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浙江省教育厅科研计划(Y201017252)

作品数:3 被引量:1H指数:1
相关作者:秦会斌郑梁邓江峡周继军郑鹏更多>>
相关机构:杭州电子科技大学更多>>
发文基金:浙江省教育厅科研计划国家自然科学基金浙江省自然科学基金更多>>
相关领域:电子电信理学自动化与计算机技术更多>>

文献类型

  • 3篇中文期刊文章

领域

  • 1篇电子电信
  • 1篇自动化与计算...
  • 1篇理学

主题

  • 1篇导热
  • 1篇导热复合材料
  • 1篇有限元
  • 1篇有限元分析
  • 1篇射频磁控
  • 1篇气压
  • 1篇脉冲
  • 1篇聚合物基
  • 1篇机关
  • 1篇溅射
  • 1篇溅射法
  • 1篇溅射法制备
  • 1篇复合材料
  • 1篇VC++
  • 1篇YIG
  • 1篇
  • 1篇ANSYS
  • 1篇磁控
  • 1篇复合材

机构

  • 3篇杭州电子科技...

作者

  • 3篇郑梁
  • 3篇秦会斌
  • 2篇郑鹏
  • 2篇周继军
  • 2篇邓江峡
  • 1篇晏学飞
  • 1篇郑辉
  • 1篇王文志

传媒

  • 2篇电子世界
  • 1篇电子与封装

年份

  • 1篇2015
  • 2篇2014
3 条 记 录,以下是 1-3
排序方式:
氧气压强对Si基片上沉积YIG薄膜微观结构和磁性的影响被引量:1
2014年
本文研究了氧气压强对用脉冲激光沉积技术(PLD)在Si(100)基片上制备的YIG薄膜性能的影响。采用X射线衍射仪(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)、震动样品磁强计(VSM)、铁磁共振仪(FMR)等检测了薄膜微观性能及磁性。研究发现:(1)在0.3Pa和1Pa下制备的YIG薄膜中没有杂相,而在4Pa和16Pa的薄膜中出现了YIP相;(2)薄膜的晶粒尺寸随氧压增大而减小;(3)在1Pa下制备得到的薄膜共振线宽最小,为91Oe;(4)薄膜饱和磁化强度(Ms)随氧压的增加而降低,1Pa下得到的薄膜的Ms为138Oe,最接近理论值。
门天宇邓江峡郑鹏郑梁周继军秦会斌
退火条件对射频磁控溅射法制备YIG薄膜性能的影响
2014年
本文采用射频磁控溅射法在硅基片上沉积YIG薄膜,主要研究了退火条件对YIG薄膜性能的影响。研究结果表明在750oC退火4小时制备的薄膜性能最好,其饱和磁化强度可达到185.9emu/cm3,远大于YIG块材的Ms(139emu/cm3)。此外,其磁性与Fe2+相关。
晏学飞邓江峡郑辉郑梁秦会斌
关键词:YIG
聚合物基复合封装材料导热性能的参数仿真
2015年
鉴于聚合物基复合封装材料导热性能传统研究方法的不足(效率低、预测模型不合理等),提出了一种基于VC++结合ANSYS和MATLAB联合编程的方法,对聚合物基复合材料的导热性能进行参数化有限元分析。用户只需要在由VC++开发出来的人机交互界面上输入复合材料的相关导热参数,即可由ANSYS与MATLAB相互协作完成导热模型的构建、模型导热率的数值仿真、结果输出的可视化处理等一系列工作。通过分析氮化铝填充环氧树脂复合材料的导热性能,检验了该方法的可靠性。研究结果表明,该方法不仅能够有效地预测实验结果,而且还方便易用。
王文志郑鹏周继军郑梁秦会斌
关键词:ANSYS导热复合材料VC++有限元分析
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