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国家科技重大专项(2009ZX02023-2-1)

作品数:2 被引量:0H指数:0
相关作者:李曦石艳玲蔡静祝文韬王勇更多>>
相关机构:华东师范大学上海集成电路研发中心更多>>
发文基金:国家科技重大专项上海市青年科技启明星计划更多>>
相关领域:自动化与计算机技术电气工程电子电信更多>>

文献类型

  • 2篇中文期刊文章

领域

  • 1篇电子电信
  • 1篇电气工程
  • 1篇自动化与计算...

主题

  • 1篇氧化硅
  • 1篇损耗
  • 1篇退火
  • 1篇退火工艺
  • 1篇品质因子
  • 1篇界面态
  • 1篇交叠
  • 1篇隔层
  • 1篇二氧化硅
  • 1篇非易失性
  • 1篇非易失性存储
  • 1篇非易失性存储...
  • 1篇SONOS
  • 1篇
  • 1篇HFSS仿真
  • 1篇存储器

机构

  • 2篇华东师范大学
  • 1篇上海集成电路...

作者

  • 2篇石艳玲
  • 2篇李曦
  • 1篇李小进
  • 1篇胡少坚
  • 1篇周群
  • 1篇王勇
  • 1篇祝文韬
  • 1篇蔡静

传媒

  • 2篇电子器件

年份

  • 2篇2011
2 条 记 录,以下是 1-2
排序方式:
N_2O气氛退火对SONOS非易失性存储器性能的优化研究
2011年
SONOS(Silicon-Oxide-Nitride-Oxide-Silicon)型非易失性存储器件的电荷保持能力与Si-SiO2界面态的质量密切相关。通过在SONOS的隧穿氧化层工艺流程中增加适当的N2O退火工艺,改善了器件的擦除深度和编程速度,从而使得SONOS器件的存储器性能得到优化。通过进一步电荷泵测试表明,电荷泵电流值Icp由1.8×10-6A减小到1.3×10-6A,减小27.8%,即隧穿氧化层与衬底之间的界面态显著减少。因此,在SONOS工艺中增加适当的N2O退火工艺,能有效地优化存储器的存储能力,提高SONOS存储性能。
周群林钢李曦沈国飞曹刚石艳玲
关键词:退火工艺界面态
隔层不交叠多层电感分析与设计
2011年
提出了一种隔层不重叠的新型结构片上螺旋电感,其实现工艺与标准CMOS多层布线技术兼容。结合螺旋电感的集总模型,利用电磁场仿真软件HFSS进行了该器件的模拟仿真,与相同结构参数和工艺参数的传统不隔层交叠多层电感相比,提出的新型电感在品质因子、自谐振频率、3dB带宽等性能参数上明显改善,其中电感品质因子提高3.5%,带宽增加65%,自谐振频率提高127%,且最大品质因子处对应的电感值达到nH量级,符合射频电路应用的需求。
祝文韬李小进蔡静胡少坚王勇李曦石艳玲
关键词:品质因子HFSS仿真损耗
共1页<1>
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