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国家自然科学基金(61306006)

作品数:6 被引量:18H指数:2
相关作者:冯志红蔚翠何泽召刘庆彬王晶晶更多>>
相关机构:中国电子科技集团第十三研究所河北半导体研究所专用集成电路与系统国家重点实验室更多>>
发文基金:国家自然科学基金中国博士后科学基金更多>>
相关领域:电子电信理学化学工程自动化与计算机技术更多>>

文献类型

  • 6篇中文期刊文章

领域

  • 3篇电子电信
  • 2篇化学工程
  • 2篇理学
  • 1篇自动化与计算...

主题

  • 2篇石墨
  • 2篇石墨烯
  • 2篇气相沉积
  • 2篇化学气相
  • 2篇化学气相沉积
  • 2篇TRANSI...
  • 2篇FIELD-...
  • 2篇衬底
  • 1篇载流子
  • 1篇载流子迁移率
  • 1篇生长温度
  • 1篇碳化硅
  • 1篇碳化硅衬底
  • 1篇平衡态
  • 1篇气相
  • 1篇气相沉积法
  • 1篇迁移率
  • 1篇自对准
  • 1篇自对准工艺
  • 1篇温度

机构

  • 2篇中国电子科技...
  • 1篇河北半导体研...
  • 1篇专用集成电路...

作者

  • 3篇蔚翠
  • 3篇冯志红
  • 2篇何泽召
  • 1篇芦伟立
  • 1篇蔡树军
  • 1篇李佳
  • 1篇李佳
  • 1篇刘庆彬
  • 1篇盛百城
  • 1篇王晶晶
  • 1篇刘庆彬
  • 1篇刘庆彬

传媒

  • 2篇Journa...
  • 1篇半导体技术
  • 1篇物理学报
  • 1篇物理化学学报
  • 1篇Chines...

