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中央高校基本科研业务费专项资金(SWJTU09BR155)

作品数:2 被引量:26H指数:2
相关作者:余洲闫勇黄涛赵勇刘连更多>>
相关机构:新南威尔士大学西南交通大学更多>>
发文基金:中央高校基本科研业务费专项资金International Foundation for Science国家教育部博士点基金更多>>
相关领域:理学更多>>

文献类型

  • 2篇中文期刊文章

领域

  • 2篇理学

主题

  • 1篇电特性
  • 1篇电阻率
  • 1篇性能研究
  • 1篇直流磁控
  • 1篇直流磁控溅射
  • 1篇数对
  • 1篇结构特性
  • 1篇溅射
  • 1篇工艺参
  • 1篇光电
  • 1篇光电特性
  • 1篇AZO
  • 1篇AZO薄膜
  • 1篇MO
  • 1篇MO薄膜
  • 1篇磁控
  • 1篇磁控溅射

机构

  • 2篇西南交通大学
  • 2篇新南威尔士大...

作者

  • 2篇黄稳
  • 2篇刘连
  • 2篇赵勇
  • 2篇黄涛
  • 2篇闫勇
  • 2篇余洲
  • 1篇晏传鹏
  • 1篇张艳霞
  • 1篇张勇

传媒

  • 1篇功能材料
  • 1篇材料导报

年份

  • 2篇2012
2 条 记 录,以下是 1-2
排序方式:
直流溅射工艺参数对Mo薄膜结构及电性能的影响被引量:5
2012年
采用直流磁控溅射法在SLG衬底上沉积Mo薄膜,对不同溅射功率和溅射工作气压下沉积的薄膜进行X射线衍射、SEM(扫描电子显微镜)、电阻率测试,讨论了工艺参数对沉积Mo薄膜相结构、表面微观形貌、薄膜沉积速率和电学性能的影响。结果表明,随着溅射功率的增加,薄膜的结晶性能变好,沉积速率提高,在沉积功率范围内薄膜均匀致密,表面无空隙,电阻率较低;随着溅射工作气压增加,薄膜结晶性能变差,沉积速率先增加后降低,在沉积工作气压范围内,薄膜致密;随气压降低,电阻率急剧减小。因此,较高的溅射功率和较低的工作气压沉积的Mo薄膜更适合作CIGS薄膜太阳电池的BC层(背接触层)。
黄涛闫勇黄稳张艳霞晏传鹏刘连张勇赵勇余洲
关键词:MO薄膜直流磁控溅射电阻率
AZO薄膜制备工艺及其性能研究被引量:21
2012年
综述了掺铝氧化锌(AZO)薄膜制备方法与光电特性,重点阐述了磁控溅射法制备工艺参数如衬底温度、溅射功率、气体压强、溅射时间、衬底和靶间距、负偏压等对AZO薄膜结构、光电性能的影响,并指出目前AZO薄膜的研究关键以及所面临的挑战,展望了未来的研究方向。
黄稳余洲张勇刘连黄涛闫勇赵勇
关键词:AZO结构特性光电特性
共1页<1>
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