国家自然科学基金(60938003)
- 作品数：23 被引量：136H指数：8
- 相关作者：李艳秋王向朝步扬刘克曹宇婷更多>>
- 相关机构：北京理工大学中国科学院上海光学精密机械研究所中国科学院研究生院更多>>
- 发文基金：国家自然科学基金国家科技重大专项教育部长江学者奖励计划更多>>
- 相关领域：机械工程理学电子电信航空宇航科学技术更多>>
- 一种新的相移点衍射干涉仪系统误差标定方法被引量：8
- 2010年
- 相移点衍射干涉仪利用测试波和参考波的横向错位产生载波干涉条纹,因此测量结果中必然引入一定的系统误差。在分析相移点衍射干涉仪主要系统误差源的基础上,提出了一种新的系统误差标定方法,即旋转光栅法。该方法根据光栅在正交方向上的两次测量结果,利用泽尼克多项式在单位圆域的正交特性和奇偶对称性质即可标定干涉仪的系统误差。可见光波段的标定实验结果表明,系统的几何彗差为-0.116λ,与理论计算结果-0.133λ基本一致,证明了该方法的有效性。
- 刘克李艳秋
- 关键词：光学测量光刻移相干涉术点衍射干涉仪
- 基于相位环空间像主成分分析的投影物镜波像差检测方法被引量：3
- 2014年
- 提出一种基于阶梯相位环空间像主成分分析的光刻投影物镜波像差检测方法。通过对相位环空间像进行主成分分析和多元线性回归分析，构建了空间像光强分布与波像差之间的线性模型，并基于该模型实现了波像差检测。与使用孤立空检测标记的传统方法相比，使用新检测标记能够消除不同种类波像差之间的串扰问题，提高像差检测精度。同时，分析了空间像的离焦误差对波像差检测精度的影响，并提出了一种迭代算法用于确定实测空间像的离焦误差，其测量精度优于1nm。光刻仿真软件Dr．LiTHO的仿真结果表明，该法有能力检测12项泽尼克系数（Z5～Z15），最大系统误差约为1×10^-3λ，检测速度可提高一倍以上。
- 杨济硕王向朝李思坤闫观勇
- 关键词：成像系统光刻主成分分析
- Mueller矩阵成像偏振仪的误差标定和补偿研究被引量：5
- 2016年
- Mueller矩阵成像偏振仪是测量材料和器件偏振特性的重要仪器,也是测量浸没光刻机偏振像差的检测仪器,该偏振仪由偏振态产生器和偏振态分析器组成。其组成中的λ/4波片相位延迟量误差及其快轴方位角误差与偏振片透光轴的方位角误差是影响Mueller矩阵成像偏振仪测量精度的主要误差源。通过对本课题组研制的Mueller矩阵成像偏振仪中5个主要误差因素进行标定和补偿,显著提高了其测量精度。利用傅里叶分析法获得各项傅里叶系数,并根据各个误差与傅里叶系数的关系,实现了这些误差的标定,即达到对Mueller矩阵成像偏振仪误差标定的目的。根据标定出的误差大小对Mueller矩阵成像偏振仪进行了补偿。实验结果表明,通过对器件参数误差标定和补偿,Mueller矩阵成像偏振仪的测量精度由0.2015提高到0.1051,提高了47.84%。最后用该Mueller矩阵成像偏振仪对一个物镜系统的偏振像差进行了测量,重复测量精度达到了1.1%。
- 李建慧郑猛张雪冰李艳秋
- 消除光强调制影响的双波长正弦相位调制干涉仪被引量：2
- 2011年
- 在双波长半导体激光（LD）正弦相位调制（SPM）干涉仪中,通过注入电流调制LD波长的同时,光源的输出光强也被调制,影响了测量精度。提出了一种新的双波长LD SPM干涉仪,通过对干涉信号进行处理,得到与干涉信号相位相关的线性方程组,利用该方程组精确计算相位,消除了光源光强调制的影响,使测量误差由6μm减小至1μm,并利用该干涉仪与波长扫描技术相结合实现了绝对距离的测量,当待测距离为60~280 mm时,测量结果的重复性为1μm。
- 王渤帆李中梁王向朝步扬
- 关键词：半导体激光器正弦相位调制
- 超高数值孔径Schwarzschild投影光刻物镜的光学设计被引量：13
- 2013年
- 针对45nm及以下节点光刻相关技术的研究需求,确定了实验型投影光刻物镜的结构型式及设计指标。依据像差理论在非同心小遮拦的Schwarzschild反射系统中添加折射补偿镜组来进一步减小系统的中心遮拦,扩大像方数值孔径。设计了一套小中心遮拦,数值孔径为1.20的Schwarzschild折反式投影光刻物镜。设计结果表明,该投影光刻物镜工作带宽为100pm,像方视场为50μm,线中心遮拦比为13%,光学分辨力为80nm时(6240lp/mm)的系统调制传递函数大于0.45,全视场最大畸变为6.5nm,满足了45nm深紫外(DUV)浸没光刻实验平台对投影光刻物镜的需求。
