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武汉市重点科技攻关计划项目(200721023420)

作品数:3 被引量:4H指数:2
相关作者:何翔郝英杰戴茂飞孙奉娄曾宪彪更多>>
相关机构:中南民族大学广西科技师范学院更多>>
发文基金:武汉市重点科技攻关计划项目更多>>
相关领域:金属学及工艺理学更多>>

文献类型

  • 3篇中文期刊文章

领域

  • 3篇金属学及工艺
  • 1篇理学

主题

  • 1篇氮化
  • 1篇氮化铝
  • 1篇低合金
  • 1篇低合金钢
  • 1篇电参数
  • 1篇电解液
  • 1篇陶瓷
  • 1篇陶瓷膜
  • 1篇铝材
  • 1篇合金
  • 1篇合金钢
  • 1篇放电参数
  • 1篇高碳
  • 1篇高碳低合金
  • 1篇高碳低合金钢

机构

  • 3篇中南民族大学
  • 1篇广西科技师范...

作者

  • 2篇何翔
  • 1篇韦世良
  • 1篇陈首部
  • 1篇曾令宏
  • 1篇孙奉娄
  • 1篇曾宪彪
  • 1篇戴茂飞
  • 1篇郝英杰

传媒

  • 1篇材料保护
  • 1篇兵器材料科学...
  • 1篇中南民族大学...

年份

  • 2篇2011
  • 1篇2010
3 条 记 录,以下是 1-3
排序方式:
纯铝材电解液微弧氮化工艺探讨被引量:2
2011年
电解液微弧氮化工艺简单,过去未见用其制备AlN膜的报道。采用电解液微弧氮化工艺在纯铝基片上制备了AlN陶瓷膜,利用正交试验优化工艺,研究了最优工艺制备的膜层的物相、形貌,并探讨了占空比、放电频率对膜层硬度、绝缘电阻、耐压值的影响。结果表明:正交试验优化的工艺为100 mL超纯水中CO(NH2)2 35.0 g,EDTA-2Na 3.0 g,放电频率1.0 kHz,占空比20%;各因素的影响由主到次依次为CO(NH2)2浓度、占空比、放电频率、EDTA-2Na浓度;最优工艺制备的陶瓷膜由多晶AlN组成,膜层致密;选择适当的占空比和放电频率有利于改善AlN陶瓷膜的性能。
孙奉娄戴茂飞
关键词:放电参数
电解液微弧放电制备氮化铝陶瓷膜研究被引量:2
2011年
用电解液等离子体微弧放电工艺,在纯铝基片上制备陶瓷改性层。选择CO(NH2)2电解液体系,添加(NaPO3)6辅助放电。用XRD分析不同CO(NH2)2浓度的电解液情况下改性层的物相结构,用XPS研究处理后样品表面的化学成分和结合能,用SEM观察了膜层表面形貌和厚度。结果表明,CO(NH2)2电解液体系中进行等离子体微弧放电,将在纯Al表面得到多晶AlN陶瓷膜改性层。
何翔郝英杰
关键词:电解液氮化铝
高碳低合金钢真空离子渗氮及其特性研究被引量:1
2010年
利用自行研制的直流脉冲离子渗氮设备对高碳低合金钢GCr15在温度为460~550℃进行了真空离子渗氮处理1~5 h,采用显微硬度计、XRD、SEM、耐腐蚀性检测仪等表征手段研究了离子渗氮对其性能的影响.实验结果表明:通过离子渗氮处理得到的表面硬度均在700 HV_(0.3)以上;渗氮层主要形成γ′-Fe,N相及少量的ε-Fe_2N/Fe_3N相氮化物,氮化物的含量随渗氮温度的升高、渗氮时间的增加而增大;经真空离子渗氮处理其耐腐蚀性得到大大提高.
韦世良曾令宏曾宪彪何翔陈首部
关键词:高碳低合金钢
共1页<1>
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