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国家自然科学基金(60376006)

作品数:15 被引量:57H指数:5
相关作者:左然张红徐谦于海群陈景升更多>>
相关机构:江苏大学中国科学院更多>>
发文基金:国家自然科学基金江苏省普通高校研究生科研创新计划项目国家高技术研究发展计划更多>>
相关领域:电子电信理学一般工业技术化学工程更多>>

文献类型

  • 15篇中文期刊文章

领域

  • 8篇电子电信
  • 5篇理学
  • 2篇一般工业技术
  • 1篇化学工程

主题

  • 10篇数值模拟
  • 10篇值模拟
  • 8篇MOCVD
  • 5篇反应器
  • 5篇MOCVD反...
  • 4篇输运过程
  • 3篇化学气相
  • 3篇化学气相沉积
  • 3篇GAN
  • 3篇GAN生长
  • 2篇优化设计
  • 2篇输运
  • 2篇输运现象
  • 2篇金属有机化学...
  • 2篇径向
  • 2篇反应器设计
  • 2篇薄膜生长
  • 1篇原子层沉积
  • 1篇生长速率
  • 1篇数值模拟分析

机构

  • 14篇江苏大学
  • 1篇中国科学院

作者

  • 12篇左然
  • 6篇张红
  • 5篇于海群
  • 5篇徐谦
  • 4篇陈景升
  • 2篇彭鑫鑫
  • 2篇李晖
  • 2篇王国斌
  • 1篇刘祥林

传媒

  • 8篇人工晶体学报
  • 2篇Journa...
  • 1篇化工学报
  • 1篇工业加热
  • 1篇化工进展
  • 1篇Chines...
  • 1篇科学技术与工...

