江苏省自然科学基金(BK2002010)
- 作品数：35 被引量：323H指数：11
- 相关作者：陈志刚陈杨李霞章陈建清陈爱莲更多>>
- 相关机构：江苏大学江苏工业学院河海大学更多>>
- 发文基金：江苏省自然科学基金江苏省高技术研究计划项目江苏省高校高新技术产业发展项目更多>>
- 相关领域：金属学及工艺一般工业技术冶金工程化学工程更多>>
- 醇水均匀沉淀法制备纳米CeO_2粉体工艺及机理研究被引量：3
- 2006年
- 在醇-水体系中以六亚甲基四胺(HMT)为缓释沉淀剂制备了纳米CeO_2粉体,并用TEM和BET对其进行了表征,考察了制备过程中工艺参数对CeO_2粉体颗粒大小及团聚的影响,并对影响机理进行了探讨。结果表明：在较佳工艺条件下制备的纳米CeO_2平均尺寸约为8nm,与传统的水溶液均匀沉淀法相比较,该方法得到的粉体粒径更小,且分散性好。
- 李霞章陈志刚陈建清陈杨
- 关键词：纳米CEO2透光率沉淀法
- 超细CeO_2磨料对硅片的抛光性能研究被引量：15
- 2004年
- 用均相沉淀法制备了不同形状和尺寸的CeO2 超细粉体 ,并配制成不同pH值的抛光液对硅片进行化学机械抛光。研究了不同粒径CeO2 磨料的抛光效果 ,结果表明 ,微米级的CeO2 磨料粒径比较大 ,切削深度比较深 ,材料的去除是以机械作用为主。随着磨料粒径的减小 ,切削深度随之减小 ,材料以塑性流动的方式去除 ,最终在 2 μm的范围内得到了微观表面粗糙度Ra =0 1 2 0nm的超光滑表面。实验证明 ,CeO2
- 陈建清陈杨陈志刚陈康敏
- 关键词：化学机械抛光硅片粗糙度
- 氧化铈纳米颗粒的合成及其化学机械抛光性能被引量：6
- 2006年
- 在醇水混合溶液中以HMT为缓释沉淀剂制备了纳米CeO2颗粒,并用TEM,SAD,XRD对其形貌和结构进行了表征,将制备的不同粒径纳米CeO2粉体配置成抛光液,对GaAs晶片进行了化学机械抛光,用AFM对其表面粗糙度进行了测量。结果表明,不同尺寸的纳米颗粒具有不同的抛光效果,随着磨料粒径的增大,表面粗糙度值随之升高。
- 李霞章陈杨陈志刚陈建清倪超英
- 关键词：纳米CEO2化学机械抛光
- CeO_2基中温电解质材料的掺杂改性被引量：6
- 2006年
- CeO2基材料作为一种很有前景的中、低温固体电解质材料,在具有高的离子导电性能的同时,还要保证具有工作条件下的化学稳定性能,以及很好的烧结性能和机械性能。综述了通过掺杂改性来提高CeO2基电解质材料的电性能、烧结性能和机械性能方面的研究进展,比较了各类掺杂制备方法,并指出液相掺杂中的共沉淀法和均匀沉淀法是目前制备CeO2基电解质材料最有效的方法,最后对CeO2基电解质材料研究的发展方向提出了展望。
- 杨建平陈志刚李霞章陈杨
- 关键词：掺杂
- 纳米磨料对硅晶片的超精密抛光研究被引量：30
- 2004年
- 采用均相沉淀法制备了纳米CeO2和纳米Al2O3超细粉体,将所制备的超细粉体配制成抛光液并用于硅晶片化学机械抛光,考察了纳米磨料对硅晶片抛光效果及抛光机理的影响.结果表明,纳米CeO2磨料的抛光效果优于纳米Al2O3磨料,采用纳米CeO2磨料抛光硅晶片时可以得到在1μm×1μm范围内微观表面粗糙度Ra为0.089nm的超光滑表面,且表面微观起伏较小.
