国家自然科学基金(10604041)
- 作品数:4 被引量:2H指数:1
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- 退火对Co掺杂ZnO薄膜电磁性能的影响
- 2008年
- 采用磁控溅射技术,制备了Co掺杂ZnO薄膜,然后将样品分别在O2和N2气氛下以不同的温度进行退火处理;用X射线衍射图分析薄膜的结构,采用四探针法测量薄膜的方块电阻,利用振动样品磁强计测量薄膜的磁性能。结果表明,样品在退火温度较低(<300℃)时,电阻稍有下降;当温度升高到400℃时,电阻大幅度上升,而且O2气氛下退火比N2下升高幅度大得多。同一温度下,样品在O2气氛下退火的最大磁化强度比在N2气氛下退火的要低;同一退火气氛下,样品的最大磁化强度随退火温度的升高而降低,这是由于不同气氛和温度下退火时,薄膜中氧空位浓度发生变化,从而导致其电磁性能的差异。
- 陈吉星朱德亮李清华马晓翠贾芳曹培江吕有明
- 关键词:磁控溅射退火铁磁性电磁性能
- Pr_(0.5)Ca_(0.5)MnO_3中A位La^(3+)替代导致磁化强度跳变
- 2008年
- 用大尺寸La3+部分替代Pa3+,制备出多晶体系Pr0.5-xLaxCa0.5MnO3,研究该体系的磁学性质.对样品进行磁化强度测量,低温下(2.5K)由反铁磁向铁磁转变时呈现出阶梯状跳变.随着替代量x值增加,出现第一个阶梯状跳变的临界磁场逐渐减小,样品的磁化强度逐渐增大.与Ba2+或Sr2+对A位Ca2+的替代结果相比可知,在导致磁化强度阶梯状跳变和场致铁磁性的能力上,Ba2+替代的能力大于Sr2+,Sr2+的能力大于La3+.利用建立在相分离基础上的类马氏体相变模型,上述实验结果可得到较合理的解释.
- 朱德亮谭小安马晓翠曹培江李清华
- 阴极电沉积ZnO薄膜的取向控制生长被引量:1
- 2010年
- 采用阴极电沉积法,在Zn(NO3)2水溶液中,以304不锈钢为衬底制备了ZnO薄膜,研究了Zn2+浓度和电流密度对ZnO薄膜择优取向的影响规律。XRD结果表明:随着Zn2+浓度和电流密度增大,ZnO薄膜逐渐由(002)面择优取向生长转变为(101)面择优取向生长;当Zn2+浓度为0.005mol.L-1、电流密度为2.0mA.cm-2或Zn2+浓度为0.05mol.L-1、电流密度为0.5mA.cm-2时,可以得到(002)面择优取向生长的ZnO薄膜;当Zn2+浓度为0.05mol.L-1、电流密度为2.0mA.cm-2时,可以得到(101)面择优取向生长的ZnO薄膜。根据二维晶核理论,通过分析不同生长条件下的过饱和度及其对ZnO的(002)型和(101)型二维晶核形核活化能的影响,对这一规律进行了解释。可见,通过改变Zn2+浓度和电流密度能够实现阴极电沉积ZnO薄膜的取向可控生长。
- 柳文军蔡少敏谢红丝曹培江贾芳朱德亮马晓翠吕有明
- 关键词:ZNO薄膜电沉积
- 高方阻AZO透明导电薄膜的制备和光电特性
- 采用磁控溅射法,在Si和玻璃基片上制备了AZO(ZnO:Al)透明导电薄膜。通过X射线衍射仪、紫外/可见光分光光度计、荧光光谱仪和四极探针等仪器,研究了Al质量分数对薄膜的微观结构和光电特性的影响。研究结果表明,AZO薄...
- 叶家聪李清华贾芳朱德亮曹培江吕有明马晓翠
- 关键词:AZO薄膜光电特性
- 文献传递
- 烧结温度对相分离锰氧化物中磁相变的影响被引量:1
- 2009年
- 采用标准固态反应法,在不同的烧结温度下制备了Pr0.6Ca0.38Ba0.02MnO3和Pr0.6Ca0.4Mn0.98Ga0.02O3,以研究烧结温度对样品颗粒尺寸以及磁相变的影响。通过X射线衍射测试,我们发现对于这两个系列的样品,无论是Ba对Ca的替代还是Ga对Mn的替代,各样品均为菱面体对称结构,且没有任何杂相。扫描电镜实验表明,随着烧结温度的升高,两个系列样品的颗粒尺寸都将增大。研究低温下样品磁化强度随外加磁场变化(M-H)的实验结果后,我们发现随烧结温度的升高即颗粒尺寸的增大,由反铁磁向铁磁发生磁相变的临界磁场减小,而场致铁磁性将增加,这说明颗粒长大对铁磁态的发展是有利的。对比两个样品的磁性质后,我们发现Ba2+替代在破坏电荷轨道有序导致场致铁磁性的能力上比Ga3+替代要强。
- 马立华朱德亮杨赢谭小安马晓翠
- 关键词:磁相变铁磁
- 氧气压力对PLD ZnO薄膜形貌及光学性质影响
- 使用脉冲激光沉积(PLD)方法在石英(SiO_2)和单晶Si(111)基底上制备了具有c轴择优取向的ZnO薄膜。采用X射线衍射仪(XRD)、表面轮廓仪、扫描电子显微镜(SEM)、荧光光谱(PL)、紫外可见分光光度计,对合...
- 曹培江曾玉祥贾芳朱德亮马晓翠吕有明
- 关键词:脉冲激光沉积氧化锌PL谱
- 文献传递
- 退火对Co掺杂ZnO薄膜电磁性能的影响
- 采用磁控溅射技术,制备了Co掺杂ZnO薄膜,然后将样品分别在O和N气氛下以不同的温度进行退火处理;用X射线衍射图分析薄膜的结构,采用四探针法测量薄膜的方块电阻,利用振动样品磁强计测量薄膜的磁性能。结果表明,样品在退火温度...
- 陈吉星朱德亮李清华马晓翠贾芳曹培江吕有明
- 关键词:磁控溅射退火铁磁性电磁性能
- 文献传递