年份

  • 4篇2011
  • 1篇2010
  • 3篇2009
  • 2篇2008
  • 1篇2007
  • 1篇2006
  • 3篇2005
15 条 记 录,以下是 1-10
排序方式:
多片式热壁MOCVD反应器的设计与数值模拟分析被引量:1
2011年
本文提出一种多反应腔并联的水平热壁MOCVD反应器,反应器上下(左右)壁面都采用高温,减少了热泳力的排斥作用,提高了衬底上方的TMG浓度。由于取消了传统反应器的冷壁,减少了寄生产物的凝结,提高了反应前体的利用率和GaN的生长速率。可以多个反应腔并联生长,从而实现反应器的扩容。针对这种热壁式反应器,结合GaN的MOCVD生长进行了二维数值模拟,计算了不同流速、高度、长度和压力时反应器内流场、温场、浓度场分布以及生长速率,发现存在一个最佳的气体流速、反应器高度和长度条件,在此条件下,反应前体的产生与沉积达到平衡,从而有效抵消反应前体的沿程损耗,实现均匀的GaN生长。
彭鑫鑫左然于海群陈景升
关键词:MOCVDGAN生长热壁反应器数值模拟
MOCVD生长GaN的反应动力学分析与数值模拟被引量:12
2009年
提出了GaN生长的主反应和寄生化学反应模型,用主反应和与主反应平行进行的寄生反应来描述GaN的实际生长过程,并将此数值模拟得到的GaN沉积速率和文献中的实验数据进行了对比,发现与在实际MOCVD反应器上相同反应条件时得到的实验数据吻合较好。此外还发现TMGa浓度对GaN的生长速率有较大影响,但并非简单的线性关系。
徐谦左然张红
关键词:数值模拟沉积速率
TDDFT-SOS Studies on the Polarizabilities and Second-order Hyperpolarizabilities of Zn_3O_3 II-VI Semiconductor Clusters
2006年
The geometrical structure of semiconductor clusters including Zn3O3 was optimized by the DFT B3LYP method. With the same basis sets, dipole moments, polarizabilities and second- order hyperpolarizabilities have been calculated and compared with the results obtained by TDDFT B3LYP method combined with sum-over-state (SOS) formula. The calculation results indicate that the dipole moments of the ground state depend on the atom radius and electronegative differences between elements and are their balance point as well. The polarizabilities of the clusters accord with the rule of the corresponding energy transformation from ground to excited state. The results predict an increase of second-order hyperpolarizabilities with increasing the distances between atoms in the clusters as well as a decrease of the polarizabilities and second-order hyperpolarizabilities in the same serial of semiconductor clusters with increasing the dipole moments of the ground states. The changes of dipole moments in ground states are inconsistent with transition moments. Spatial structure, charge transfer and other factors play an important role in composing the transition moments.
QIU Yong-QingLIU Yi-Chun
关键词:极化率
金属有机化学气相沉淀反应器结构的模拟优化被引量:2
2009年
研究了金属有机化学气相沉淀反应器的几何形状对于反应腔内的涡旋产生的影响,表明衬底上方的涡旋不仅会影响到薄膜生长的厚度,而且会影响到薄膜的纯度和成分的均匀性。通过改变反应器的结构和形状来优化反应器设计,从而消除衬底上方的涡旋,得到光滑而均匀的流场。根据模拟结果发现,流道高度在影响热对流涡旋的几何参数中起主要作用,而流道长度影响较小。对于优化后的反应器,引发自然对流的临界流道高度为H=2.5cm(D=20cm)。
张红
关键词:输运过程薄膜生长优化设计
径向流动MOCVD输运过程的数值模拟和反应器优化被引量:4
2005年
针对三重进口径向流动行星式MOCVD反应器的输运过程进行二维数值模拟研究,探讨有关行星式反应器流道高度和托盘直径能否继续扩大,如何控制基片上方温场和浓度场为最佳分布这样一些本质问题,同时寻找反应器的优化条件.模拟结果发现:(1)通过对反应器形状进行优化,使进口处流道趋向于流线的形状,可以大大地削弱甚至消除由流道扩张引起的涡旋;(2)在影响对流涡旋的几何参数中,反应腔高度起主要作用,而反应腔直径影响较小.对于优化后的反应器,发生对流涡旋的临界高度提高到2~2.5cm,对应的反应器直径增加到40cm;(3)在相同温差、不同衬底温度的条件下,反应器内的流动形态不同.衬底温度高,对流涡旋较弱;衬底温度低,对流涡旋较强.其原因在于气体的粘滞力随温度升高从而抑制了浮升力的作用;(4)衬底上方均匀的流场对应均匀的温场和较高的反应物浓度,热扩散则使TMGa在衬底处的浓度降低.
左然张红徐谦
关键词:金属有机化学气相沉积反应器数值模拟
化学气相沉积中输运现象的研究
2008年
对化学气相沉积(CVD)中输运现象的研究进行了总结。重点阐述了典型的水平式和垂直式CVD反应器中混合对流的模拟结果,以及反应器几何形状、壁面温度、流体流速、压强、浓度梯度等因素对其的影响。
王国斌
关键词:CVD输运现象传热传质
反向流动垂直喷淋式MOCVD反应器设计与数值模拟被引量:15
2005年
本文分析了现有的MOCVD反应器存在的不足,提出了一种新型的反向流动垂直喷淋式反应器:反应气体从基片上方的许多平行小喷管喷入反应区,反应后的尾气又从基片上方出口排出,从而减少了反应物浓度沿衬底径向的不均匀性。通过对反应器进行三维数值模拟,改变喷管的中心距、喷管端与衬底的距离、流量、气体压强等参数,确定了反应室内衬底上方温度场与浓度场为最佳时的参数组合。
徐谦左然张红
关键词:MOCVD反应器设计数值模拟
径向三重流MOCVD反应器输运过程的数值模拟被引量:17
2005年
对径向三重流MOCVD反应器的输运过程进行了二维数值模拟研究.在模拟计算中,分别改变反应腔几何尺寸、导流管位置、流量、压强、温度等条件,得到反应器流场、温场、浓度场的相应变化.根据对模拟结果的分析,发现反应腔内涡旋首先在流动的转折处产生,上下壁面温差的加大使涡旋增大,中管进口流量的增加对涡旋产生抑制作用,内管和外管流量的增加对涡旋产生扩大作用.得出输运过程的优化条件为:反应腔上下壁靠近,导流管水平延长,中管进口流量尽量大于内、外管流量,压强尽量低于105Pa,上下壁面温差尽量减小等.
左然张红刘祥林
关键词:MOCVD输运过程热对流数值模拟
径向三重流MOCVD反应器生长GaN的数值模拟被引量:1
2009年
采用计算流体力学方法对生长半导体材料GaN的重要设备三重进口行星式MOCVD(金属有机物化学气相沉积)反应室中的输运过程进行了二维数值模拟。从浓度场的角度分析反应器内衬底上方NH3和TMGa的浓度影响因素。根据对模拟结果的分析,发现较均匀的流场对应衬底上方的反应物浓度较高,降低反应器内压强,也可获得衬底上方较高的反应物浓度,由于MOCVD反应器内有较大的温差,因此热扩散效应不能忽视。
张红左然
关键词:MOCVDGAN数值模拟
MOCVD水平式反应器中热泳力对沉积过程中反应前体浓度分布的影响分析及数值模拟被引量:3
2011年
在MOCVD反应器中,针对GaN生长中的TMGa分子,推导出热泳力、热泳速度以及扩散速度的计算公式。在低温区,热泳速度大于扩散速度;在高温区则相反。影响热泳力的主要因素为温度梯度和分子直径。水平式反应器内,粒子同时受到热泳速度和扩散速度的影响。在只考虑组分输运以及包括化学反应等两种情况下,通过改变反应器上壁面温度,模拟得到水平式反应器中热泳力对沉积速率以及反应物粒子浓度分布的影响。并与文献中的实验数据对比,验证了模拟结果的正确性。结果显示,由于热泳力的影响,在相同操作条件下高温区H2等小直径粒子的质量分数增大、TMGa和NH3等大分子粒子的质量分数减小。从提高生长速率的角度,需减小上下壁面温度梯度;从沉积均匀性的角度,应使到达下游的反应粒子数增多,故需增大上下壁面温度梯度。
于海群左然陈景升彭鑫鑫
关键词:MOCVD温度梯度生长速率数值模拟
共2页<12>
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