江苏省自然科学基金(DK2004032)
- 作品数：4 被引量：11H指数：2
- 相关作者：王晓虹孙智冯培忠刘明王德奎更多>>
- 相关机构：中国矿业大学更多>>
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- 相关领域：金属学及工艺化学工程更多>>
- 离子注入辅助Al_2O_3陶瓷表面化学镀镀层特性研究被引量：4
- 2008年
- 用金属离子源在96Al2O3陶瓷表面注入不同能量和剂量的Ni离子,然后在镀液中进行化学镀铜。用扫描电镜、卢瑟福背散射能谱和X光电子能谱技术对注入层和镀层进行分析研究。结果表明:Ni离子注入可作为一种新的活化工艺,辅助Al2O3陶瓷化学镀铜;注入参数对后续化学镀覆有显著影响,注入获得表面Ni浓度高的镀覆效果较好,应选用低能量进行高剂量注入;试验条件下优选工艺参数为15keV,2.2×1017ions/cm2,该条件下开始化学镀铜的孕育期仅为45s,镀速达到52.43nm/min,镀层表面粗糙度为0.317μm,所得化学镀铜层均匀、致密,与基体结合紧密。
- 王晓虹孙智王德奎刘明
- 关键词：离子注入AL2O3活化化学镀铜
- 氮化铝陶瓷表面化学镀铜溶液组成的优化被引量：2
- 2009年
- 采用正交试验方法研究了镀液组成对氮化铝(AlN)陶瓷表面化学镀铜镀速和表面粗糙度的影响。经过直观分析和方差分析,评价了各组分对化学镀影响的显著程度,优化了镀液组成。试验结果表明,CuSO4·5H2O和Na2EDTA对镀速有显著影响;KNaC4H4O6、CuSO4·5H2O和Na2EDTA对镀后表面粗糙度有显著影响;AlN陶瓷表面化学镀铜液的最优工艺参数为:CuSO4·5H2O24g/L,Na2EDTA30g/L,KNaC4H4O620g/L和HCHO15mol/L。在最优工艺条件下,镀速为7.350μm/h,镀后表面粗糙度为1.03μm,所得镀层表面平整,铜晶粒大小均匀。
- 王晓虹张金强冯培忠孙智
- 关键词：氮化铝陶瓷化学镀铜正交试验
- 配位剂对Al_2O_3陶瓷表面化学镀铜的影响被引量：3
- 2010年
- 研究了EDTA，NaKC4H4O6以及两者复配后，对Al2O3陶瓷表面化学镀铜沉积速率、微观形貌、表面粗糙度和镀液稳定性的影响。结果表明：EDTA为配位剂时，化学镀铜镀速为3．86μm／h，镀层表面粗糙度为0．39μm，镀层铜微粒形成团聚，均匀性较差；NaKC4H4O6配位剂时，镀速为4．55μm／h，表面粗糙度为0．46μm，镀层表面有直径达2～5μm的杂质微粒；EDTA和NaKC4H4O6复配使用时，镀速为4．17μm／h，表面粗糙度为0．35μm，铜镀层微观组织致密，铜微粒大小分布均匀，排列紧密，表面平滑、洁净。
- 王晓虹周华冯培忠孙智
- 关键词：化学镀铜配位剂微观形貌沉积速率
- 镍离子注入Al_2O_3陶瓷表面化学镀铜层与基体结合特征被引量：2
- 2010年
- 用金属蒸汽真空弧离子源在Al2O3陶瓷表面注入Ni2+离子,然后进行化学镀铜。用扫描电镜分析了离子注入辅助Al2O3陶瓷表面化学镀Cu镀层和基体的结合行为。结果表明:镀层呈层状结构生长,镀层与基体存在紧密结合、疏松结合和微孔结合三种形式,紧密结合区镀层像锯齿一样"嵌入"陶瓷基体。镀层与基体的结合机理为机械结合和冶金结合共同作用。
- 王晓虹朱媛媛孙智
- 关键词：离子注入化学镀铜AL2O3镍离子
