上海市教委科研基金(06ZZ67)
- 作品数：13 被引量：125H指数：8
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- 相关机构：上海电力学院上海大学厦门大学更多>>
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- 相关领域：金属学及工艺化学工程更多>>
- 聚天冬氨酸对铜缓蚀作用的光电化学研究被引量：7
- 2008年
- 用光电化学方法研究了绿色水处理药剂聚天冬氨酸对铜的缓蚀作用,铜在硼酸-硼砂缓冲溶液(pH=9.2)中,表面的Cu2O膜显p-型光响应,添加适量缓蚀剂聚天冬氨酸(PASP)后,PASP吸附在铜电极表面成膜促使Cu2O膜增厚,体现在电位在负向扫描过程中Cu2O膜的p-型光电流增大。p-型光电流越大,缓蚀性能越好。当PASP浓度为3mg·L-1时,Cu2O膜的p-型光电流最大,缓蚀性能最好。Cl-的存在会阻止PASP在铜电极表面的吸附,使Cu2O膜暴露而受侵蚀,导致了PASP的缓蚀性能变差。
- 朱律均徐群杰曹为民万宗跃印仁和周国定林昌健
- 关键词：聚天冬氨酸光电化学缓蚀剂铜
- 铜镍合金耐蚀性影响的研究进展被引量：16
- 2007年
- 综述了近年来有关铜镍合金的研究进展,分析归纳了影响铜镍合金耐蚀性能的一系列影响因素.材料因素如合金组分,形变;环境因素如温度,pH,微生物,流速,S2-离子,缓蚀剂等.并指出了今后铜镍合金研究方法的发展方向.
- 徐群杰黄诗俊
- 关键词：铜镍合金缓蚀剂
- 模拟水中白铜B30耐蚀性影响因素的光电化学研究被引量：12
- 2007年
- 用动电位伏安法和光电化学方法对模拟水中白铜B30耐蚀性影响因素进行了研究.白铜B30表面膜显示p-型光响应,光响应来自电极表面的Cu2O层,在模拟水溶液中表面膜的半导体性质会发生转变,由p-型转为n-型;在不同Cl-,SO24?浓度的模拟水溶液中,电位正向扫描时呈现阳极光电流,电位负向扫描时随着Cl-,SO24?离子浓度的增加,光响应由p-型向n-型转变,阳极光电流峰面积与阴极光电流峰面积之比增大,耐蚀性能降低;随着温度的升高,白铜B30的耐蚀性能降低;在pH=7～9之间,其耐蚀性能随着pH的升高而提高,当pH>9时,其耐蚀性能随着pH的升高呈降低趋势.
- 徐群杰万宗跃印仁和朱律均曹为民周国定林昌健
- 关键词：光电化学
- 新型绿色缓蚀剂植酸的研究进展被引量：14
- 2009年
- 对高效无毒缓蚀剂的研究是缓蚀剂的重要发展方向,植酸是一种从天然农作物中提取出来的绿色缓蚀剂,它可作为钢铁、铜、镁合金和铜合金的缓蚀剂,本文综述了有关植酸作为缓蚀剂的研究进展,提出了自组装技术和复配技术可作为植酸缓蚀剂发展的重要方向。
- 徐群杰齐航周小晶周国定
- 关键词：绿色缓蚀剂植酸钢铁自组装膜
- 植酸自组装膜对黄铜的缓蚀作用
- 用动电位伏安法和光电化学方法研究了植酸自组装单分子膜(SAMs)对黄铜的缓蚀作用。结果表明,植酸分子易在黄铜表面形成稳定的植酸SAMs,光电化学测试黄铜表面膜显示P-型光响应,光响应来自电极表面的CuO层,植酸SAMs的...
