长春市科技计划项目(2004176)
- 作品数：4 被引量：12H指数：2
- 相关作者：刘兆政刘耀辉蒋百灵狄驰于思荣更多>>
- 相关机构：吉林大学西安理工大学中国石油吉林石化公司更多>>
- 发文基金：长春市科技计划项目吉林省科技厅资助项目更多>>
- 相关领域：金属学及工艺一般工业技术更多>>
- Al靶中稀土Y含量对薄膜CrAlTiN的影响被引量：1
- 2008年
- 研究了Al靶中加入不同含量的稀土Y对CrAlTiN薄膜的影响。应用SEM、EDS、XPS、显微硬度计对薄膜样品进行分析。结果表明,在Al靶材中加入稀土Y后,不但提高了薄膜的厚度,而且随着稀土Y含量的增加,薄膜的表面相逐渐由CrN、Cr2N向Cr变化,Al的含量也是随着Y含量的增加而增加。CrAlTiN薄膜的硬度随着稀土Y含量的升高而降低,并且随着Y含量的升高而逐渐趋于1500 HV。
- 刘兆政刘耀辉蒋百灵于思荣
- 关键词：磁控溅射稀土YSEMXPS
- 对薄膜CrAlTi(Y)N硬度的研究被引量：6
- 2008年
- 本文研究了Al靶中加入不同含量的稀土钇(Y)对CrAlTiN薄膜硬度的影响。并应用原子力显微镜(AFM)、能谱仪(EDS)、纳米压入仪、显微硬度计对薄膜样品进行分析。结果表明,CrAlTiN薄膜中稀土元素Y的加入使得Al元素单位时间内沉积量提高,CrAlTiN薄膜晶粒细化,薄膜的表面相由CrN、Cr2N向Cr逐渐变化。当Y<0.84%时CrAlTiN薄膜的硬度随着稀土Y含量的升高而降低;当Y>0.84%时CrAlTiN薄膜的硬度随着Y含量的升高而升高。
- 刘兆政刘耀辉蒋百灵
- 关键词：磁控溅射稀土YAFMXPS
- 偏压对CrAlTi(Ce)N薄膜的制备和性能的影响被引量：6
- 2011年
- 本文通过使用Teer-UDP450磁控溅射设备制备CrAlTi(Ce)N薄膜,实验过程中改变偏压。使用了原子力显微镜、X射线衍射仪对CrAlTi(Ce)N薄膜进行分析和研究。试验结果表明:CrAlTi(Ce)N薄膜生长速度随着偏压值的增加而减小;CrAlTi(Ce)N薄膜中XRD衍射峰发生变化,偏压值从60 V升高到100 V,(111)峰择优生长趋势明显,偏压120 V时出现非晶态;CrAlTi(Ce)N薄膜的粗糙度随着偏压值的增加而降低;CrAlTi(Ce)N薄膜的柱状晶尺寸随着偏压值的升高而减小,但当偏压值为120V时,CrAlTi(Ce)N薄膜为非柱状晶结构,CrAlTi(Ce)N薄膜表面出现弹坑形状。
- 刘兆政刘耀辉佟玉玲狄驰
- 关键词：磁控溅射偏压原子力显微镜
- 钇对CrAlTiN薄膜基体结合强度的影响研究被引量：2
- 2009年
- 本文研究了Al靶中加入不同含量的稀土钇(Y)对CrAlTiN薄膜结合强度的影响。并应用原子力显微镜(AFM)、能谱仪(EDS)、纳米压入仪、划痕试验仪、激光共焦显微镜(CLSM)对薄膜样品进行了观察与分析。结果表明,CrAlTiN薄膜中稀土元素Y的加入使得Al元素单位时间内沉积量提高,CrAlTiN薄膜晶粒细化,提高其塑性和韧性,减少裂纹倾向,从而提高了CrAlTiN薄膜与基体的结合强度。
- 刘兆政刘耀辉蒋百灵
- 关键词：稀土Y磁控溅射结合力AFM