- 胡大伟李艳秋刘晓林
- 关键词：光学设计投影光刻物镜SCHWARZSCHILD深紫外
- 极紫外投影光刻掩模阴影效应分析被引量：8
- 2012年
- 极紫外(EUV)投影光刻掩模在斜入射光照明条件下,掩模成像图形位置和成像图形特征尺寸(CD)都将随入射光方向变化,即存在掩模阴影效应。基于一个EUV掩模衍射简化模型实现了掩模阴影效应的理论分析和补偿,得到了掩模(物方)最佳焦面位置和掩模图形尺寸校正量的计算公式。掩模(物方)焦面位置位于多层膜等效面上减小了图形位置偏移;基于理论公式对掩模图形尺寸进行校正,以目标CD为22nm的线条图形为例,入射光方向变化时成像图形尺寸偏差小于0.3nm,但当目标CD继续减小时理论公式误差增大,需进一步考虑掩模斜入射时整个成像光瞳内的能量损失和补偿。
- 曹宇婷王向朝步扬刘晓雷
- 关键词：光学制造极紫外投影光刻掩模
- 偏振正交误差对偏振光导航定位系统测量精度的影响被引量：7
- 2011年
- 偏振正交误差是影响四通道时分复用大气偏振检测系统精度的主要因素。通过建立检偏器阵列偏振正交误差对偏振光导航系统定位精度的影响模型,分析了该误差对大气偏振测量精度与导航定位精度的影响,并进行了实验验证。理论与实验结果表明,降低检偏器阵列偏振正交误差,可以显著提高系统大气偏振测量精度与导航定位精度。当检偏器阵列偏振正交误差无法消除时,调整定位初始角可以明显提高系统测量精度与导航定位精度。
- 黄旭锋步扬王向朝
- 关键词：导航
- 极紫外投影光刻接触孔掩模的快速仿真计算被引量：8
- 2012年
- 采用一个极紫外投影光刻掩模衍射简化模型实现了三维接触孔掩模衍射场的快速仿真计算。基于该模型,得到了接触孔掩模衍射场分布的解析表达式,并对光刻成像时的图形位置偏移现象进行了解释和分析。简化模型中,掩模包括吸收层和多层膜两部分结构,吸收层的透射利用薄掩模修正模型进行计算,多层膜的反射近似为镜面反射。以周期44nm、特征尺寸分别为16nm和22nm的方形接触孔为例,入射光方向发生变化时,该简化模型与严格仿真相比,图形特征尺寸误差小于0.4nm,计算速度提高了近100倍。此外,考虑到多层膜镜面位置对图形位置偏移量的影响,得到了图形位置偏移量的计算公式,其计算结果也与严格仿真相一致。
- 曹宇婷王向朝步扬
- 关键词：光栅衍射极紫外投影光刻
- 平面面形绝对检验技术测量误差分析被引量：17
- 2011年
- 绝对检验消除了参考面面形误差对干涉测量精度的制约,可实现纳米精度的面形测量。对现有主要平面面形绝对检验技术进行了总结比较,运用泽尼克多项式前36项构建被测平面,对边缘噪声、平面原始精度、旋转角度与偏心误差等因素对典型平面面形绝对检验技术测量精度的影响进行了模拟分析。绝对检验对被测平面原始精度、干涉图分辨率和旋转角度误差不敏感,对边缘噪声和旋转偏心误差敏感。实际测量中,旋转轴心对准误差应小于2 pixel,测量中心面积比取95%左右。
- 徐洋唐锋王向朝徐静浩范李立程欣
- 极紫外投影光刻掩模衍射简化模型的研究被引量：10
- 2011年
- 建立一个计算极紫外投影光刻掩模衍射场的简化模型,在该简化模型中通过对入射光场进行追迹推导衍射场分布的解析表达式。简化模型中的掩模包括多层膜结构和吸收层结构两部分。多层膜结构的衍射近似为镜面反射。吸收层结构的衍射利用薄掩模修正模型进行分析,即将吸收层等效为位于某等效面上的薄掩模,引入边界点脉冲描述边界衍射效应,通过确定等效面的位置和边界点脉冲的振幅和相位,对经过吸收层的几何光波进行修正。吸收层结构的薄掩模修正模型能够用于计算斜入射角在12°范围内变化时,11nm及其以上节点的密集线条的衍射场。以计算6°角斜入射、22nm密集线条的掩模衍射场为例,该掩模简化模型与严格仿真计算结果相一致。
- 曹宇婷王向朝邱自成彭勃
- 关键词：衍射极紫外投影光刻时域有限差分算法
