山东省卫生厅科技基金(200712074)
- 作品数：1 被引量：4H指数：1
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- 丝裂霉素C对LASEK术后Haze形成及角膜基质细胞的影响被引量：4
- 2012年
- 目的探讨在准分子激光角膜上皮瓣下磨镶术(LASEK)中,使用不同浓度丝裂霉素C(MMC)、作用不同时间,对Haze的形成及角膜基质细胞变化的影响。方法 40只兔(80眼),取随机一眼为实验眼,行LASEK术+MMC,对侧眼为手术对照组,仅行LASEK手术。实验眼又随机分为4组:T1组为0.02%的MMC作用10 s,T2组为0.02%的MMC作用30 s,T3组为0.08%的MMC作用10 s,T4组为0.08%的MMC作用30s。另设5兔(10眼)为正常对照组,不做任何手术及药物处理。术后观察Haze形成情况及并发症,并对角膜基质细胞凋亡进行实验研究。结果术后1周内T1、T2、T3组角膜基本愈合,T4组仍有部分未愈合。术后1周,所有实验组的双眼角膜均有不同程度的Haze形成,其中T2、T3、T4组与手术对照组相比,差异有统计学意义(P<0.05),而此实验三组之间差异无统计学意义(P>0.05)。T1组与手术对照组相比差异无统计学意义(P>0.05)。各组之间的角膜基质TUNEL阳性细胞数量差异均具有统计学意义(P<0.05),PT4组>PT3组>PT2组>PT1组>P手术对照组。结论 MMC可以减少Haze形成,增加作用时间及浓度都会明显抑制Haze的形成,增强角膜基质细胞凋亡。浓度为0.08%,作用时间为30 s的MMC作用最明显,但其对于角膜的刺激作用较大,上皮修复时间较长。
- 于海群陶祥臣朱伟原越张泳
- 关键词：丝裂霉素CHAZE角膜基质细胞
