陕西省科学技术研究发展计划项目(2007K07-17)
- 作品数:2 被引量:21H指数:2
- 相关作者:徐均琪冯小利刘衡平严一心更多>>
- 相关机构:西安工业大学更多>>
- 发文基金:西安市科技创新支撑计划基金陕西省科学技术研究发展计划项目更多>>
- 相关领域:理学金属学及工艺更多>>
- 靶电流对非平衡磁控溅射制备无氢碳膜结构与性能的影响被引量:5
- 2009年
- 利用非平衡磁控溅射(UBMS)技术在硅基片上制备了无氢碳膜,并采用Raman光谱、X射线衍射、傅立叶变换光谱等手段对不同靶电流下沉积的薄膜的微观结构、沉积速率、粗糙度、表面接触角及红外透过率进行了研究。试验结果表明:随着靶电流的增大,薄膜的沉积速率增大,薄膜中sp3键含量增加,薄膜表面接触角增大,红外透过率增大;而薄膜的粗糙度随靶电流增加而减小。靶电流是影响非平衡磁控溅射制备无氢碳膜结构与性能的1个主要因素。
- 刘衡平徐均琪严一心
- 关键词:非平衡磁控溅射类金刚石
- 多层薄膜光学常数的椭偏法研究被引量:16
- 2009年
- 研究了椭偏测量中多层薄膜拟和模型建立的过程,并对一未知多层光学薄膜进行了椭偏分析,建立了substrate/film1/EMA/film2/srough的物理结构模型。采用椭偏法,在首先确定出基底光学常数的基础上,提出了从单层、双层、三层逐次建模拟和的分析方法。研究结果表明:对于透明或弱吸收光学薄膜,采用柯西公式可以较好表征材料的色散关系。椭偏分析最终得到的未知薄膜基本结构为G(1.52)/2.0312(203.0nm)1.4636(170.1nm)2.0791(170.4nm)/A,膜系设计及分光光度计测量的透射光谱证实了这一结果。对多层膜厚度和光学常数的分析表明,椭偏法仍然是一种行之有效的薄膜光学常数测量方法。
- 徐均琪冯小利
- 关键词:厚度光学常数椭偏测量