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山东省自然科学基金(Y2007A05)

作品数:5 被引量:7H指数:2
相关作者:满宝元郭娟王娟陈传松刘爱华更多>>
相关机构:山东师范大学山东轻工业学院更多>>
发文基金:山东省自然科学基金国家自然科学基金更多>>
相关领域:电子电信理学机械工程更多>>

文献类型

  • 5篇中文期刊文章

领域

  • 3篇电子电信
  • 2篇理学
  • 1篇机械工程

主题

  • 2篇激光
  • 2篇光谱
  • 2篇半导体
  • 1篇导体
  • 1篇等离子体
  • 1篇等离子体光谱
  • 1篇调制
  • 1篇原子介质
  • 1篇射线衍射
  • 1篇偶极
  • 1篇偶极相互作用
  • 1篇准分子
  • 1篇准分子激光
  • 1篇自相位调制
  • 1篇显微分析
  • 1篇相位
  • 1篇相位调制
  • 1篇脉冲激光
  • 1篇脉冲激光沉积
  • 1篇脉冲激光沉积...

机构

  • 5篇山东师范大学
  • 1篇山东轻工业学...

作者

  • 4篇满宝元
  • 2篇陈传松
  • 2篇马玉英
  • 2篇王娟
  • 2篇刘爱华
  • 2篇郭娟
  • 1篇冯立兵
  • 1篇宋强
  • 1篇周新玲
  • 1篇戚树明
  • 1篇郭进进
  • 1篇侯娟
  • 1篇马慧
  • 1篇许士才
  • 1篇刘玫
  • 1篇周贤明

传媒

  • 2篇激光杂志
  • 1篇光子学报
  • 1篇功能材料
  • 1篇材料导报

年份

  • 2篇2011
  • 1篇2010
  • 1篇2009
  • 1篇2008
5 条 记 录,以下是 1-5
排序方式:
激光诱导硅等离子体的时间分辨发射光谱分析被引量:4
2009年
文中探测了硅靶在波长为1.064μm、脉宽10ns的脉冲激光辐照下等离子体时间分辨发射光谱,分析了电子温度、电子密度和连续谱的演化。利用能级寿命和连续谱最大强度的出现时间解释了NⅡ399.5nm、SiⅡ385.6nm和SiⅡ386.3nm谱线强度最大值的出现时间。NⅡ399.5nm谱线的寿命比Si II谱线的寿命要短得多,我们认为这和它们的产生过程有关。在1Pa的背景气压下能够探测到Si III和Si IV的光谱线,而在1.01×105Pa时却无法分辨。
王娟陈传松满宝元郭娟周贤明
关键词:激光诱导等离子体等离子体光谱
少周期脉冲激光在稠密的Λ型三能级原子介质中传播时的频谱分析
2011年
利用由预估校正法和时域有限差分法求解全波Maxwell—Bloch方程得到的数值解,研究了超短脉冲激光在稠密的三能级原子系统中的频谱演化规律.研究发现:不管是在稀疏介质中还是在稠密介质中,由于自相位调制作用,频谱均被展宽,而在稠密介质中频谱的宽度要远大于稀疏介质中的情况,这主要是由于近偶极—偶极作用导致的.在稠密介质中,由于近偶极—偶极作用和自相位调制作用,频谱出现高频连续波,可以得到覆盖频率范围为10ωp的超连续谱.
马慧宋强
关键词:自相位调制超连续光谱
ZnO多角晶须的制备及表征被引量:2
2010年
采用脉冲激光沉积技术先在Si(111)衬底上制备Zn薄膜,然后在石英炉中热蒸发金属锌粉的方法制备了ZnO晶须。分别用X射线衍射(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)、透射电子显微镜(TEM)、高分辨透射电子显微镜(HRTEM)和光致发光(PL)谱对样品的结构、成分、形貌和光学特性进行了表征。结果表明,采用此方法得到的ZnO多角晶须为六方纤锌矿结构,其根部直径大约在100~500nm之间,尖部直径大约为40nm左右,长约几个微米。Zn薄膜能够有效地促使晶核的形成与长大从而促进了ZnO晶须的形成。最后,简单讨论了ZnO纳米晶须的生长机制。
冯立兵刘爱华刘玫马玉英满宝元
关键词:ZNO晶须X射线衍射光致发光
准分子激光对半导体材料HgCdTe和Si的损伤实验研究被引量:1
2008年
本文利用光学显微镜和扫描电镜对248nm准分子强激光辐照HgCdTe和Si晶片的表面损伤形貌和损伤过程进行了对比分析,结果表明在248nm准分子激光作用下,HgCdTe材料主要表现为解离剥蚀破坏和熔融烧蚀破坏,准分子激光对其损伤机理既包含光化学作用也包含光热作用;而Si材料则主要表现为熔融烧蚀破坏,准分子激光对其损伤机理主要为光热作用。
戚树明陈传松郭娟周新玲王娟满宝元
关键词:光热作用
脉冲激光沉积法制备β-FeSi_2半导体薄膜
2011年
采用脉冲激光沉积(PLD)法在p型Si(100)衬底上制备了β-FeSi2半导体薄膜,并在沉积系统中进行了800℃、3h的原位高温退火过程,最后采用X射线衍射仪、3D显微镜、原子力电子显微镜、荧光光谱仪分析了实验样品的晶体结构、表面形貌、元素组成、红外吸收和光致发光特性。分析实验结果发现,制备的单相β-FeSi2多晶半导体薄膜结晶质量良好,β-FeSi2在Si(100)衬底上沿(202/220)方向择优生长,且在常温下测得了β-FeSi2半导体薄膜的光致发光谱。
马玉英刘爱华许士才郭进进侯娟满宝元
共1页<1>
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