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固态纳米孔制备技术的发展(英文): 2015年; 作为基于纳米孔核酸测序系统的关键组成部分,近年来纳米孔在科研领域吸引了越来越多的关注.虽然早期基于纳米孔的测序系统大多数采用的是生物纳米孔,但由于固态纳米孔拥有更优异的鲁棒性和耐久性,且孔的几何结构及表面性质可控,并与现有的半导体和微流体制造技术相兼容等优势,因而愈来愈受到欢迎.由于高密度的固态纳米/纳米孔阵列可以被大规模地生产出来,固态纳米孔不但可以作为生物分子检测的平台,而且在很多其他领域也拥有广阔的应用前景,例如近场光学、纳米模板光刻和离子逻辑电路等.目前,研究人员已经开发出了各种各样的固态纳米孔制备方法.为了促进固态纳米孔制备技术的研究并拓展固态纳米孔的应用,本文对已经报道的各种典型的固态纳米孔制备方法进行了总结,详细剖析了各种固态纳米孔制备方法的工作机理,比较了各种方法在材料适用性、工艺可控性等各方面的优缺点.此外,在细致分析了各种固态纳米孔的特征,如纳米孔的极限尺寸、内部结构、能否并行大批量生产等的基础上,对不同固态纳米孔的潜在应用进行了总结.; 邓涛李孟委王一凡刘泽文; 关键词：纳米孔固态表面性质

丙烯酸酯干膜光刻胶曝光特性及其应用被引量：8: 2011年; 对一种新型的丙烯酸酯干膜光刻胶(DFP)的曝光及显影特性进行了研究,采用该干胶制作出微沟道结构,进行微流道实验研究。在4英寸(1英寸=2.54cm)硅片上实现了厚度为50μm的干胶完好贴敷,从而解决了干胶在硅衬底上的贴敷问题。利用改变曝光时间设定曝光剂量梯度的方法,研究了干胶的曝光特性。采用不同质量分数的显影液,研究干胶的显影特性,获得了优化的结果。采用干胶系统进行了微流体沟道制作,得到了侧壁陡直的微沟道结构。实验发现,65mJ/cm2及以上的曝光剂量可使厚度为50μm的干膜光刻胶充分曝光并获得形貌效果良好的微结构,质量分数为5%的显影液具有最快的显影速度。; 秦健刘泽文钟艳王太宏; 关键词：显影

一种微型Pt温度传感器及其读出电路的研究被引量：1: 2012年; 基于电阻温度系数(TCR)原理及微机电系统技术,设计并制作了一种用于微型聚合酶链式反应(PCR)芯片的Pt温度传感器及其读出电路。利用溅射和剥离技术将厚度为100 nm的弯曲条形Pt传感器制作在硅衬底上。其长度和宽度分别为2 030μm和10μm。设计了基于四线法温度测量的读出电路,该电路主要包括一个恒流源电路和一个电压放大电路。测试结果表明,该传感器的电阻温度系数为1.48×10-3℃-1,其电阻变化随着温度的变化具有良好的线性度,当温度在27～100℃变化时,电阻范围在653.5～716.5Ω变化。在接出一个8位的模数转换器以后,整个传感器和读出电路能确保一个精度为0.2℃的温度控制,满足一般PCR测量需要。; 张普傅兴华王俊强吴次南刘泽文; 关键词：微机电系统电阻温度系数读出电路

基于π型多晶硅电阻网络的片上衰减器被引量：6: 2015年; 为了满足衰减器低成本、小尺寸和可重用的发展需求,提出一种基于π型多晶硅电阻网络的宽频带（0-20GHz）片上衰减器。对精确控制多晶硅方块电阻（40-400Ω/sq）进行研究,通过控制硼B离子的掺杂浓度（5×1018-1.4×1020cm-3）和热退火条件（950-1 050℃,10-30min）,得出薄膜方块电阻随工艺条件的变化规律,方阻误差小于4%。结合片上衰减器的尺寸需求选择方阻,设计了10和20dB片上衰减器,采用HFSS三维建模软件对器件进行仿真优化。仿真结果表明：在0-20GHz内,10dB衰减器的衰减精度为0.26dB,电压驻波比（VSWR）小于1.13;20dB衰减器的衰减精度为0.04dB,VSWR小于1.29。电阻网络的面积均为265μm×270μm,衰减器尺寸小于1 000μm×800μm。所设计的片上衰减器精度高,适用于微波测试仪器前端。; 郭昕李孟委龚著浩刘泽文; 关键词：多晶硅电阻

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