您的位置: 专家智库 > >

国家自然科学基金(51171197)

作品数:12 被引量:47H指数:5
相关作者:肖金泉赵彦辉于宝海宫骏孙超更多>>
相关机构:中国科学院金属研究所温州职业技术学院沈阳鼓风机(集团)有限公司更多>>
发文基金:国家自然科学基金辽宁省自然科学基金国家重点基础研究发展计划更多>>
相关领域:一般工业技术金属学及工艺理学更多>>

文献类型

  • 12篇中文期刊文章

领域

  • 9篇一般工业技术
  • 8篇金属学及工艺
  • 1篇理学

主题

  • 8篇磁场
  • 7篇电弧离子镀
  • 7篇离子镀
  • 4篇轴向磁场
  • 3篇TIN薄膜
  • 2篇真空
  • 2篇耐腐蚀
  • 2篇耐腐蚀性
  • 2篇溅射
  • 2篇横向磁场
  • 2篇腐蚀性
  • 2篇磁控
  • 2篇磁控溅射
  • 1篇氮化
  • 1篇氮化钛
  • 1篇氮化钛薄膜
  • 1篇等离子
  • 1篇等离子体
  • 1篇等离子体渗氮
  • 1篇低温低压

机构

  • 10篇中国科学院金...
  • 2篇温州职业技术...
  • 1篇大连理工大学
  • 1篇深圳职业技术...
  • 1篇沈阳大学
  • 1篇中国科学技术...
  • 1篇温州大学
  • 1篇天津职业技术...
  • 1篇沈阳鼓风机(...

作者

  • 9篇肖金泉
  • 8篇赵彦辉
  • 7篇于宝海
  • 5篇孙超
  • 5篇宫骏
  • 3篇郎文昌
  • 2篇雷浩
  • 2篇杨文进
  • 1篇林国强
  • 1篇高斌
  • 1篇王铁钢
  • 1篇闻立时
  • 1篇王向红
  • 1篇刘忠海
  • 1篇张小波
  • 1篇赵升升
  • 1篇王美涵
  • 1篇贾莹
  • 1篇陈育秋
  • 1篇沈明礼

传媒

  • 3篇真空科学与技...
  • 2篇中国表面工程
  • 1篇南昌大学学报...
  • 1篇表面技术
  • 1篇材料研究学报
  • 1篇真空与低温
  • 1篇中国有色金属...
  • 1篇Journa...
  • 1篇Acta M...

