生长和反常晶粒生长过程,在不同的过程中Au膜呈现出不同的表面形貌.在正常晶粒生长阶段,薄膜晶粒呈柱状生长;随后的反常晶粒生长过程中会出现晶粒吸收现象,使具有较优取向的晶粒越长越大.X射线衍射图(XRD)显示Au膜具有(111)面取向优势.利用LSW理论模型计算并解释了晶粒反常生长过程.
- 关博江勇许小亮
- 关键词：表面形貌
- 退火对sol-gel法生长的SiO2薄膜特性的影响
- 用正硅酸乙酯(ETOS),乙醇(EtOH),水以及盐酸以一定的比例混合配制溶胶(其中盐酸为催化剂)。以普通浮法玻璃为衬底,用漫渍提拉法制备了厚度为100nm左右的SiO2薄膜。对其进行等温和等时退火,用台阶仪测定其厚度变...
- 郭嘉龚明许小亮张慰萍郭海王燎原陈滢滢刘佩尧刘洪图
- 关键词：退火SOL-GELSIO2薄膜膜厚
- 文献传递
- 感染生长模型的逾渗模拟被引量：2
- 2006年
- 在规则格子点阵中,活跃点逐步动态地以可变概率感染附近空缺点而生成系综.利用感染概率替代系综温度,给粒子划分能级,可以用巨正则系综配分函数表征体系.蒙特卡洛方法模拟验证了该体系在逾渗阈值处的相变行为.提出了一种新的较为普适的估算规则点阵逾渗阈值的方法.对介质基底上金属薄膜的实验研究验证了该感染生长模型的合理性.由此给出了格子点阵的固有属性(逾渗)如何在粒子聚集成团簇这一动态过程中体现出来的物理模型.
- 牟威圩许小亮
- 关键词：逾渗系综蒙特卡洛方法
- 磁控溅射法制备的纳米金薄膜的工艺条件和结构分析被引量：4
- 2006年
- 通过直流溅射沉积法在玻璃衬底上制备了不同生长条件下的纳米金薄膜,利用X射线衍射(XRD)和原子力显微镜(AFM)对其进行表面形貌分析。XRD图显示Au膜具有(111)面择优取向;AFM图显示,在不同的生长阶段Au膜具有不同的表面微结构。总结了不同的工艺条件对薄膜晶粒生长的影响,这项研究对实现金属薄膜的可控性生长有重要意义。
- 许小亮王烨赵亚丽牟威圩施朝淑
- 关键词：晶粒生长纳米金表面形貌磁控溅射
