国家自然科学基金(50075055)
- 作品数：5 被引量：12H指数：2
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- 有机玻璃的反应离子深刻蚀被引量：1
- 2004年
- 以有机玻璃薄片为原料,进行反应离子深刻蚀,探讨了有机玻璃的刻蚀反应机理,着重研究了工作气压和功率密度对刻蚀速率、图形形貌的影响.结果表明,O2反应离子刻蚀有机玻璃是以化学刻蚀为主,同时离子碰撞作用也很重要.刻蚀速率开始随气压增大而加快,刻蚀速率主要受氧活性粒子浓度控制;气压超过一定值时,刻蚀速率反而减小,气压太高不利于各向异性刻蚀.刻蚀速率随功率增加而增大,适当增大功率有利于各向异性刻蚀.通过优化刻蚀工艺,可以获得侧壁较陡直光滑的有机玻璃微结构,扩展了加工微结构的方法.
- 张丛春杨春生丁桂甫毛海平倪智萍
- 关键词：反应离子刻蚀有机玻璃微结构微机电系统
- PMMA的反应离子深刻蚀被引量：2
- 2004年
- 对PMMA进行反应离子深刻蚀以获得高深度比微结构。研究了纯氧刻蚀气体中加入CHF3 对刻蚀速率、图形形貌等的影响。纯氧刻蚀PMMA ,钻蚀现象严重。加入CHF3 后 ,刻蚀速率随CHF3 含量增加而下降。加入适量CHF3 ,可以在侧壁形成钝化层 ,保护侧壁不受钻蚀。当CHF3 含量为 4 0 % ,刻蚀功率 30W ,工作气压为 4Pa时 ,即使刻蚀深度达到 4 0 0 μm ,侧壁仍然陡直 ,刻蚀深宽比大于 10。
- 张丛春杨春生丁桂甫黄龙旺
- 关键词：PMMA反应离子刻蚀
- 微米级锂离子电池正极材料尖晶石LiMn_2O_4的合成及性能被引量：6
- 2004年
- 对微米级和常规固相反应方法制备的锂离子电池正极材料尖晶石LiMn2O4的结构和性能进行了比较,并采用扫描电子显微镜(SEM),X 射线衍射(XRD)及慢扫描循环伏安(SSCV)、交流阻抗(EIS)的电化学测试方法对材料进行了表征.结果表明微米级的尖晶石LiMn2O4,颗粒均匀,晶体结晶性好;在10次慢扫描循环伏安曲线中,容量衰减相对较小;从材料的交流阻抗谱中可看出,随着循环的进行,靠近循环伏安峰电位附近的电荷转移电阻变化小.
- 吴晓梅杨春生奚峻吴益华
- 关键词：正极材料尖晶石LIMN2O4循环伏安
- 商品有机玻璃片微结构的深刻蚀研究被引量：1
- 2003年
- 研究应用O2反应离子刻蚀(RIE)直接深刻蚀商用有机玻璃(PMMA)片,以实现微结构的三维微加工,工艺简单,加工成本较低,为微器件的高深宽比加工提出了新方法。试样采用Ni作掩膜,以普通的光刻胶曝光技术和湿法刻蚀法将Ni掩膜图形化。工作气压、刻蚀功率等工艺参数对刻蚀速率影响较大。在刻蚀过程中,掩膜上的金属粒子会被刻蚀气体离子轰击而溅射散落出来,形成微掩膜效应。利用这种RIE技术,在适当的溅射功率及气压下,刻蚀速率较快,且获得了较陡直的微结构图形,刻蚀深度达120μm。
- 黄龙旺杨春生丁桂甫
- 关键词：反应离子刻蚀微结构PMMA刻蚀速率
- 反应离子刻蚀PMMA的各向异性刻蚀研究被引量：2
- 2002年
- 研究目的是优化Ni掩模PMMARIE的刻蚀参数 ,在氧刻蚀气体中加入表面钝化性气体CHF3 ,以较快的刻蚀速率获得垂直的侧壁和最小的掩模钻蚀。采用平行板结构的反应离子刻蚀机刻蚀 ,研究了刻蚀气压、CHF3 /O2 比率和刻蚀温度对垂直、侧向刻蚀速率和PMMA微结构形貌的影响。试验表明 :当CHF3 含量大于 50 %或O2 工作气压较低时 ,会显著影响RV/RL 比 ,当RV/RL 比大于 8时 ,试样呈现出完全各向异性刻蚀。
- 黄龙旺杨春生丁桂甫
- 关键词：反应离子刻蚀PMMA各向异性RIE干法刻蚀
