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国家自然科学基金(60376019)

作品数:21 被引量:35H指数:3
相关作者:徐静平陈卫兵李艳萍许胜国季峰更多>>
相关机构:华中科技大学香港大学武汉理工大学更多>>
发文基金:国家自然科学基金湖北省自然科学基金国家重点实验室开放基金更多>>
相关领域:电子电信理学电气工程更多>>

文献类型

  • 21篇期刊文章
  • 1篇会议论文

领域

  • 19篇电子电信
  • 2篇电气工程
  • 2篇理学

主题

  • 9篇栅介质
  • 5篇高K栅介质
  • 5篇MOSFET
  • 4篇半导体
  • 4篇MOS电容
  • 3篇电路
  • 3篇隧穿
  • 3篇隧穿电流
  • 3篇阈值电压
  • 3篇金属-氧化物...
  • 3篇晶体管
  • 3篇半导体场效应...
  • 3篇GATE
  • 3篇MOSFET...
  • 3篇场效应
  • 3篇场效应晶体管
  • 2篇电特性
  • 2篇栅极
  • 2篇栅极漏电流
  • 2篇退火

机构

  • 16篇华中科技大学
  • 2篇香港大学
  • 1篇武汉理工大学

作者

  • 15篇徐静平
  • 10篇陈卫兵
  • 9篇李艳萍
  • 7篇许胜国
  • 7篇季峰
  • 3篇钟德刚
  • 3篇邹晓
  • 3篇谭亚伟
  • 2篇李春霞
  • 1篇黎沛涛
  • 1篇赵寄
  • 1篇吴蕾
  • 1篇应建华
  • 1篇张洪强
  • 1篇颜学超
  • 1篇熊剑波
  • 1篇官建国
  • 1篇彭颖
  • 1篇胡致富
  • 1篇李宗林

传媒

  • 6篇固体电子学研...
  • 5篇华中科技大学...
  • 3篇Chines...
  • 2篇物理学报
  • 1篇Journa...
  • 1篇计算机与数字...
  • 1篇微电子学
  • 1篇Journa...
  • 1篇Wuhan ...

