您的位置: 专家智库 > >

国家重点基础研究发展计划(51327020102)

作品数:3 被引量:2H指数:1
相关作者:何秀坤秦涛曹全喜李劼董彦辉更多>>
相关机构:西安电子科技大学中国电子科技集团公司天津电子材料研究所更多>>
发文基金:国家重点基础研究发展计划更多>>
相关领域:电子电信更多>>

文献类型

  • 3篇中文期刊文章

领域

  • 3篇电子电信

主题

  • 1篇单晶
  • 1篇电容
  • 1篇电容器
  • 1篇电阻率
  • 1篇施主
  • 1篇受主
  • 1篇迁移
  • 1篇迁移率
  • 1篇切片
  • 1篇微管
  • 1篇无接触
  • 1篇计数
  • 1篇函数
  • 1篇分布函数
  • 1篇半导体
  • 1篇半绝缘
  • 1篇SIC
  • 1篇SIC单晶
  • 1篇补偿度
  • 1篇掺氮

机构

  • 3篇西安电子科技...
  • 2篇中国电子科技...
  • 1篇天津电子材料...

作者

  • 3篇何秀坤
  • 2篇李劼
  • 2篇曹全喜
  • 2篇秦涛
  • 1篇章安辉
  • 1篇杨晶晶
  • 1篇董彦辉

传媒

  • 2篇电子科技
  • 1篇Journa...

年份

  • 2篇2009
  • 1篇2006
3 条 记 录,以下是 1-3
排序方式:
半绝缘半导体切片电阻率无接触测定方法研究被引量:1
2009年
与很多测试方法一样,电阻率是通过流过电接触样品的电流,测出其电压下降值来测定的。文中通过对无接触和接触两种主要测试方法的研究对比,探讨了用电容式探测器对半绝缘半导体切片电阻率的无接触测定,并论述了其测试原理、测试所用电容器、测试条件、测试过程及结果计算。
秦涛何秀坤董彦辉李劼
关键词:电阻率电容器
用体式显微镜研究SiC单晶中的微管缺陷
2009年
用拉曼光谱、X射线双晶衍射仪以及体式显微镜,对升华法生长的6H-SiC单晶品质、SiC单晶中的微管缺陷进行表征。通过对SiC单晶腐蚀前后的微管数目比较发现,微管尺寸和其所形成的腐蚀坑大小并不是呈线性关系,腐蚀前后用体式显微镜观察到的微管数目大致相等。从实验数据发现,微管的尺寸有最小值,这给SiC微管密度分布,提供了一种无损检测方法。
李劼章安辉何秀坤曹全喜秦涛
关键词:微管SIC计数
掺氮6H-SiC单晶的电阻率、迁移率及自由载流子浓度被引量:1
2006年
测试了国产和美国Cree公司生产的n型6H-SiC低温下的电学参数,包括电阻率、迁移率和自由载流子浓度,并用FCCS软件数据拟合分析得到两种SiC的杂质浓度和能级.实验结果表明:杂质浓度和补偿度对低温下SiC的电性能有很大影响,轻度补偿的掺氮6H-SiC是施主氮的两个能级共同起作用;而重度补偿的6H-SiC在低温时则是受主能级起作用,并且后者迁移率随温度变化曲线的峰值降低并右移.同时发现重度补偿的SiC在较低温度时由n型转变成了p型,并从理论上分析了产生这种现象的原因.
杨晶晶何秀坤曹全喜施亚申
关键词:施主受主补偿度分布函数
共1页<1>
聚类工具0