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中国博士后科学基金(G2000068306)

作品数:2 被引量:3H指数:1
相关作者:李梦轲魏强张威曹璐李桂芳更多>>
相关机构:辽宁师范大学兰州大学更多>>
发文基金:中国博士后科学基金辽宁省教育厅资助项目更多>>
相关领域:电子电信更多>>

文献类型

  • 2篇中文期刊文章

领域

  • 2篇电子电信

主题

  • 1篇电子学
  • 1篇电子学特性
  • 1篇栅介质
  • 1篇微米
  • 1篇泄漏电流
  • 1篇纳米MOSF...
  • 1篇高K栅介质

机构

  • 1篇兰州大学
  • 1篇辽宁师范大学

作者

  • 1篇曹璐
  • 1篇张威
  • 1篇杨建红
  • 1篇魏强
  • 1篇李梦轲
  • 1篇刘辉兰
  • 1篇李桂芳

传媒

  • 2篇微纳电子技术

年份

  • 2篇2007
2 条 记 录,以下是 1-2
排序方式:
高k纳米MOSFET的关态泄漏电流的研究被引量:1
2007年
对纳米MOSFET关断态的栅电流、漏电流和衬底电流进行了模拟,指出边缘直接隧穿电流(IEDT)远远大于传统的栅诱导泄漏电流(IGIDL)、亚阈区泄漏电流(ISUB)及带间隧穿电流(IBTBT)。对50 nm和90 nm MOSFET器件的Id-Vg特性进行了比较,发现在高Vdd下,关态泄漏电流(Ioff)随IEDT的增加而不断增大,并且器件尺寸越小,Ioff越大。高k栅介质能够减小IEDT,进而减小了Ioff,其中HfSiON、HfLaO可以使边缘隧穿电流减小2~5个数量级且边缘诱导的势垒降低(FIBL)效应很小。但当栅介质的k>25以后,由于FIBL效应,关态泄漏电流反而增大。
杨建红李桂芳刘辉兰
关键词:高K栅介质
纳/微米ZnO同质结器件的制备及电子学特性研究被引量:2
2007年
用低压化学气相沉积法制备了T形和V形纳/微米ZnO同质结,用扫描电子显微镜(SEM)和高倍光学成像显微镜观察了同质结的结构与生长形貌,分析了其结构及生长机理。利用ZnO同质结组装成了纳/微米ZnO同质结器件,分析研究了这些器件的I-V特性,并对I-V特性变化规律进行了分析讨论。
曹璐李梦轲魏强张威
关键词:电子学特性
共1页<1>
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