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氮离子束辅助电弧离子镀对TiN膜层中金属“大颗粒”影响的研究被引量：2: 2010年; 采用俄罗斯UVN 0.5D2I离子束辅助电弧离子镀沉积设备,在高速钢W18Cr4V基材上沉积TiN膜层。研究了N离子束轰击能量对膜层表面形貌、相结构、显微硬度的影响。结果表明:N离子束辅助轰击,能够有效地减少和降低膜层表面"大颗粒"的数量和尺寸,消除了膜层中较软Ti2N相,得到了单一的TiN相。随着轰击能量的增加,TiN相结构不发生改变,TiN(111)取向逐渐减弱,而(200)取向逐渐增强。N离子束辅助轰击能量的增加,提高了膜层的显微硬度。; 吕树国刘常升张罡毕监智金光李玉海; 关键词：电弧离子镀 TIN膜层离子束大颗粒

氮离子束轰击对电弧离子镀已沉积的TiAlN膜层性能影响的研究被引量：1: 2010年; 采用俄罗斯UVN 0.5D2I离子束辅助电弧离子镀沉积设备,利用N离子束轰击高速钢W18Cr4V基材上电弧离子镀已沉积完毕的TiAlN膜层。研究了不同能量的N离子束轰击对TiAlN膜层表面形貌、显微硬度和相结构的影响。SEM分析表明:TiAlN膜层表面"大颗粒"消失,凹坑浅而平整,粗糙度降低。X射线衍射分析表明:无N离子轰击时,TiAlN膜层是由TiAlN相和Ti2AlN相组成;随着轰击能量的增加,TiAlN膜层的相结构没有发生变化,但TiAlN(111)取向减弱,而(200)和(220)取向均增强;Ti2AlN(211)取向减弱。力学性能测试表明:N离子束轰击,使膜层的显微硬度由原来的2 100HV0.01提高到2 300HV0.01。; 吕树国刘常升张罡毕监智金光李玉海; 关键词：离子束电弧离子镀显微硬度

氮离子束轰击W18Cr4V高速钢的表面效应被引量：2: 2009年; 采用俄罗斯UVN 0.5D2 I离子束辅助电弧离子镀沉积设备,对高速钢W 18Cr4V基材表面进行氮离子束轰击,研究了氮离子束轰击能量对表面形貌、相结构及显微硬度的影响.研究表明:氮离子束轰击后基材表面原有划痕消失,表面趋于光滑.表面层出现(Fe,Cr),CrN,Cr2N和FeN相;随着氮离子束轰击能量的增加,(Fe,Cr)相结构未发生变化,CrN(111)衍射峰逐渐增强,Cr2N(211)衍射峰逐渐减弱;FeN(210)衍射峰先增强而后消失,出现Fe2N相.氮离子束轰击后的表面显微硬度由原来的900HV0.01升高到1 230 HV0.01.; 吕树国刘常升张罡李玉海毕监智金光; 关键词：离子束显微硬度相结构高速钢

强流脉冲离子束辐照效应的数值模拟研究进展: 2009年; 强流脉冲离子束(HIPIB)作为一种新型的表面改性技术在表面工程领域具有广阔的应用前景。综述了计算机模拟HIPIB辐照效应的国内外研究进展,对不同类型辐照效应的模拟结果进行了系统分析,为进一步探索HIPIB的辐照机理提供了参考依据。; 丰新宇张罡; 关键词：强流脉冲离子束数值模拟

离子束辅助轰击对电弧离子镀沉积TiAlN膜层的影响被引量：3: 2009年; 采用俄罗斯UVN0.5D2I离子束辅助电弧离子镀沉积设备,在高速钢W18Cr4V基材上沉积TiAlN膜层;利用N离子束对膜层沉积之前的预处理和膜层沉积时的辅助轰击,并用SEM、X射线衍射和力学测试等手段研究了N离子束轰击对膜层表面形貌、相结构、显微硬度影响.结果表明:N离子束的预处理在基材表面形成了一定厚度N的过渡层;N离子束对膜层的辅助轰击,明显地降低了膜层表面"大颗粒"的密度,改善了膜层的表面形貌;同时,形成了由过渡层成分与膜层成分动态混合的扩散层;无N离子轰击时,TiAlN膜层是由(TiAl)N相和Ti2AlN相组成;轰击能量为7.5 keV时,TiAlN膜层也是由(TiAl)N相和Ti2AlN相组成,但(TiAl)N(111)取向减弱,而(200)和(220)取向均增强;Ti2AlN(211)及(301)取向均减弱.N离子束辅助轰击,使膜层的显微硬度由原来的21 GPa提高到25.3 GPa.; 吕树国刘常升李玉海张罡毕监智金光; 关键词：离子束电弧离子镀显微硬度表面形貌

强流脉冲离子束制备功能膜研究进展: 2005年; 强流脉冲离子束在离子能量密度达到5J／cm^2的条件下，辐照靶材表面形成二次烧蚀等离子体，可以在基材表面沉积与靶材化学成分一致性良好的膜层。评述了近年强流脉冲离子束沉积功能膜的研究进展，为进一步进行膜层沉积机理和工艺研究提供理论依据。; 杨明海张罡姚俊杨曦; 关键词：强流脉冲离子束功能膜

氮离子束轰击对电弧离子镀TiN膜层的作用被引量：2: 2009年; 电弧离子镀膜层中"大颗粒"的存在,降低了膜层质量,限制了其进一步应用。采用俄罗斯UVN0.5D2I离子束辅助沉积电弧离子镀设备,对高速钢W18Cr4V上沉积的TiN膜层进行了氮离子束轰击。结果表明:TiN膜层表面"大颗粒"完全消失,凹坑浅而平整,粗糙度降低。膜层中较软的Ti和Ti2N向TiN转变,TiN(111)取向逐渐减弱,而(200)取向逐渐增强。膜层的显微硬度由原来的1980HV1N升高到2310HV1N。; 吕树国刘常升李玉海张罡毕监智金光; 关键词：轰击电弧离子镀 TIN膜显微硬度

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国际科技合作与交流专项项目(2004DFA4800)