广州市属高校科技计划项目(62003)
- 作品数：6 被引量：6H指数：2
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- 相关领域：理学机械工程一般工业技术更多>>
- 氢气浓度对MPCVD金刚石膜色度的影响被引量：3
- 2009年
- 利用自行设计的直接耦合石英管微波等离子体化学气相沉积装置,以氢气和甲烷为反应气体,沉积出八个金刚石膜样品。研究了氢气浓度对所沉积金刚石膜色度的影响。结果表明,饱和纯度和色纯度随着H2浓度的增大而升高;当H2浓度达到94.137%时,饱和纯度和色度纯度达到最大,分别为8.5%和9.5%;之后随着H2浓度的进一步升高饱和纯度和色纯度开始下降。
- 杜康徐伟贺中信吴智量彭军
- 关键词：色度学金刚石膜
- MPCVD金刚石膜装置中Ar的光谱特性分析被引量：1
- 2009年
- 在MPCVD装置中,通过调节微波功率、气体流量及反应压强,使用高分辨率的多道光学分析仪采集得到Ar的400-440 nm光谱,利用玻耳兹曼＂斜率法＂得到Ar激发温度Texc.结果显示：随气体流量增加Texc降低;随着微波功率的增加Texc升高;谱线强度随着功率的增加而上升,在550 W及700 W处开始降低继而又上升,此点是制备金刚石膜的功率关键点.
- 杜康徐伟吴智量
- 关键词：MPCVD金刚石膜发射光谱激发温度谱线强度
- 直接耦合式微波等离子体CVD金刚石膜装置的研究被引量：4
- 2009年
- 利用实验室自行设计了直接耦合式微波等离子体化学气相沉积(Chemical Vapor Deposition,CVD)金刚石膜装置,并在石英管反应腔加上磁镜场来更好的约束等离子体,使等离子体球成为"碟盘"状,使沉积面积大、性能稳定、减少在石英管壁和观察窗的沉积,从而有效的提高电离的活性基团利用率,沉积出高质量的(类)金刚石膜.
- 杜康徐伟吴智量贺中信彭军
- 关键词：微波等离子体化学气相沉积金刚石膜磁镜场
- 甲烷浓度对MPCVD金刚石膜色度的影响
- 2009年
- 运用自行设计的直接耦合石英管微波等离子体化学气相沉积(microwave plasmachemical vapor deposition,MPCVD)装置,以氢气和甲烷为反应气体,沉积出八个金刚石膜样品。研究了甲烷浓度对所沉积金刚石膜色度的影响。结果显示随着甲烷浓度的升高,饱和纯度和色纯度逐渐升高,甲烷浓度达到5.863%时,饱和纯度和色度纯度达到最大,分别为8.5%和9.5%,之后随着CH_4浓度的升高饱和纯度和色纯度开始下降。
- 杜康徐伟贺中信吴智量彭军
- 关键词：色度学金刚石膜
- 磁镜场在直接耦合式微波等离子体CVD金刚石膜装置中的应用被引量：2
- 2009年
- 在自行设计出的直接耦合石英管式微波等离子体化学气相沉积fchemical Vapor Deposition，CVD）金刚石膜装置的石英管反应腔加上磁镜场，以更好地约束等离子体，使等离子体球成为“碟盘”状，提高了等离子体球的密度，在基本参数不变的情况下，沉积面积可由ψ30mm增长到50mm，沉积速度由每小时3．3μm增长到3．8μm，反射电流减小，从而减少了在石英管壁和观察窗的沉积，更好地利用微波能量，有效利用电离的活性基团沉积出高质量的（类）金刚石薄膜。
- 杜康徐伟吴智量贺中信彭军
- 关键词：微波等离子体化学气相沉积金刚石膜磁镜场
- 磁镜场在直接耦合式微波等离子体CVD金刚石膜装置中的应用
- 2009年
- 在自行设计的直接耦合石英管式微波等离子体化学气相沉积(Chemical Vapor Deposition,CVD)金刚石膜装置的石英管反应腔加上磁镜场来约束等离子体,使等离子体球成为"碟盘"状,提高了等离子体球的密度,在基本参数为反应压力2.5kPa、基片温度450℃、Ar、CH4、H2气体流量分别为40sccm、4sccm、60sccm,则沉积面积可由30mm增长到50mm,沉积速率由3.3μm/h增长到3.8μm/h,反射电流由15μA减小到5μA。从而大大减少了薄膜在石英管壁和观察窗上的沉积,更好地利用微波能量,有效利用电离的活性基团沉积出高质量的金刚石薄膜。
- 杜康徐伟吴智量贺中信彭军
- 关键词：微波等离子体化学气相沉积金刚石膜磁镜场
