国家高技术研究发展计划(2006AA804908)
- 作品数：3 被引量：18H指数：3
- 相关作者：刘晓凤李笑邵建达赵元安李大伟更多>>
- 相关机构：中国科学院上海光学精密机械研究所中国科学院研究生院更多>>
- 发文基金：国家高技术研究发展计划更多>>
- 相关领域：理学电子电信更多>>
- 激光预处理对SiO_2单层膜中缺陷的影响被引量：7
- 2010年
- 采用小光斑激光预处理扫描SiO2单层膜,利用激光损伤阈值的光斑效应对预处理前后SiO2单层膜中缺陷的影响进行分析,并引入缺陷阈值和缺陷密度来表征薄膜中引起损伤的缺陷。研究表明,激光预处理可以使SiO2单层膜在采用最大光斑条件下的损伤阈值提高1.6倍左右,并且激光预处理可清除薄膜中低阈值的缺陷。
- 李笑刘晓凤赵元安邵建达
- 关键词：激光预处理
- 激光预处理ZrO_2-SiO_2 1064nm高反射膜的机理被引量：4
- 2010年
- 分析了激光预处理对ZrO2-SiO21064nm高反射膜激光损伤阈值以及引起损伤缺陷的影响。在以缺陷损伤阈值和缺陷密度表征缺陷的基础上,研究了预处理前后薄膜中引起损伤缺陷的变化情况。研究了激光预处理能量和预处理效果的关系。结果表明,激光预处理可以清除ZrO2-SiO21064nm高反射膜中低阈值的缺陷,但预处理能量密度较高时,可以使薄膜中高阈值缺陷转化成低阈值缺陷。因此扫描预处理应采用相对较低的能量密度。
- 李笑刘晓凤单永光赵元安邵建达范正修
- 关键词：激光技术激光预处理缺陷密度ZRO2-SIO2
- 电子束蒸发制备HfO_2/SiO_2高反膜的1064 nm激光预处理效应被引量：10
- 2009年
- 激光预处理是提高薄膜元件抗激光损伤阈值的重要手段。对电子束蒸发HfO_2,SiO_2块状材料镀制的基频高反膜进行了1-on-1和R on-1阈值测试,比较分析了两种测试情况下出现的典型损伤形貌。实验发现,R-on-1测试表现出明显的预处理效应,其所测抗激光损伤阈值是1-on-1测试的3倍;1-on-1测试下的典型损伤形貌是围绕平底小坑的等离子烧蚀损伤,R-on-1测试下的典型损伤形貌仅是表面等离子体烧蚀损伤;表面轮廓测试的结果表明两种损伤形貌的烧蚀区域中心都是凸起的。两种典型损伤破坏形貌及其差异的研究说明吸收性缺陷是引起此样品损伤的主要诱因,预处理对吸收性缺陷的力学稳定作用是此样品抗激光损伤阈值提高的宏观原因。
- 刘晓凤李大伟李笑赵元安邵建达
- 关键词：激光预处理
