教育部科学技术研究重点项目(104023)
- 作品数：3 被引量：4H指数：1
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- 超薄Fe层在反铁磁NiO(001)面上沉积的研究被引量：1
- 2006年
- 通过分子束外延(MBE)和脉冲激光沉积(PLD)方法,将1—10个Fe原子层(ML)以楔形方式沉积到反铁磁单晶NiO(001)基片上.表面磁光克尔效应的原位测试结果表明:通过MBE沉积的Fe原子层在FeNiO界面处产生了约2ML的磁死层;而通过PLD沉积的Fe原子层在FeNiO界面处产生了约3ML的磁死层.X射线光电子能谱对FeNiO界面进行研究的结果表明,在Fe原子与单晶NiO间发生了界面化学反应.
- 王立锦滕蛟于广华
- 关键词：磁性薄膜X射线光电子能谱
- 不同能量沉积方式对薄膜界面反应的影响
- 2005年
- 通过分子束外延(MBE)和脉冲激光沉积(PLD)将1～10个Fe原子层(ML)以楔型(wedge-shape)方式分别沉积到NiO(001)基片上,并对其进行磁光克尔效应(MOKE)原位测试.结果表明:通过MBE这种低能量沉积方式沉积的Fe原子层在Fe/NiO界面处产生了约2 ML的磁死层;而通过PLD这种较高能量沉积方式沉积的Fe原子层在Fe/NiO界面处产生了约3 ML的磁死层.X射线光电子能谱(XPS)研究Fe/NiO界面的结果表明:两种沉积方式都能使Fe原子与单晶NiO在界面处发生化学反应,这是导致磁死层的一个重要原因;对于MBE和PLD沉积方式来说,从靶材上被蒸发或溅射下来到达基片的原子所具有的能量很低,分别约为0.1 eV和1.0 eV,反应层较浅;磁控溅射沉积Fe原子的能量约为几～十几电子伏特,导致的反应深度约1.5 nm.
- 于广华杨钰冯春韩刚腾蛟
- 关键词：磁性薄膜X射线光电子能谱
- Bi底层对FePt薄膜的影响被引量：3
- 2006年
- 利用磁控溅射的方法,在玻璃基片上制备了以Bi为底层的FePt薄膜,经不同温度真空热处理得到L10-FePt薄膜.研究了Bi做底层对FePt薄膜的有序化温度及矫顽力Hc的影响.实验结果表明:以Bi做底层的FePt薄膜在350℃实现低温有序,同时其Hc也有大幅度提高,并且可以在更大成分范围内获得Hc较高的L10-FePt薄膜.利用X射线光电子能谱研究了薄膜中Bi原子的分布情况,利用X射线衍射研究了薄膜的晶体学结构变化.结果表明,Bi底层在退火过程中的扩散促进了FePt薄膜有序度的升高.
- 冯春李宝河韩刚滕蛟姜勇刘泉林于广华
- 关键词：扩散
