江苏省普通高校研究生科研创新计划项目(CXZZ130738)
- 作品数：5 被引量：17H指数：3
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- 相关机构：江南大学苏州工业职业技术学院更多>>
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- 相关领域：机械工程化学工程金属学及工艺理学更多>>
- CeO_2/SiO_2复合磨粒抛光性能及机制研究被引量：1
- 2014年
- 为提高硅片抛光质量与效率,利用均相沉淀法制备CeO2/SiO2复合磨粒,配制绿色环保水基型抛光液对硅片进行化学机械抛光,研究pH值、抛光时间、抛光速度、抛光压力等抛光工艺参数对硅片抛光性能的影响。结果表明:随抛光液pH值增加,材料去除率相应增大;材料去除率在一定时间范围内随抛光时间增加而下降;材料去除量随抛光速度、抛光压力的增加均先增大后减小。推测CeO2/SiO2复合磨粒抛光机制为由于水合作用,在硅片表面形成一层易于磨削的软质层。
- 张强黄国栋赵永武赵元元王永光
- 关键词：化学机械抛光硅片
- 不同润滑条件下UHMWPE/GO的摩擦磨损性能研究被引量：1
- 2015年
- 采用改进的Hummers法制备出氧化石墨烯(GO),并用热压成型法制备超高摩尔质量聚乙烯(UHMWPE)/GO复合材料,利用UMT-2MT摩擦磨损实验机研究不同润滑条件下复合材料的摩擦磨损性能。结果表明,在干摩擦条件下,纯UHMWPE材料的摩擦因数较低,磨损率和磨痕深度较高;而0.3%GO复合材料的磨损率为1.8×10-5mm3/(N·m),相比纯UHMWPE下降25.0%,磨痕的深度约为5.0μm,相比纯UHMWPE下降了17.6%,说明GO可以改善UHMWPE的摩擦磨损性能,提高UHMWPE的耐磨性。与干摩擦相比,在去离子水润滑和小牛血清润滑条件下的UHMWPE/GO复合材料具有较好的摩擦磨损特性,其中小牛血清润滑条件下复合材料的摩擦磨损性能最佳。
- 黄国栋倪自丰陈国美黄华栋赵治安赵永武
- 关键词：氧化石墨烯超高摩尔质量聚乙烯摩擦磨损性能
- 纳米氧化铝对金属基陶瓷涂层性能的影响被引量：6
- 2014年
- 在金属基陶瓷涂层的制备过程中,添加了适量的纳米氧化铝,使涂层的综合性能得到了改善。对涂层的表面形貌、界面结合情况和摩擦磨损性能进行了研究和分析。实验结果表明:添加了纳米氧化铝的涂层试样表面更加光滑平整,涂层与基体结合更加紧密,当纳米氧化铝的最佳添加量为陶瓷骨料总质量的2%时,制备出来的陶瓷涂层综合性能达到最佳。
- 黄国栋倪自丰卞达杨大林赵治安马松涛王永光赵永武
- 关键词：纳米氧化铝陶瓷涂层耐磨性
- 化学机械抛光中化学作用和机械作用协同的实验研究被引量：3
- 2014年
- 借助现代实验仪器在微纳量级模拟化学机械抛光工况条件,采集摩擦界面的实时摩擦因数,研究单晶硅片化学机械抛光中的化学作用和机械作用的协同及相互影响关系.研究结果表明:在一定的化学机械抛光工艺条件下,去离子水和过氧化氢的化学作用及抛光正压力与滑划速度的机械作用对化学机械抛光的材料去除过程有着不同的影响.进一步分析研究获得了化学和机械作用协同的工艺参数条件:当抛光正压力为70mN、滑划速度为8.00mm/s时,抛光效果最优.
- 陈晓春赵永武
- 关键词：化学机械抛光
- 单晶硅片化学机械抛光的表面损伤研究被引量：6
- 2014年
- 通过模拟化学机械抛光的工况条件,对不同化学作用的单晶硅片表面进行纳米划痕实验,利用现代分析仪器与技术,对抛光后单晶硅片的表面和亚表面损伤进行研究。结果表明:在一定的工况参数条件下,机械作用和化学作用匹配时,可以获得高的材料去除率和无表面层及亚表层损伤的高质量的抛光表面。在化学机械抛光过程中,机械作用的加强可以提高材料去除率,但作用力增至一定值之后,抛光后表层和亚表层损伤将逐渐加大;化学作用可以增加机械作用下的材料去除率,但抛光表面在化学反应作用下会产生表面损伤。通过调整机械参数如压力和速度等可以控制摩擦化学反应中的反应热,从而实现机械作用对摩擦扩散化学的控制,调控单晶硅片的超精密抛光中化学物质的使用,实现环保型绿色抛光。
- 陈晓春赵永武王永光
- 关键词：化学机械抛光