年份

  • 1篇2020
  • 1篇2017
  • 6篇2015
  • 2篇2014
  • 2篇2013
12 条 记 录,以下是 1-10
排序方式:
Effect of Axial Magnetic Field on the Microstructure, Hardness and Wear Resistance of TiN Films Deposited by Arc Ion Plating被引量:4
2015年
TiN films were deposited on stainless steel substrates by arc ion plating. The influence of an axial magnetic field was examined with regard to the microstructure, chemical elemental composition, mechanical properties and wear resistance of the films. The results showed that the magnetic field puts much effect on the preferred orientation, chemical composition, hardness and wear resistance of TiN films. The preferred orientation of the TiN films changed from(111) to(220) and finally to the coexistence of(111) and(220) texture with the increase in the applied magnetic field intensity. The concentration of N atoms in the TiN films increases with the magnetic field intensity, and the concentration of Ti atoms shows an opposite trend. At first, the hardness and elastic modulus of the TiN films increase and reach a maximum value at 5 m T and then decrease with the further increase in the magnetic field intensity. The high hardness was related to the N/Ti atomic ratio and to a well-pronounced preferred orientation of the(111) planes in the crystallites of the film parallel to the substrate surface. The wear resistance of the Ti N films was significantly improved with the application of the magnetic field, and the lowest wear rate was obtained at magnetic field intensity of 5 m T. Moreover, the wear resistance of the films was related to the hardness H and the H3/E*2 ratio in the manner that a higher H3/E*2 ratio was conducive to the enhancement of the wear resistance.
Yan-Hui ZhaoWen-Jin YangChao-Qian GuoYu-Qiu ChenBao-Hai YuJin-Quan Xiao
关键词:氮化钛薄膜电弧离子镀轴向磁场TIN薄膜
电弧离子镀的旋转横向磁场弧源设计被引量:6
2013年
电弧离子镀工艺中电弧蒸发产生的大颗粒污染严重影响了所沉积涂层的性能。为了从源头上解决大颗粒难题,本文提出了一种新的旋转横向磁场的设计思路,通过频率和强度可调且覆盖整个靶面的旋转横向磁场控制弧斑的运动。通过有限元模拟磁场的分布,对旋转横向磁场控制的电弧离子镀弧源进行了优化设计。并根据方案制作了旋转磁场发生装置及其电源,使该弧源的旋转磁场具有多模式可调频调幅的功能,用以改善弧斑的放电形式,提高靶材刻蚀均匀性和靶材利用率,减少靶材大颗粒的发射,用以制备高质量的薄膜以及功能薄膜,以拓展电弧离子镀的应用范围。
赵彦辉郎文昌肖金泉宫骏孙超
关键词:电弧离子镀
旋转横向磁场对电弧离子镀弧斑运动的影响被引量:2
2015年
研究了旋转横向磁场对电弧离子镀弧斑运动的影响规律,采用有限元分析软件FEMM对旋转横向磁场的分布进行了模拟,考察了不同频率(80~210Hz)及电磁线圈励磁电流对弧斑运动的影响。从电弧斑点放电的物理机制出发,探讨了不同频率和磁场线圈电流对电弧离子镀弧斑运动的影响机制。结果表明,随着旋转横向磁场强度和频率的提高,使弧斑逐渐从聚集的斑点态(或者弱分散的团絮态)转变为大面积分布在靶面较强的分散弧斑絮线,最后转变为完全分布在整个靶面的强分散弧斑线,弧斑分裂强烈,产生的弧光等离子体更加均匀细腻。随着瞬态弧斑线在靶面分布面积的增加,弧压增加,弧电流密度急剧下降,靶材利用率达到85%以上。旋转横向磁场的应用,带来了弧斑大面积稳定放电、等离子离化率、密度及靶材利用率大幅度提高的多重效应。
郎文昌赵彦辉肖金泉宫骏孙超于宝海闻立时
关键词:电弧离子镀有限元分析
低温低压电弧等离子体渗氮处理316不锈钢的耐腐蚀性能被引量:4
2017年
在低温下对316奥氏体不锈钢进行低压电弧等离子体渗氮处理,研究了渗氮处理对不锈钢耐腐蚀性能的影响。结果表明:渗氮层有两个子层,由纳米晶扩张奥氏体和少量的Cr N化合物组成的外表层和单一结构的扩张奥氏体内层。由于低压电弧等离子体浓度高,在400℃渗氮1 h得到的渗氮层厚度达到15μm,表现出很高的渗氮速率。纳米晶外表层是渗氮不锈钢耐腐蚀性能的关键,促进了钝化膜的生成,渗氮后试样表面形成的钝化膜厚度达到27 nm,比原始不锈钢钝化膜的2倍还多。渗氮不锈钢试样的腐蚀电流(3.55×10^(-8)A/cm^2)比基材的腐蚀电流(1.99×10^(-7)A/cm^2)降低一个数量级,表明渗氮后试样的耐腐蚀性能提高了。
杨文进赵彦辉沈明礼刘占奇肖金泉宫骏于宝海孙超
关键词:材料失效与保护耐腐蚀性能
沉积工艺参数对电弧离子镀薄膜沉积速率影响的研究进展被引量:6
2020年
阴极电弧离子镀技术作为工业应用最多的真空镀膜技术之一,近年来得到了长足发展。但是仍存在一些技术问题尚未完全解决,如大颗粒污染、所沉积的薄膜残余应力大、不能实现低温沉积等。另一方面,电弧离子镀的沉积效率仍有待提高,尽管与同属物理气相沉积(PVD)技术的磁控溅射相比,拥有较高的沉积速率,但对于沉积厚膜(厚度超过20μm甚至50μm)而言,其通常的沉积速率(一般在1~10μm/h内)较低,仍需要较长时间。针对这一问题,总结了不同沉积工艺参数对沉积速率的影响,综述了近年来电弧离子镀技术在提高沉积速率方面的研究进展,以期对该技术的发展提供一定的技术支持。
赵彦辉史文博刘忠海赵升升王铁钢于宝海
