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国家自然科学基金(50871055)

作品数:1 被引量:5H指数:1
相关作者:吴健杨森许立立更多>>
相关机构:南京理工大学更多>>
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相关领域:一般工业技术电子电信更多>>

文献类型

  • 1篇中文期刊文章

领域

  • 1篇电子电信
  • 1篇一般工业技术

主题

  • 1篇羟基磷灰石
  • 1篇脉冲激光
  • 1篇脉冲激光沉积
  • 1篇结晶度

机构

  • 1篇南京理工大学

作者

  • 1篇许立立
  • 1篇杨森
  • 1篇吴健

传媒

  • 1篇中国激光

年份

  • 1篇2012
1 条 记 录,以下是 1-1
排序方式:
热处理对脉冲激光沉积羟基磷灰石薄膜组织和性能的影响被引量:5
2012年
利用脉冲激光沉积技术在Ti6Al4V(TC4)合金表面制备了羟基磷灰石(HA)薄膜,研究了退火温度对薄膜组织和性能的影响。采用扫描电子显微镜(SEM)、能谱仪(EDS)、X射线衍射(XRD)和傅里叶红外光谱(FTIR)等分析手段对热处理前后薄膜的表面形貌、成分和组织结构进行了分析;采用轮廓仪、接触角测量仪分别对热处理前后薄膜的表面粗糙度和润湿性进行了测量。实验结果表明,利用脉冲激光沉积技术制备的HA薄膜致密、无缺陷,主要由非晶相组成。热处理后的薄膜结晶度提高、表面粗糙度增大,Ca/P比更接近于HA,具有更好的表面亲水性。但是过高的热处理温度(700℃)会导致薄膜中微裂纹的出现。
吴健许立立杨森
关键词:脉冲激光沉积羟基磷灰石结晶度
共1页<1>
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