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国家重点基础研究发展计划(004CB619302)

作品数：1 被引量：1H指数：1
相关作者：王剑锋徐可为宋忠孝范多旺更多>>
相关机构：兰州交通大学西安交通大学更多>>
发文基金：国家自然科学基金国家重点基础研究发展计划更多>>
相关领域：一般工业技术金属学及工艺更多>>

文献类型

  • 1篇中文期刊文章

领域

  • 1篇金属学及工艺
  • 1篇一般工业技术

主题

  • 1篇氮分压
  • 1篇溅射
  • 1篇NB
  • 1篇SI
  • 1篇磁控
  • 1篇磁控溅射
  • 1篇N

机构

  • 1篇西安交通大学
  • 1篇兰州交通大学

作者

  • 1篇范多旺
  • 1篇宋忠孝
  • 1篇徐可为
  • 1篇王剑锋

传媒

  • 1篇稀有金属材料...

年份

  • 1篇2006
共 1 条 记 录，以下是 1-1
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排序方式：
磁控溅射氮分压对Nb-Si-N薄膜结构和性能的影响被引量：1
2006年
用反应磁控溅射法在不同的氮分压下沉积了Nb-Si-N薄膜。结果表明:Nb-Si-N膜的成分、结构和性能随氮分压的改变而不同。随氮分压的增加,Nb-Si-N膜的Nb/Si比和表面粗糙度减小;薄膜的电阻值和微硬度增加。Nb-Si-N膜的结构为纳米晶NbN与类似Si3N4非晶相组成的纳米复合结构,且随着氮分压的增加,Nb-Si-N膜的非晶倾向增强,晶粒尺寸减小。
王剑锋宋忠孝徐可为范多旺
关键词：磁控溅射氮分压
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