天津市应用基础与前沿技术研究计划(043801011)
- 作品数：11 被引量：22H指数：3
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- ZrN、WN的调制比例对ZrN／WN纳米多层膜结构与机械性能的影响
- 利用射频磁控溅射系统制备了调制周期A等于30 nm的一系列具有不同调制比例的 ZrN／WN纳米多层膜。X射线衍射仪、表面轮廓仪及纳米力学测试系统研究表明:ZrN／WN纳米多层膜的界面清晰,调制周期性良好;适当的ZrN和W...
- 杨瑾王明霞李德军
- 关键词：磁控溅射
- ZrN、WN的调制比例对ZrN/WN纳米多层膜结构与机械性能的影响
- 利用射频磁控溅射系统制备了调制周期Λ等于30nm的一系列具有不同调制比例的ZrN/WN纳米多层膜。X射线衍射仪、表面轮廓仪及纳米力学测试系统研究表明:ZrN/WN纳米多层膜的界面清晰,调制周期性良好;适当的ZrN和WN调...
- 杨瑾王明霞李德军
- 关键词：磁控溅射
- 调制周期对TaN/VN纳米多层膜的影响被引量：3
- 2007年
- 本研究选择钽和钒的氮化物作为个体层材料,利用射频磁控溅射系统制备TaN、VN及一系列的TaN/VN多层薄膜。通过XRD和纳米力学测试系统分析了该体系合成以后的晶体结构、调制周期对力学性能的影响。结果表明:多层膜的纳米硬度值普遍高于两种个体材料混合相的硬度值;当调制周期为30 nm时TaN/VN多层膜达到最大硬度31 GPa,结晶出现多元化,多层膜体系的硬度、弹性模量以及耐磨性能均达到最佳效果。
- 张学华曹猛杨瑾刘桐王明霞邓湘云李德军
- 关键词：射频磁控溅射调制周期
- 不同靶材制备TaN单层薄膜的晶体结构与力学性能被引量：3
- 2007年
- 以钽氮化物为个体层材料,利用FJL560CI2型超高真空射频磁控与离子束联合溅射系统,制备以TaN和金属Ta为靶材的两种TaN单层薄膜.通过XRD和纳米力学测试系统分析它们的晶体结构和TaN靶材对薄膜机械性能的影响.结果表明,TaN靶材制备的TaN单层膜的纳米硬度值普遍高于Ta靶材的;当工作气压为0.4 Pa时,TaN单层膜的硬度最大,即35.4 GPa,其结晶出现多元化,使单层膜的硬度、弹性模量以及膜基结合性能均达到最佳.
- 张学华曹猛杨瑾刘桐李德军
- 关键词：射频磁控溅射
- ZrC/ZrB_2纳米多层膜的微结构和耐磨性被引量：1
- 2007年
- 采用射频磁控溅射方法在Si(100)基底上制备了一系列ZrC/ZrB2纳米多层膜和ZrC,ZrB2单层薄膜.通过扫描电子显微镜(SEM),MS-T3000摩擦磨损仪及表面轮廓仪(XP-2)研究了薄膜的微结构和耐磨性.结果表明,多层膜的界面清晰,调制周期性好,周期为3.52 nm的多层膜摩擦系数最小,约为0.24;ZrC/ZrB2纳米多层膜的耐磨性优于ZrC和ZrB2单层薄膜;ZrC/ZrB2多层膜耐磨性提高的主要原因是,调制结构中大量界面的存在,提高了薄膜的韧性,从而增强了薄膜的耐磨性能.
- 杨瑾李德军
- 关键词：磁控溅射微结构耐磨性
- CrN／ZrN纳米多层膜的合成及其结构和性能的研究
- 利用非平衡直流磁控双靶溅射在不同的基底转速(4-11 r／min)和不同反应气体流量下制备一系列的具有纳米周期的CrN／ZrN多层膜。利用X射线衍射,俄歇电子能谱,X射线光电子能谱表征了薄膜的成分和结构,利用纳米力学测试...
- 张晶晶王明霞杨瑾刘谦祥李德军
- 关键词：磁控溅射多层膜
- 工作气压对TaN/VN纳米多层膜结构与机械性能的影响被引量：1
- 2007年
- 本研究选择钽和钒的氮化物作为个体层材料,利用超高真空射频磁控溅射系统制备TaN、VN及一系列的TaN/VN多层薄膜。通过XRD,纳米力学测试系统分析了该体系合成中工作气压对多层膜结构与机械性能的影响。结果表明多层膜的纳米硬度值都高于两种个体材料混合相的硬度值;当工作气压为0.2Pa时,结晶出现多元化,多层膜体系的硬度、弹性模量、应力均达到最佳效果,最大硬度达到31GPa。多层膜的机械性能改善明显与工作气压的变化有直接的联系。证明了通过选择合适的工作气压条件,合成具有高硬度的纳米多层膜是可以实现的。
- 张学华曹猛乔林杨瑾刘桐李德军
- 关键词：射频磁控溅射工作气压
- 调制周期对TaN/NbN纳米多层膜力学性能的影响被引量：1
- 2007年
- 本研究选择钽和铌的氮化物作为个体层材料,利用FJL560CI2型超高真空射频磁控与离子束联合溅射系统制备TaN、NbN及一系列的TaN/NbN多层薄膜。通过XRD和纳米力学测试系统以及摩擦磨损仪分析了该体系合成以后的晶体结构,以及调制周期对机械性能的影响。结果表明:多层膜的纳米硬度值普遍高于两种个体材料混合相的硬度值;当调制周期为8.5 nm时,TaN/NbN多层膜达到最大硬度30 GPa,结晶出现多元化,多层膜体系的硬度、应力、弹性模量以及膜-基结合性能均达到最佳效果。
- 张学华曹猛王明霞刘桐李德军
- 关键词：射频磁控溅射调制周期
- N_2分压对ZrN/WN纳米多层膜缺陷性质与力学性能的影响被引量：2
- 2007年
- 利用射频磁控溅射系统在不同N2分压的条件下,制备了一系列ZrN/WN纳米多层膜.借助慢正电子湮没技术分析了样品的缺陷性质,采用纳米压痕仪研究了多层膜的力学性能.结果发现:N2分压为0.4Pa的多层膜具有最小的空位型缺陷浓度,其中心层和膜基结合层的平均S参数分别为0.4402和0.4641,而较低或较高的N2分压都可能导致空位型缺陷浓度的增加.随着空位型缺陷浓度的减小,多层膜的硬度和临界载荷增大.对于空位型缺陷浓度最小的多层膜,其硬度和临界载荷达到最大值,分别为34.8GPa和100mN,说明较低的缺陷浓度有利于提高多层膜的力学性能.
- 王立群王明霞李德军杨瑾余大书宿杰
- 关键词：力学性能
- Ar／N2气体比例对ZrN／WN纳米多层膜的结构和性能的影响
- 选择Zr和W的氮化物作为个体层材料,利用FJKS60CI2型超高真空射频磁控与离子束联合溅射系统制备ZrN,WN 及一系列的ZnN／WN多层薄膜。通过X射线衍射仪,俄歇电子能谱和纳米力学测试系统分析了该体系合成中Ar／N...
- 王明霞张晶晶杨瑾刘谦祥李德军
- 关键词：射频磁控溅射
