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西安工业大学校长基金(XGYXJJ0506)

作品数：1 被引量：15H指数：1
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文献类型

  • 1篇中文期刊文章

领域

  • 1篇金属学及工艺
  • 1篇理学

主题

  • 1篇氮化铝
  • 1篇氮化铝薄膜
  • 1篇透过率
  • 1篇溅射
  • 1篇光谱
  • 1篇光学
  • 1篇红外
  • 1篇红外光
  • 1篇红外光谱
  • 1篇反应溅射
  • 1篇薄膜光学
  • 1篇ALN
  • 1篇磁控
  • 1篇磁控反应溅射

机构

  • 1篇西安工业大学

作者

  • 1篇朱春燕
  • 1篇朱昌

传媒

  • 1篇表面技术

年份

  • 1篇2008
共 1 条 记 录，以下是 1-1
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排序方式：
磁控反应溅射AlN薄膜光学性能研究被引量：15
2008年
为了制备光学性能良好的AlN薄膜。采用磁控反应溅射法制备了氮化铝（AlN）薄膜，利用椭圆仪、分光光度计、傅立叶变换光谱仪对AlN薄膜进行了相关光学性能的分析。结果表明：在波长为400～1100rim时，AlN薄膜的折射率为2．0～2．4，透过率都在88％以上；在200～300nm远紫外光范围内，薄膜具有强烈的吸收；在红外吸收光谱中，677cm。处存在1个强烈的吸收峰，说明薄膜中已经形成了AlN。
朱春燕朱昌
关键词：氮化铝薄膜透过率红外光谱
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共1页<1>
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