陕西省科学技术研究发展计划项目(2007K07-17)
- 作品数：2 被引量：21H指数：2
- 相关作者：徐均琪冯小利刘衡平严一心更多>>
- 相关机构：西安工业大学更多>>
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- 相关领域：理学金属学及工艺更多>>
- 靶电流对非平衡磁控溅射制备无氢碳膜结构与性能的影响被引量：5
- 2009年
- 利用非平衡磁控溅射(UBMS)技术在硅基片上制备了无氢碳膜,并采用Raman光谱、X射线衍射、傅立叶变换光谱等手段对不同靶电流下沉积的薄膜的微观结构、沉积速率、粗糙度、表面接触角及红外透过率进行了研究。试验结果表明:随着靶电流的增大,薄膜的沉积速率增大,薄膜中sp3键含量增加,薄膜表面接触角增大,红外透过率增大;而薄膜的粗糙度随靶电流增加而减小。靶电流是影响非平衡磁控溅射制备无氢碳膜结构与性能的1个主要因素。
- 刘衡平徐均琪严一心
- 关键词：非平衡磁控溅射类金刚石
- 多层薄膜光学常数的椭偏法研究被引量：16
- 2009年
- 研究了椭偏测量中多层薄膜拟和模型建立的过程,并对一未知多层光学薄膜进行了椭偏分析,建立了substrate/film1/EMA/film2/srough的物理结构模型。采用椭偏法,在首先确定出基底光学常数的基础上,提出了从单层、双层、三层逐次建模拟和的分析方法。研究结果表明:对于透明或弱吸收光学薄膜,采用柯西公式可以较好表征材料的色散关系。椭偏分析最终得到的未知薄膜基本结构为G(1.52)/2.0312(203.0nm)1.4636(170.1nm)2.0791(170.4nm)/A,膜系设计及分光光度计测量的透射光谱证实了这一结果。对多层膜厚度和光学常数的分析表明,椭偏法仍然是一种行之有效的薄膜光学常数测量方法。
- 徐均琪冯小利
- 关键词：厚度光学常数椭偏测量