关键词:电弧离子镀沉积速率磁场辅助阳极
轴向磁场对电弧离子镀CrN薄膜显微组织及耐腐蚀性能的影响被引量:1
2015年
采用磁场增强电弧离子镀技术,通过改变位于靶材后方的轴向磁场强度,在2024Al合金表面沉积CrN薄膜,研究磁场强度对薄膜显微组织、显微硬度及耐腐蚀性能的影响。结果表明:随着磁场强度的增加,CrN薄膜结构由Cr2N与CrN的混合相逐渐转变为CrN的单一相结构;磁场强度对薄膜表面形貌有明显影响,随着磁场强度的增加,薄膜表面小颗粒的数量逐渐减少,较大尺寸颗粒的数量有所增加;CrN薄膜的显微硬度和弹性模量在磁场强度为7960 A/m时达到最大值,分别为23.9 GPa与392.6 GPa;CrN薄膜的阳极极化曲线的腐蚀电位随着磁场强度的增加先增加而后降低,在磁场强度为3184 A/m时,具有最大值,即具有较好的抗腐蚀性。
赵彦辉李天书于宝海肖金泉林国强
关键词:CRN薄膜磁场电弧离子镀显微组织耐腐蚀性
轴向磁场对电弧离子镀TiN薄膜组织结构及力学性能的影响被引量:4
2015年
为了研究轴向磁场对薄膜结构及力学性能的影响规律,采用电弧离子镀方法在高速钢基体上沉积了TiN薄膜,利用X射线衍射仪(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)、轮廓仪和纳米压痕仪考察了外加轴向磁场对薄膜化学成分、组织结构、硬度及弹性模量的影响。结果表明:外加轴向磁场对TiN薄膜的组织结构及力学性能有明显影响。磁场强度越高,薄膜表面颗粒及溅射坑越大,薄膜表面粗糙度增大;薄膜中N含量随着磁场强度增加而增大,而Ti含量则显示出相反的趋势;磁场对薄膜择优取向有明显影响,随着磁场强度增加,薄膜(111)取向增强,而后逐渐转变为(220)择优;薄膜硬度和弹性模量随着磁场强度增加先增加而后降低,在磁场强度为50Gs时分别达到最大值28.4GPa与415.4GPa。
赵彦辉郭朝乾杨文进陈育秋肖金泉于宝海
关键词:电弧离子镀轴向磁场TIN
轴向磁场强度对真空电弧离子镀TiN薄膜的影响
2014年
采用电弧离子镀方法在不锈钢基体上沉积了TiN薄膜,考察了弧靶与基体之间等离子通道上的轴向磁场强度(0-300高斯)对薄膜表面形貌、组织结构、硬度及弹性模量的影响。结果表明,随着轴向磁场的不断增强,等离子体密度及能量密度不断增大,阴极靶斑点处被熔化的靶材区域增大,阴极斑点附近局部蒸气压升高,薄膜表面较大尺寸的大颗粒数、凹坑数量会因此增多,薄膜粗糙度会因此增大;生长取向由(111)面择优转为(220)面择优并最终趋向无择优取向;薄膜表面硬度及弹性模量均呈现先增大后减小的趋势。
徐焱良王向红赵彦辉高斌肖金泉于宝海
关键词:电弧离子镀轴向磁场TIN薄膜
有机器件中低温低损伤磁控溅射沉积透明导电薄膜技术的研究进展
2013年
传统磁控溅射技术在有机衬底或有机光电材料上沉积透明导电氧化物阴极薄膜时,荷能粒子轰击有机衬底或有机光电材料会造成衬底或材料的温升和结构损伤,最终影响有机光电器件的性能与寿命,因此实现有机器件中透明导电阴极薄膜的低温低损伤磁控溅射制备过程是一个非常重要的研究课题。本文总结了过去十几年来低温低损伤磁控溅射沉积透明导电薄膜技术的进展,并提出了在确保低温低损伤溅射沉积的前提下,解决薄膜沉积速率较慢、靶材利用率较低和薄膜均匀性较差等问题的途径。探索出一种低温低损伤高速沉积性能优异透明导电薄膜的制备技术,是提高有机光电器件性能的关键。
雷浩王美涵肖金泉宫骏孙超
关键词:磁控溅射
Mechanical,Microstructural and Tribological Properties of Reactive Magnetron Sputtered Cr-Mo-N Films被引量:10
2015年
The Cr-Mo-N films were deposited on high speed steel(HSS) substrates by a DC reactive magnetron sputtering equipment coupled with two horizontal magnetron sources.The effects of substrate negative bias voltage(V_b),substrate temperature(T_s) and gas flow ratio(R= N_2/(N_2 + Ar)) on the microstructure,morphology,as well as the mechanical and tribological properties of the Cr-Mo-N films were investigated by virtue of X-ray diffraction(XRD) analysis,X-ray photoelectron spectroscopy(XPS),field emission scanning electron microscopy(FESEM),atomic force microscopy(AFM),nano-indentation test,ball-on-disk tribometer,and Rockwell indenter et al.With increasing V_b to-100 V,the preferred orientation of the films changed from(111) to(200) and their mechanical and tribological properties were improved gradually,too.It was also found that T_s gave a significant effect on mechanical property enhancement.When the T_s reached 300 ℃,the film obtained the highest hardness and effective elastic modulus of approximately 30.1 and 420.5 GPa,respectively and its critical load increased to about 54 N.With increasing R,the phase transformation from body-centered-cubic(bcc) Cr and hexagonal CrMoN_x multiphase to single face-centered-cubic(fcc) solid solution phase was observed.The correlations between values of hardness(H),effective elastic modulus(E~*),HIE~*,H^3/E^(*2),elastic recovery(1/14) and tribological properties of the films were also investigated.The results showed that the elastic recovery played an important role in the tribological behavior.
Dongli QiHao LeiTiegang WangZhiliang PeiJun GongChao Sun
关键词:FILMSMAGNETRONCRI
共2页<12>
聚类工具0