- 陈杨陈建清陈志刚范真
- 关键词：单晶硅片抛光表面形貌
- 纳米CeO_2粉体的制备及应用被引量：6
- 2006年
- 对近年来国内外涌现的各种制备纳米CeO2的方法进行了较为详细的评述。重点介绍了纳米CeO2在超精密抛光、汽车尾气净化催化、固体氧化物燃料电池等高科技领域中的应用状况,指出今后研究的方向是纳米CeO2粉体制备过程中的颗粒大小与形貌的控制及其分散性的改善,粉体形核与生长过程中的动态观测与机理研究,以及研究成果的工业化规模生产与应用。
- 陈爱莲李霞章陈杨
- 关键词：纳米CEO2
- 纳米CeO_2颗粒的制备及其化学机械抛光性能研究被引量：31
- 2007年
- 以硝酸铈和六亚甲基四胺为原料制备出不同粒径的纳米CeO2粉体颗粒,将纳米CeO2粉体配制成抛光液并用于砷化镓晶片的化学机械抛光.结果表明,不同尺寸的纳米磨料具有不同的抛光效果,采用粒度8 nm的CeO2磨料抛光后微观表面粗糙度最低(0.740 nm),采用粒度小于或大于8 nm的CeO2磨料抛光后其表面粗糙度值均较高.通过简化的固-固接触模型分析,认为当粒度过小时,磨料难以穿透软质层,表现为化学抛光为主,表面凹坑较多,表面粗糙度较高;当粒度大于一定值时,随着磨料粒度增加,嵌入基体部分的深度加大,使得粗糙度出现上升趋势.提出当磨料嵌入晶片表面的最大深度等于或接近于软质层厚度时,在理论上应具有最佳的抛光效果.
- 李霞章陈杨陈志刚陈建清倪超英
- 关键词：纳米CEO2GAAS化学机械抛光
- 基于不同醇的醇水法制备纳米CeO_2的研究被引量：6
- 2006年
- 在四种醇水体系中，以HMT为缓释沉淀剂制备了纳米CeO2粉体。研究了醇的种类、醇水比例及煅烧温度对纳米CeO2颗粒尺寸的影响；并用XRD，BET，TEM，TGA／DSC等表征方法对其影响机理进行了探讨。结果表明：溶剂从甲醇到异丙醇变化时，颗粒逐渐增大；异丙醇到正丁醇时，颗粒尺寸略有降低，且煅烧前颗粒尺寸均介于10～20nm之间。
- 李霞章陈杨陈志刚陈建清
- 关键词：无机非金属材料纳米CEO2空间位阻介电常数
- 醇水法制备纳米粉体原理及应用被引量：16
- 2006年
- 传统液相法制备纳米粉体遇到的普遍性问题是粒径尺寸难控制,颗粒易团聚,而将醇水法引入到液相合成过程中不仅可以降低粒径而且能大大改善其分散性,本文从热力学的角度分析了醇水法的理论根据,对其在液相法中应用的国内外报道进行了介绍,并提出了存在的问题和研究展望。
- 李霞章陈志刚陈建清陈杨
- 关键词：纳米粒径分散性介电常数
- 纳米CeO_2磨料对硅晶片CMP的效果与机理研究被引量：8
- 2004年
- 通过均相沉淀法制备了纳米CeO_2超细粉体,并配制成抛光液对硅片进行化学机械抛光(CMP),研究了纳米CeO_2磨料对硅片的抛光效果,通过建立的接触模型进一步地解释了纳米级磨料的化学机械抛光机理。实验结果分析表明:由于纳米磨料粒径小,切削深度小,材料是以塑性流动的方式去除。使用纳米CeO_2磨料最终在1μm的范围内达到了微观表面粗糙度Ra为0.103 nm的超光滑表面,而且表面的微观起伏更趋向于平缓。
- 陈杨陈建清陈志刚陈爱莲
- 关键词：化学机械抛光