年份

  • 1篇2020
  • 1篇2019
  • 2篇2016
  • 2篇2014
6 条 记 录,以下是 1-6
排序方式:
Self-aligned graphene field-effect transistors on SiC(0001) substrates with self-oxidized gate dielectric被引量:1
2014年
A scalable self-aligned approach is employed to fabricate monolayer graphene field-effect transistors on semi-insulated 4H-SiC(0001) substrates. The self-aligned process minimized access resistance and parasitic capacitance. Self-oxidized Al2O3, formed by deposition of 2 nm Al followed by exposure in air to be oxidized,is used as gate dielectric and shows excellent insulation. An intrinsic cutoff frequency of 34 GHz and maximum oscillation frequency of 36.4 GHz are realized for the monolayer graphene field-effect transistor with a gate length of 0.2 m. These studies show a pathway to fabricate graphene transistors for future applications in ultra-high frequency circuits.
李佳蔚翠王丽刘庆彬何泽召蔡树军冯志红
关键词:自对准工艺
碳化硅衬底外延石墨烯被引量:2
2019年
通过高温热解法和化学气相沉积(CVD)法在SiC(0001)衬底外延石墨烯。采用光学显微镜、原子力显微镜、扫描电子显微镜、喇曼光谱、X射线光电子能谱和霍尔测试系统对样品进行表征,并对比了两种不同生长方法对石墨烯材料的影响以及不同的成核机理。结果表明,高温热解法制备的石墨烯材料有明显的台阶形貌,台阶区域平坦均匀,褶皱少,晶体质量取决于SiC衬底表面原子层,电学特性受衬底影响大,迁移率较低。CVD法制备的石墨烯材料整体均匀,褶皱较多,晶体质量更好。该方法制备的石墨烯薄膜悬浮在SiC衬底表面,与衬底之间为范德华力连接,电学特性受衬底影响小,迁移率较高。
盛百城刘庆彬蔚翠何泽召高学栋郭建超周闯杰冯志红
关键词:石墨烯碳化硅衬底成核机理
Si面4H-SiC衬底上外延石墨烯近平衡态制备被引量:7
2014年
SiC热解法是制备大面积、高质量石墨烯的理想选择之一.外延石墨烯的晶体质量仍是制约其应用的关键因素之一.本文通过SiC热解法在4H-SiC(0001)衬底上制备单层外延石墨烯.通过引入氩气惰性气氛和硅蒸气,使SiC衬底表面的Si原子升华与返回概率接近平衡,外延石墨烯生长速率大大减慢,单层石墨烯的生长时间从15 min延长至75 min.测试分析表明,生长速率减慢,外延石墨烯中缺陷减少,晶体质量提高,使得外延石墨烯的电性能都得到改善,单层外延石墨烯的最高载流子迁移率达到1200 cm2/V·s,方阻604?/.以上结果表明,控制生长气氛,减慢生长速率是实现高质量外延石墨烯的可行途径之一.
蔚翠李佳刘庆彬蔡树军冯志红
关键词:平衡态晶体质量
Epitaxial graphene gas sensors on SiC substrate with high sensitivity
2020年
2D material of graphene has inspired huge interest in fabricating of solid state gas sensors.In this work,epitaxial graphene,quasi-free-standing graphene,and CVD epitaxial graphene samples on SiC substrates are used to fabricate gas sensors.Defects are introduced into graphene using SF6 plasma treatment to improve the performance of the gas sensors.The epitaxial graphene shows high sensitivity to NO2 with response of 105.1%to 4 ppm NO2 and detection limit of 1 ppb.The higher sensitivity of epitaxial graphene compared to quasi-free-standing graphene,and CVD epitaxial graphene was found to be related to the different doping types of the samples.
Cui YuQingbin LiuZezhao HeXuedong GaoEnxiu WuJianchao GuoChuangjie ZhouZhihong Feng
关键词:GRAPHENEHIGHLIMIT
蓝宝石衬底上化学气相沉积法生长石墨烯被引量:8
2016年
化学气相沉积(CVD)法是制备大面积、高质量石墨烯材料的主要方法之一,但存在衬底转移和碳固溶等问题,本文选用蓝宝石衬底弥补了传统CVD法的不足。利用CVD法在蓝宝石衬底上生长石墨烯材料,研究生长温度对石墨烯表面形貌和晶体质量的影响。原子力显微镜(AFM)、光学显微镜(OM)、拉曼光谱和霍尔测试表明,低温生长有利于保持材料表面的平整度,高温生长有利于提高材料的晶体质量。研究氢气和碳源对蓝宝石衬底表面刻蚀作用机理,发现氢气对蓝宝石衬底有刻蚀作用,而单纯的碳源不能对衬底产生刻蚀效果。在1200℃下,直径为50 mm的晶圆级衬底上获得平整度和质量相对较好的石墨烯材料,室温下载流子迁移超过1000 cm^2?V^(-1)?s^(-1)。
刘庆彬蔚翠何泽召王晶晶李佳芦伟立冯志红
关键词:石墨烯蓝宝石化学气相沉积法生长温度
High temperature characteristics of bilayer epitaxial graphene field-effect transistors on SiC Substrate
2016年
In this paper,high temperature direct current(DC) performance of bilayer epitaxial graphene device on SiC substrate is studied in a temperature range from 25℃ to 200℃.At a gate voltage of-8 V(far from Dirac point),the drainsource current decreases obviously with increasing temperature,but it has little change at a gate bias of +8 V(near Dirac point).The competing interactions between scattering and thermal activation are responsible for the different reduction tendencies.Four different kinds of scatterings are taken into account to qualitatively analyze the carrier mobility under different temperatures.The devices exhibit almost unchanged DC performances after high temperature measurements at 200℃ for 5 hours in air ambience,demonstrating the high thermal stabilities of the bilayer epitaxial graphene devices.
何泽召杨克武蔚翠刘庆彬王晶晶李佳芦伟立冯志红蔡树军
关键词:载流子迁移率温度范围
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