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国家自然科学基金(60606022)

作品数:15 被引量:20H指数:2
相关作者:张玉明张义门吕红亮车勇王悦湖更多>>
相关机构:西安电子科技大学武警工程学院西安武警工程学院更多>>
发文基金:国家自然科学基金西安应用材料创新基金国防科技技术预先研究基金更多>>
相关领域:电子电信理学核科学技术一般工业技术更多>>

文献类型

  • 15篇期刊文章
  • 1篇会议论文

领域

  • 9篇电子电信
  • 5篇理学
  • 2篇核科学技术
  • 2篇一般工业技术
  • 1篇电气工程
  • 1篇航空宇航科学...
  • 1篇环境科学与工...

主题

  • 12篇4H-SIC
  • 6篇MESFET
  • 4篇MESFET...
  • 3篇碳化硅
  • 3篇NI
  • 3篇SIC
  • 2篇射线
  • 2篇肖特基
  • 2篇二极管
  • 2篇Γ射线
  • 2篇ESR
  • 1篇大信号
  • 1篇带电粒子
  • 1篇电粒子
  • 1篇电子自旋
  • 1篇电子自旋共振
  • 1篇射频
  • 1篇势垒
  • 1篇探测器
  • 1篇偏压

机构

  • 10篇西安电子科技...
  • 5篇武警工程学院
  • 1篇教育部
  • 1篇西安武警工程...

作者

  • 10篇张义门
  • 9篇张玉明
  • 6篇吕红亮
  • 5篇车勇
  • 4篇王悦湖
  • 4篇张林
  • 2篇郭辉
  • 1篇程萍
  • 1篇马永吉
  • 1篇孙明
  • 1篇汤晓燕
  • 1篇韩超
  • 1篇邵科
  • 1篇廖宇龙
  • 1篇陈亮
  • 1篇徐志超
  • 1篇张书霞

传媒

  • 4篇Journa...
  • 4篇Chines...
  • 3篇物理学报
  • 1篇电子学报
  • 1篇强激光与粒子...
  • 1篇微波学报
  • 1篇微电子学
  • 1篇第十六届全国...