- 徐群杰万宗跃齐航周小金丁斯婧
- 关键词：植酸自组装膜黄铜电化学
- 文献传递
- 模拟冷却水中黄铜管耐蚀性影响因素的光电化学研究被引量：3
- 2008年
- 针对模拟冷却水中各种离子对黄铜管的耐蚀性影响采用光电化学方法和交流阻抗法进行了研究。在模拟水中黄铜电极表面膜显示p-型光响应,光响应来自电极表面的Cu2O层,改变模拟水溶液中Cl-、SO42-和S2-浓度时,其表面膜的半导体性质仍为p-型,但阴极光电流峰值的大小会发生变化,阴极光电流峰值越大,其耐蚀性能越好。随着Cl-、SO42-和S2-浓度的增加,黄铜的阻抗逐渐增大,耐蚀性能提高,当Cl-、SO24-和S2-浓度分别高于49.92 mg/L、80.8 mg/L、10 mg/L时,黄铜耐蚀性能降低,腐蚀越严重。
- 徐群杰万宗跃黄诗俊印仁和
- 关键词：黄铜光电化学
- 3-氨基-1，2，4-三氮唑对铜的缓蚀性能和吸附行为被引量：13
- 2009年
- 采用电化学和表面增强拉曼光谱(SERS)方法研究了新型环境友好型金属水处理剂3-氨基-1,2,4-三氮唑(ATA)对铜在3%NaCl溶液中的缓蚀性能和吸附行为.结果表明,ATA对铜有较好的缓蚀作用,其中ATA浓度为0.24mmol·L-1时对铜的缓蚀效率最高,为97.65%,其吸附行为符合Langmuir吸附等温式,吸附机理是典型的化学吸附.SERS表明,ATA分子通过很强的吸附于铜表面达到抑制其腐蚀的作用,是ATA-与Cu+形成配合物来阻止氯离子化合物(CuCl2-)的生成.
- 徐群杰李春香周国定朱律均林昌健
- 关键词：铜缓蚀剂电化学SERS
- 钨酸钠对黄铜缓蚀作用的电化学研究
- 采用电化学和光电化学的方法研究了钨酸钠对黄铜在含硼砂硼酸缓冲溶液的模拟水中的缓蚀作用。结果表明,在硼砂缓冲溶液和模拟水体系中钨酸钠在浓度为25 mg/L时,对黄铜的缓蚀效果最佳,缓蚀剂的缓蚀效率为73.72%。
- 徐群杰徐凯李春香周小金丁斯婧
- 关键词：缓蚀黄铜钨酸钠光电化学电化学
- 文献传递
- 植酸自组装膜对白铜缓蚀作用的光电化学研究被引量：6
- 2009年
- 用动电位伏安法和光电化学方法研究了植酸自组装单分子膜(SAMs)对白铜B30的缓蚀作用.结果表明,植酸分子易在白铜B30表面形成稳定的植酸SAMs,光电化学测试白铜B30表面膜显示p-型光响应,光响应来自电极表面的Cu2O层,植酸SAMs的形成使其光响应明显减弱,有良好的缓蚀效果,这与交流阻抗得到的结论一致,同时微分电容曲线表明植酸SAMs的形成改变了电极双电层结构,使得电容值减小,其缓蚀机理为化学吸附过程.
- 徐群杰万宗跃费琳印仁和周小金
- 关键词：植酸自组装膜光电化学
- 复配聚天冬氨酸对不同条件模拟水中铜的缓蚀作用被引量：13
- 2007年
- 用交流阻抗法和极化曲线法,以模拟水溶液为介质,通过电化学谱图研究了两种环境友好型水处理药剂聚天冬氨酸和钨酸钠的复配对纯铜的缓蚀作用,同时通过改变模拟水介质条件研究复配聚天冬氨酸对铜的缓蚀效果。研究表明,聚天冬氨酸和钨酸钠复配后对模拟水中的铜有明显的缓蚀效果,在缓蚀剂总质量分数为16×10-6,聚天冬氨酸与钨酸钠的质量比为1∶1时,对铜的缓蚀效果最佳,其缓蚀效率为90.50%。当模拟水体系的温度升高、pH增大、氯离子含量增加及硫离子浓度增加时,都会使复配缓蚀剂对铜的缓蚀效果变差。
- 徐群杰金雯静周国定
- 关键词：聚天冬氨酸钨酸钠铜交流阻抗水处理剂
