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浙江省科技计划项目(2011C37001)

作品数:2 被引量:5H指数:2
相关作者:席俊华季振国刘永强杨凌霞刘学丽更多>>
相关机构:杭州电子科技大学更多>>
发文基金:浙江省科技计划项目国家自然科学基金浙江省自然科学基金更多>>
相关领域:一般工业技术理学更多>>

文献类型

  • 2篇中文期刊文章

领域

  • 1篇一般工业技术
  • 1篇理学

主题

  • 1篇等离子增强化...
  • 1篇低辐射
  • 1篇低辐射玻璃
  • 1篇电感耦合
  • 1篇电子束蒸发
  • 1篇氧化硅薄膜
  • 1篇气相
  • 1篇气相沉积
  • 1篇气相沉积法
  • 1篇重掺硅
  • 1篇外置
  • 1篇化学气相
  • 1篇化学气相沉积
  • 1篇化学气相沉积...
  • 1篇硅薄膜
  • 1篇二氧化硅薄膜
  • 1篇保护层
  • 1篇

机构

  • 2篇杭州电子科技...

作者

  • 2篇季振国
  • 2篇席俊华
  • 1篇李向明
  • 1篇黄延伟
  • 1篇杨凌霞
  • 1篇刘永强
  • 1篇刘学丽

传媒

  • 1篇功能材料
  • 1篇材料科学与工...

年份

  • 1篇2013
  • 1篇2012
2 条 记 录,以下是 1-2
排序方式:
外置式电感耦合化学气相沉积法低温制备SiO_2薄膜被引量:3
2013年
设计了一种外置式电感耦合等离子增强化学气相沉积装置,并利用该装置在n型硅片上低温沉积了SiO2薄膜。通过扫描电子显微镜(SEM)、傅立叶变换红外吸收谱(FTIR)等对生长的薄膜进行表征。SEM测试结果表明,利用该装置沉积的SiO2薄膜表面平整,薄膜均匀性好;根据FTIR图中Si-O峰的横向与纵向光学声子吸收峰的分析发现,沉积功率越大,薄膜越疏松;等离子体区域内不同位置沉积的薄膜均匀,能够用于大规模、大面积的工业生产。此外,为了方便地获知SiO2薄膜的厚度,我们推导出了50W的功率下,薄膜厚度随沉积温度、沉积时间变化的经验公式。
席俊华刘永强杨凌霞季振国
关键词:二氧化硅薄膜电感耦合等离子增强化学气相沉积
电子束蒸发沉积重掺硅薄膜及其在低辐射玻璃上的应用被引量:2
2012年
采用电子束蒸发法以普通玻璃为基板制备了重掺硅薄膜,通过SEM、EDS、透射光谱对其形貌、成分以及透射率进行了测试表征。进一步采用铝诱导低温晶化法在玻璃基板上沉积Al薄膜,对重掺硅薄膜进行铝诱导晶化。XRD测试、电学性能测试以及可见-红外光谱透射率测试结果表明,硅薄膜在温度为300℃以上出现了Si(111)的衍射峰,薄膜的导电性得到了提高,且具有较强的红外反射能力,表明在低辐射玻璃上具有一定的应用价值。同时采用电子束蒸发法制备了结构为glass/Si/Ag/Si的Ag基低辐射玻璃,通过光学性质测试和腐蚀情况观察结果表明硅薄膜具有保护低辐射薄膜的作用。
刘学丽黄延伟李向明席俊华季振国
关键词:电子束蒸发低辐射玻璃
共1页<1>
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