您的位置: 专家智库 > >

国家自然科学基金(11075314)

作品数:3 被引量:12H指数:2
相关作者:阮海波秦国平李万俊方亮孔春阳更多>>
相关机构:重庆师范大学重庆大学重庆文理学院更多>>
发文基金:国家自然科学基金重庆市自然科学基金更多>>
相关领域:理学电子电信更多>>

文献类型

  • 3篇中文期刊文章

领域

  • 3篇理学
  • 1篇电子电信

主题

  • 2篇第一性原理
  • 2篇P型
  • 1篇带隙
  • 1篇第一性原理研...
  • 1篇受主
  • 1篇退火
  • 1篇热退火
  • 1篇稳定性
  • 1篇拉曼
  • 1篇拉曼光谱
  • 1篇溅射
  • 1篇溅射沉积
  • 1篇共掺
  • 1篇光电
  • 1篇光谱
  • 1篇光学
  • 1篇光学带隙
  • 1篇非线性规划法
  • 1篇P型ZNO
  • 1篇AG

机构

  • 2篇重庆大学
  • 2篇重庆师范大学
  • 1篇重庆文理学院

作者

  • 2篇孔春阳
  • 2篇方亮
  • 2篇李万俊
  • 2篇秦国平
  • 2篇阮海波
  • 1篇赵永红
  • 1篇梁薇薇
  • 1篇郑继
  • 1篇吴芳
  • 1篇卞萍
  • 1篇徐庆
  • 1篇杨天勇
  • 1篇孟祥丹

传媒

  • 1篇物理学报
  • 1篇Chines...
  • 1篇中国科学:物...

年份

  • 1篇2013
  • 2篇2012
3 条 记 录,以下是 1-3
排序方式:
Ag-N共掺p型ZnO的第一性原理研究被引量:4
2013年
采用基于密度泛函理论的第一性原理赝势法对Ag-N共掺杂ZnO体系以及间隙N和间隙H掺杂p型ZnO:(Ag,N)体系的缺陷形成能和离化能进行了研究.结果表明,在AgZn和NO所形成的众多受主复合体中,AgZn-NO受主对不仅具有较低的缺陷形成能同时其离化能也相对较小,因此,AgZn-NO受主对的形成是Ag-N共掺ZnO体系实现p型导电的主要原因.研究发现,当ZnO:(Ag,N)体系有额外间隙N原子存在时,AgZn-NO受主对容易与Ni形成AgZn-(N2)O施主型缺陷,该施主缺陷的形成降低了Ag-N共掺ZnO的掺杂效率因而不利于p型导电.当间隙H引入到ZnO:(Ag,N)体系时,Hi易与AgZn-NO受主对形成受主-施主-受主复合结构(AgZn-Hi-NO),此复合体的形成不仅提高了AgZn-NO受主对在ZnO中的固溶度,同时还能使其受主能级变得更浅而有利于p型导电.因此,H辅助Ag-N共掺ZnO可能是一种有效的p型掺杂手段.
李万俊方亮秦国平阮海波孔春阳郑继卞萍徐庆吴芳
关键词:P型ZNO第一性原理
p型ZnO:N薄膜的拉曼及光电特性研究被引量:7
2012年
采用电子束蒸发技术在石英衬底上制备了ZnO薄膜,以N离子注入的方式及后期退火处理实现N掺杂ZnO薄膜.借助拉曼散射光谱、透射光谱和霍尔测试等手段研究了ZnO:N薄膜的拉曼及光电特性.结果表明:所有样品均呈现ZnO纤锌矿结构,在ZnO:N薄膜拉曼光谱中发现与N相关的振动模式(位于272.5,505.1和643.6cm-1),分析表明N已掺入ZnO薄膜中;霍尔测试表明,通过适当退火处理后,ZnO:N薄膜向p型转变,其空穴浓度为7.73×1017cm-3,迁移率为3.46cm2V-1s-1,电阻率为2.34Ωcm.然而,长期进行霍尔跟踪测试发现ZnO:N薄膜的p型性能随时间并不稳定,结合拉曼散射光谱和第一性原理计算分析认为由于p-ZnO:N薄膜中存在残余压应力,同时薄膜中还出现了易补偿空穴的施主缺陷(N2)O是p型不稳定的根本原因.
李万俊孔春阳秦国平阮海波杨天勇孟祥丹赵永红梁薇薇方亮
关键词:拉曼光谱稳定性第一性原理
The effects of post-thermal annealing on the optical parameters of indium-doped ZnO thin films被引量:1
2012年
Indium-doped ZnO thin films are deposited on quartz glass slides by RF magnetron sputtering at ambient temper- ature. The as-deposited films are annealed at different temperatures from 400 C to 800 C in air for 1 h. Transmittance spectra are used to determine the optical parameters and the thicknesses of the films before and after annealing using a nonlinear programming method, and the effects of the annealing temperatures on the optical parameters and the thickness are investigated. The optical band gap is determined from the absorption coefficient. The calculated results show that the film thickness and optical parameters both increase first and then decrease with increasing annealing temperature from 400 C to 800 C. The band gap of the as-deposited ZnO:In thin film is 3.28 eV, and it decreases to 3.17 eV after annealing at 400 C. Then the band gap increases from 3.17 eV to 3.23 eV with increasing annealing temperature from 400 C to 800 C.
彭丽萍方亮吴卫东王雪敏李丽
关键词:ZNO薄膜热退火磁控溅射沉积非线性规划法光学带隙
共1页<1>
聚类工具0