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微波法大功率稳定快速沉积CVD金刚石膜被引量：10: 2007年; 为了提高微波等离子体化学气相沉积CVD金刚石膜的速率,通过对微波源的磁控管、装置的冷却系统及真空密封技术三方面的改进,当微波频率为2.45 GHz、输出有效功率为6.0 kW以上时,装置能够长期稳定地运行;并在微波输入功率4.5 kW、CH4质量分数1.2%、气体流量150 SCCM、沉积气压9.5 kPa、基片温度(900±10)°C、沉积时间240 h的沉积工艺条件下(衬底上加上-150 V偏压),成功地在硅片上快速沉积出了厚度为500μm的金刚石厚膜,平均沉积速率为2.1μm/h,沉积膜的拉曼光谱图和SEM照片表明沉积出金刚石膜的质量很好.; 黄建良汪建华; 关键词：金刚石膜化学气相沉积磁控管

水冷反应室式 MWPCVD制备金刚石膜装置研制被引量：4: 2001年; 微波等离子体化学气相沉积 (MWPCVD)是制备金刚石膜的一种重要方法。为了获得金刚石膜的高速率大面积沉积，研制成功了水冷反应室式 MWPCVD制备金刚石膜的装置。装置在微波输入功率为 3.0 kW时能长时间稳定运行，并在硅衬底上沉积出金刚石膜。; 舒兴胜邬钦崇; 关键词：金刚石膜微波等离子体化学气相沉积

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国家高技术研究发展计划(715-002-0020)