年份

  • 1篇2010
  • 7篇2009
  • 7篇2008
  • 1篇2007
15 条 记 录,以下是 1-10
排序方式:
微带线碳化硅E类功率放大器设计
2009年
SiC MESFET由于其高击穿电压和低输出电容,适合用于设计E类功率放大器。设计了一种结构简单的微带线拓扑E类负载网络,可以匹配至标准电阻,且抑制高至5阶的谐波。用ADS软件进行电路仿真,在2.14 GHz频率点下,峰值功率附加效率(PAE)为70.5%,漏极效率可达80%,功率增益约为10 dB。
徐志超吕红亮张玉明张义门
关键词:E类功率放大器MESFET微带线谐波抑制
陷阱效应对4H-SiC MESFET温度特性的影响
2008年
针对4H-SiC射频MESFET中的自热效应,建立了基于解析模型的材料参数温度模型和器件直流模型.研究了由陷阱造成的背栅效应,并结合材料的温度特性分析了温度升高对器件特性的影响.分析了陷阱对器件特性的影响,并进一步阐明了陷落-发射机制.计算得到陷阱能级为1.07eV,俘获截面为1×10-8cm2,器件的自升温达到100K以上,能够较好地反映实验结果.分析结果表明,背栅电势随陷阱浓度的增大而增大,并随着漏极电压的增大而减小,在室温下达到~3V.另外,由于器件中存在自热效应,背栅电势随漏压的变化加剧.这些模拟分析对实际器件的设计及工艺制造提供了理论上的依据.
吕红亮张义门张玉明车勇王悦湖
关键词:SICMESFET自热效应
ESR characters of intrinsic defects in epitaxial semi-insulating 4H-SiC illuminated by Xe light被引量:1
2009年
The intrinsic defects in epitaxial semi-insulating 4H-SiC prepared by low pressure chemical vapor deposition (LPCVD) are studied by electron spin resonance (ESR) with different illumination times. The results show that the intrinsic defects in as-grown 4H-SiC consist of carbon vacancy (Vc) and complex-compounds-related Vc. There are two other apexes presented in the ESR spectra after illumination by Xe light, which are likely to be Vsi and VcCsi. Illumination time changes the relative density of intrinsic defects in 4H-SiC; the relative density of intrinsic defects reaches a maximum when the illumination time is 2.5 min, and the ratio of Vc to complex compounds is minimized simultaneously. It can be deduced that some Vsi may be transformed to the complex-compounds-related Vc because of the illumination.
程萍张玉明张义门郭辉
4H-SiC射频MESFET中陷阱参数的提取方法被引量:2
2008年
针对4H-SiC射频MESFET中的陷阱效应,采用解析的方法建立陷阱模型,分析了陷阱效应对器件带来的影响,阐述了陷阱的陷落-发射机理,提取了时间常数、陷阱浓度等相关参数.得到的模拟结果能够较好的反映实验结果.
吕红亮张义门张玉明车勇王悦湖陈亮
关键词:碳化硅频率偏移
A Simple Method of Surface Parameter Extraction for Gate Schottky Contact in 4H-SiC MESFETs
2008年
We investigate the effects of the surface states on the Schottky contacts in 4H-SiC MESFET. The Ti/Pt/Au gate metal contacts are deposited by electron beam evaporation and patterned by a lift-off process. Based on thermionic theory,a simple parameter extraction method is developed for determination of the surface states in metal/4H-SiC Schottky contacts. The interface state density and interface capacitance are calculated to be 4. 386 × 10^12 cm^-2 · eV^- 1 and 6. 394 × 10^-6 F/cm^2 ,which are consistent with the device's terminal characteristics.
吕红亮张义门张玉明车勇孙明
4H-SiC MESFET大信号非线性特性分析被引量:2
2009年
采用Volterra级数法对4H-SiC射频MESFET的大信号非线性特性进行了分析,并研究了器件尺寸与线性度的关系。模型考虑了陷阱效应对非线性特性的影响,模拟结果能够较好地反映实验结果。进一步分析表明,在1GHz和1.01GHz频率下,当栅长从0.8μm增大到1.6μm,器件的输入(输出)三阶截取点从33.55dBm(36.26dBm)减小到18.1dBm(13.4dBm),1dB压缩点从24dBm下降到7.43dBm。为实际器件的线性化设计提供理论依据。
吕红亮车勇张义门张玉明郭辉张林
关键词:碳化硅金属半导体场效应晶体管VOLTERRA级数
陷阱效应对4H-SiC MESFET频率特性的影响
2008年
针对4H-SiC射频MESFET中的陷阱效应,建立了基于解析模型的器件小信号参数模型,引入能够反映陷阱影响的参数Rds″、gm″、Css等,从而能够由此分析器件特性随频率偏移的情况.对沟道缓冲层界面深能级陷阱的分析表明,4H-SiC MESFET的跨导既有正向偏移,也有负向偏移.偏移频率在室温下不足1Hz,但在600K的温度下则可达到MHz的量级.结合自热效应模型,论文还分析了栅、漏极偏置和温度对器件频率偏移特性的影响.模拟结果表明,随着温度的上升,偏移频段上升.本文的模拟分析对器件的设计提供了理论上的依据.
吕红亮张义门张玉明车勇王悦湖邵科
关键词:碳化硅MESFET频率特性
n型SiC材料带电粒子辐射效应的仿真研究
<正>SiC 材料在高温强辐射的航天环境中有着广阔的前景,高能质子和电子是空间中主要的辐照粒子,会对空间工作的半导体器件产生永久的位移损伤,从而造成电学性能的逐渐退化乃至失效。本文采用 TRIM 程序和 C++语言对不同...
张林张义门张玉明
关键词:SIC带电粒子仿真
文献传递
High energy electron radiation effect on Ni and Ti/4H-SiC Schottky barrier diodes at room temperature被引量:1
2009年
This paper reports that Ni and Ti/4H-SiC Schottky barrier diodes (SBDs) were fabricated and irradiated with 1 MeV electrons up to a dose of 3.43 × 10^14 e/cm2. After radiation, the Schottky barrier height φB of the Ni/4H-SiC SBD increased from 1.20 eV to 1.21 eV, but decreased from 0.95 eV to 0.94 eV for the Ti/4H-SiC SBD. The degradation of φB could be explained by interface states of changed Schottky contacts. The on-state resistance Rs of both diodes increased with the dose, which can be ascribed to the radiation defects. The reverse current of the Ni/4H-SiC SBD slightly increased, but for the Ti/4H-SiC SBD it basically remained the same. At room temperature, φB of the diodes recovered completely after one week, and the RS partly recovered.
张林张义门张玉明韩超马永吉
Ni/4H-SiC肖特基势垒二极管的γ射线辐照效应被引量:7
2009年
对制备的Ni/4H-SiC肖特基势垒二极管(SBD)进行了γ射线辐照试验,并在辐照过程中对器件分别加0和-30V偏压.经过1Mrad(Si)总剂量的γ射线辐照后,不同辐照偏压下的Ni/4H-SiC肖特基接触的势垒高度和理想因子没有退化,SiC外延层中的少子寿命也没有退化.辐照后器件的反向电流下降,这是由于器件表面的负界面电荷增加引起的.研究表明,辐照偏压对Ni/4H-SiCSBD的辐照退化效应没有明显的影响.
张林张义门张玉明韩超马永吉
关键词:肖特基辐照效应偏压
共2页<12>
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