年份

  • 1篇2009
  • 4篇2008
  • 8篇2007
  • 7篇2006
  • 1篇2005
  • 1篇2004
21 条 记 录,以下是 1-10
排序方式:
表面处理对HfO_2栅介质MOS电容界面特性的影响被引量:1
2007年
在溅射淀积HfO2栅介质之前,采用NO、N2O、O2+CHCCl3(TCE)进行表面预处理。结果表明,预处理能改善界面和近界面特性,减小界面层厚度,尤其是新颖的TCE+少量O2的表面处理工艺,能有效抑制界面层的生长,大大降低界面态密度,减小栅极漏电流。其机理在于TCE分解产生的Cl2和HCl能有效地钝化界面附近Si悬挂键和其它结构缺陷,并能去除离子污染。
徐静平李艳萍许胜国陈卫兵季峰
关键词:界面态密度三氯乙烯
高效率PWM DC/DC转换器的设计被引量:2
2007年
采用同步整流技术和轻负载条件下的自动突发模式,设计一种高效率PWMDC/DC转换器.将该转换器用于一个输出电压为3.3V的升压型开关电源系统中,HSPICE仿真结果表明,该转换器在轻、重负载时都具有高的效率,最高可达92.78%。
徐静平谭亚伟钟德刚
关键词:PWM控制同步整流死区时间
表面预处理对HfO_2栅介质MOS器件漏电特性的影响被引量:3
2006年
采用反应磁控溅射方法,在Si衬底上制备了不同表面预处理和不同后退火处理的HfO2栅介质MOS电容。测量了器件的C-V和I-V特性,并进行了高场应力实验。器件的界面特性和栅极漏电机理分析表明,界面态和氧化物陷阱是引起大的栅极漏电流的主要因素。采用新颖的O2+CHCl3(TCE)表面预处理工艺,可以显著降低界面态和氧化物陷阱密度,从而大大减小栅极漏电流和SILC效应。
许胜国徐静平李艳萍陈卫兵季峰
关键词:HFO2MOS器件栅极漏电流界面态
一种用于锁相环的正反馈互补型电荷泵电路被引量:3
2005年
给出了一种新型的互补型电荷泵电路.采用正反馈技术,电路由CSMC1.2μmCMOS工艺实现,可工作在2V的低电压下.Spectre仿真结果显示,电荷泵的工作频率为100MHz时,功耗为0.08mW,输出信号的电压范围宽(0~2V),电路速度快,波形平滑,抖动小,在不增加电路功耗的前提下消除了传统电荷泵电路的电压跳变现象.该电荷泵电路可以很好地应用于低电源电压、高频锁相环电路.
彭颖应建华颜学超李春霞
关键词:电荷泵锁相环CMOS
不同温度退火的HfTiON栅介质MOS电容电特性研究
2008年
在N2/O2气氛中,使用Ti、Hf靶共反应溅射在衬底Si上淀积一种新型栅介质材料HfTiON,随后分别在N2气氛中600°C和800°C退火2min。电容电压(C-V)特性和栅极漏电流特性测试结果表明,800°C快速热退火(RTA)样品表现出更低的界面态密度、更低的氧化物电荷密度和更好的器件可靠性,这是由于在800°C下的RTA能有效地消除溅射生长过程中导致的损伤,形成高质量、高可靠性的介质/Si界面。
陈卫兵徐静平李艳萍许胜国邹晓
关键词:高K栅介质快速热退火栅极漏电流
Novel High PSRR Current Reference Based on Subthreshold MOSFETs
2008年
This paper takes full advantages of the I-V transcon- ductance characteristics of metal-oxide semiconductor field effect transistor (MOSFET) operating in the subthreshold region and the enhancement pre-regulator technique with the high gain negative feedback loop. The proposed reference circuit, designed with the SMIC 0.18 μm standard complementary metal-oxide semiconduc- tor (CMOS) logic process technology, exhibits a stable current of about 1.701 μA with much low temperature coefficient (TC) of 2.5×10-4 μA /℃ in the temperature range of -40 to 150 ℃ at 1.5 V supply voltage, and also achieves a best PSRR over a broad fre- quency. The PSRR is about -126 dB at DC frequency and remains -92 dB at the frequency higher 100 MHz. Moreover the proposed reference circuit operates stably at the supply voltage higher 1.2 V and has good process compatibility.
YU GuoyiJIN HaiZOU Xuecheng
关键词:伏特
Influence of Gate-Electrode Fringing Capacitance on Threshold Voltage of Nano-MOSFET
<正>In this paper,the gate-electrode fringing capacitance of nano-MOSFET is derived by conformal mapping transf...
Feng JiJing-Ping XuP.T.LaiChun-Xia Li
关键词:MOSFET
文献传递
A threshold voltage model MOSFETs considering for high-k gate-dielectric fringing-field effect
2007年
季峰徐静平黎沛涛
关键词:共形映射
一种新的CMOS带隙基准电压源设计被引量:2
2006年
设计了一种新的CMOS带隙基准电压源.通过采用差异电阻间温度系数的不同进行曲率补偿,利用运算放大器进行内部负反馈,设计出结构简单、低温漂、高电源抑制比的CMOS带隙基准电压源.仿真结果表明,在VDD=2 V时,电路具有4.5×10-6V/℃的温度特性和57 dB的直流电源抑制比,整个电路消耗电源电流仅为13μA.
徐静平熊剑波陈卫兵
关键词:带隙基准电压源曲率补偿CMOS
Electrical properties and reliability of HfO2 gate-dielectric MOS capacitors with trichloroethylene surface pretreatment被引量:1
2007年
徐静平陈卫兵黎沛涛李艳萍陈铸略
关键词:MOS电容器HFO2电学性质
共3页<123>
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